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台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台
在GTC2024大会上，NVIDIA宣布与台积电和新思科技合作，在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度，并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂，而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二者已经将NVIDIAcuLitho加速计算光刻光平台集成到其软件、制造工艺和系统中。
在现代芯片制造过程中，计算光刻是至关重要的一步。它是半导体制造中最苛刻的工作负载之一，需要大规模的数据中心。随着硅小型化演进过程的不断推进，计算需求也随之增加。如果使用CPU来计算，每年需要在计算光刻上消耗数百亿个小时。一个典型的芯片掩模就需要3000万小时或更长时间的CPU计算时间。
借助加速计算技术，350个NVIDIAH100GPU现在可以取代40,000CPU系统，在缩短生产时间的同时降低成本、空间和功耗。NVIDIA的计算光刻平台可以将半导体制造最密集的计算工作负载加速40-60倍。此外，NVIDIA还推出了新的生成式AI算法，进一步增强cuLitho的效率。
黄仁勋表示：“计算光刻是芯片制造的基石。我们与台积电和新思科技合作在cuLitho上工作，应用加速计算和生成式人工智能，为半导体扩展开辟了新的领域。”
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快照生成时间：2024-03-21 17:45:13
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