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半导体行业新挑战：光刻胶价格上涨 10%-20%
12月14日消息，根据韩媒TheElec报道，日本住友化学子公司东友精密化学（DongwooFine-Chem）通知韩国半导体公司，表示由于原材料和劳动力费用不断上涨，KrF和L系列光刻胶供货价格将上涨10-20%。
IT之家注：光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。
光刻胶是光刻工艺中的关键材料，主要应用于积体电路和分立器件的细微图形加工。
光刻胶品种众多，本次提价涉及的KrF光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。
目前光刻胶市场一直由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等主要制造商主导。
光刻胶行业需要高度专业化，涉及复杂的树脂、感光酸和添加剂配方，每家公司都将其视为商业机密。
巨大的技术壁垒，加上从实验室试验到市场生产对纯度和性能的需求，使得整个产品开发过程既耗时又复杂。
此外，满足客户要求和生产线的调整需要1到3年的验证，让客户难以转移现有合作的光刻胶公司。
面对技术和以客户为中心的挑战，光刻胶公司拥有强大的谈判能力。最近光刻胶价格的上涨引发了韩国半导体行业的明显反应。
晶圆代工厂内部人士评论说：
面对不断上涨的光刻胶价格，晶圆代工厂别无选择，只能将部分成本转嫁给客户（无晶圆厂公司）。
东友精密化学提高光刻胶价格，可能会导致晶圆代工厂和无晶圆厂行业的盈利能力下降。
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快照生成时间：2023-12-14 18:46:30
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