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光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
随着半导体器件制造商向2纳米工艺过渡的成本不断增加,每片2纳米晶圆的成本已经超过30万元人民币。根据IBS的报告,一家月产能为5万片晶圆的2纳米晶圆厂(WSPM)的建设成本约为280亿美元,而相同容量的3纳米晶圆厂则需要约...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...标志。(法新社)这一新技术运用了佳能公司擅长的喷墨打印机和照相机技术,就像打印机滴墨一样,将极少的树脂滴到半导体晶圆上。类似盖印章的原理,将刻有凹凸电路图案的掩模压印到晶圆上制成电路。据悉在这一过程中...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...财年旗下各大业务对公司的销售贡献比重相差不大,其中打印机类业务均贡献销售收入的56%,图像类业务贡献20%收入,涵盖半导体相关业务的工业类部门业务收入均贡献约8%。相比尼康,佳能在半导体相关业务部分贡献的收入比...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
...产设备。这款设备的独特之处在于,它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示,这套新的生产设备的工作原理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采用光刻技术,而是采用...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
...技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,该公司最新的...……更多
日本半导体产业的行与不行
...技术能力来讲,尼康比佳能强。佳能后来研发了复印机和打印机,成为公司主要盈利产品。尼康主要就是照相机和光刻机。泡沫经济以后,日本生产半导体的综合电机企业都很艰难,日本在世界半导体市场的份额也在不断下降。...……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
...芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供应商就是ASML,EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要,但每台机器的售价高达数亿美元,只有少数公司才有能力购买。为此,从2017年开始...……更多
差距进一步扩大?ASML第三代EUV光刻机交付
...芯片工厂中。据了解,TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机,其配备了0.33数值孔径透镜,相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升,能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面,TWINSCANN...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
...。使用这种技术可以显著降低客户的实际成本,达到传统光刻设备的一半,并且由于纳米压印设备规模较小,在研发等其他用途上也更加方便。当被问及是否存在竞争对手时,岩本和德表示,在面向半导体光刻领域发展纳米压印...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
芯片战场丨英特尔2023年营收542亿美元:PC业务复苏 数据中心下滑
...英特尔开始在俄勒冈州安装业界首个High-NA EUV工具(ASML的光刻机产品),同时在2024年和2025年,产线上将有超过50个测试芯片,其中75%采用Intel 18A支撑。 在代工业务上,英特尔可谓野心勃勃,从目前晶圆代工格局看,英特尔排在...……更多
2022年中国CMP抛光液市场规模现状及行业发展前景预测[图]
...达到晶圆表面的高度(纳米级)平坦化效应,使下一步的光刻工艺得以进行。CMP抛光材料按照类别的不同可以分为抛光液,抛光垫,调节器,清洁剂等。其中占比最大的是抛光液,而在抛光研磨中用到的另一种关键耗材则是抛光...……更多
1月1日晚,荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
三星正在讨论为高通和lsi部门生产原型产品
...替Exynos2400,但不太可能使用2nm工艺进行量产,因为这种光刻技术预计要到2026年才会投入使用。IT之家此前援引ETNews报道,高通公司已要求三星和台积电提供2nm样品,但这项技术可能会用于未来的骁龙8Gen5,而不是即将推出的骁龙...……更多
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台
...积电和新思科技合作,在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度,并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
纳米压印概念股集体冲高,歌尔股份市值626.96亿元居首
...微纳加工技术,采用传统机械模具微复型原理。纳米压印光刻造芯片通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上,脱模后得到一颗芯片。数据宝梳理,A股市场中,布局纳米压印相关业务的个股约有10只。歌尔股份市值居...……更多
普通芯片背后的惊天秘密!
...污染物,得到光滑的晶圆表面。 接下来,晶圆需要进行光刻和蚀刻的过程。在光刻过程中,利用特殊涂料和光刻机将设计好的电路图案投射到晶圆上。然后,利用化学蚀刻的方法将未被曝光的区域去除,保留下电路图案形成的...……更多
嘉华龙马:ICPrint成功案例——宁波市集成电路产业龙头
...、MEMS传感器特种工艺半导体领域,采用专业化特种工艺晶圆制造代工(Foundry),目标市场涵盖5G通信与移动终端、智能家电与工业控制、工业物联网与医疗电子等多个战略性新兴产业,致力于在专注领域发展成为中国最大、具...……更多
张江集团:作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子成功研制出28纳米光刻机
...号在12月19日的推文中提及:上海微电子成功研制出28纳米光刻机。此外文章也肯定了中芯国际、华虹半导体等在先进模拟芯片代工方面不断注入的强劲能量。文章提到,围绕数据前沿技术、算力算法、数据服务、具身智能等领域...……更多
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移
...移,这是最重要的半导体制造工艺。据佳能介绍,传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上,而新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点,就像邮票一样。由于其电路图案转移过程不...……更多
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