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ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺
...科技2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续...……更多
近30亿元!ASML明年生产10台高NA EUV光刻机:Intel独吞6台
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,...……更多
成本超过3亿美元 荷兰ASML公司向Intel交付高数值孔径EUV光刻机
2023-12-24 15:41:15 作者:姚立伟近日,荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径(High NA EUV)的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解,每台新机器的成...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
...将扩展至8-9层。对于美光,其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程,ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩,NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停 【光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停】财联社10月10日电,光刻机概念股盘中拉升,张江高科冲击涨停,蓝英装备、波长光电涨超5%,富乐德、京华激光、苏大维格等跟涨。 ……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
光刻机“基石”技术成功突破!我国距摆脱“卡脖子”,还有多远?
...工业制造领域还有什么求而不得的东西,大概就是高端的光刻机了吧。然而好消息是,被称为光刻机“基石”的减振器,近日已被我国工程院院士成功突破,彻底打破了被国外“卡脖子”的局面。据说这套减振器,是中国工程院...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...动作频繁:新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工,光刻胶龙头JSR将被JIC所收购,东芝退市前有诸多本土和外资竞购;同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
不畏霸权,我国或将通过硅光子技术摆脱EUV光刻机,解决芯片难题
一直以来,我国因为没有EUV光刻机,而没办法生产先进的芯片,但是我们并没有坐以待毙,也不会向霸权低头,而是另辟蹊径,用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露,我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机,解...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
旭光电子:公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销售 【旭光电子:公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销...……更多
三星认为High-NA EUV有利于逻辑芯片制造
近日在美国加利福利亚州圣何塞举行的SPIE先进光刻技术会议上,来自光刻生态系统不同部门的专家讨论了Low-NA和High-NAEUV光刻技术的前景,观点从高度乐观到谨慎,特别是High-NAEUV方面,三星表达了担忧。三星负责存储器生产的...……更多
半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%
...司,表示由于原材料和劳动力费用不断上涨,KrF和L系列光刻胶供货价格将上涨10-20%。IT之家注:光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜...……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
月环云阶设计吸睛!vivo X100 Pro图赏
...手上的是星迹蓝版本,以星轨为设计灵感,采用星轨微纳光刻工艺,精度小于1um的光刻,塑造上干条或深或浅的星轨线条。银蓝色调如同太空中闪烁的银河,苍穹隐隐演化的线条,带来极强的视觉冲击力和精致空灵的感受。 ...……更多
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台
...积电和新思科技合作,在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度,并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
徐州:高端制造引领发展 新兴产业赋能未来
...名不显,但徐州博康信息化学品有限公司生产的产品——光刻胶,却是大名鼎鼎,它是芯片制造最核心的原材料之一。这些小瓶子里装的就是光刻胶,芯片制造时把它涂到芯片的原始材料晶圆之上,再用光刻机将电路图案照射上...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
...着各种高精密仪器发出的嗡鸣声,邢艳荣和同事们开始在光刻机上作业。光刻是制造芯片的关键步骤,邢艳荣将硅晶圆放到机器的凹槽内,设备启动后就会按照事先设计好的工艺参数进行光刻。光刻的结果并不会第一时间显现,...……更多
日本半导体产业的行与不行
...的,日本企业在大部分芯片原材料中都有很强的存在感。光刻胶领域:JSR、东京应用化工、信越化学工业、住友化学、富士胶片;电子级硅晶圆领域:信越化学工业、SUMCO;掩光罩领域:大日本印刷、凸版印刷、HOYA;半导体生产...……更多
反击终于有结果了?美国突然宣布“解禁”,外媒:简直可笑
...议。这意味着ASML公司今年将无法继续向中国出售高端DUV光刻机,这无疑是对中国芯片产业的一次重大打击。对此,甚至连外媒都纷纷表示:期待美国解禁华为,简直是一种幻想!尽管我们现在无法再从ASML购买到尖端的DUV光刻机...……更多
华为被动“手脚”光刻机闹剧:自主研发光刻机的可行性与挑战
近期,华为因被动“手脚”光刻机事件而成为舆论焦点。这一事件不仅引发了关于技术自主创新的讨论,更让人们开始审视自主研发光刻机的可行性与挑战。光刻机作为半导体制造的核心设备,其技术难度之高、研发投入之大...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加,这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本,并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
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苹果向投资者发出警告:未来新产品无法达到iPhone的利润水平
快科技11月6日消息,苹果在最新的公告中警告投资者,由于公司逐步进入人工智能(AI)和虚拟现实(VR)设备等尚未充分验证的新兴市场
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快科技11月6日消息,在今日下午举办的小鹏AI科技日上。小鹏汽车董事长何小鹏宣布,小鹏汽车将推出小鹏鲲鹏超级电动体系,用下一代电动技术打造满足全球化用户需求的增程系统
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