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佳能发布新型芯片生产设备
10月16日消息，近日，全球知名的光学和成像产品制造商佳能公司宣布，他们已经开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。这款设备的独特之处在于，它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案，可以制造出5纳米的芯片。
佳能明确表示，这套新的生产设备的工作原理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采用光刻技术，而是采用了更类似于印刷的技术。这种技术并没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。这套设备可以应用于最小14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产出相当于5nm工艺的芯片。
据了解，纳米印刷(Nanoprintedlithography)通常被认为是光学光刻的低成本替代品。在过去，SK海力士和铠侠等存储芯片制造商曾尝试过使用这种技术。然而，铠侠在进行了一系列的测试后，却遭到了潜在客户的投诉。这些客户认为，使用纳米印刷技术生产的产品缺陷率较高，因此最后选择放弃了这种技术。然而，佳能的新设备是否能够改变这一现状，我们拭目以待。
佳能公司对这套系统充满信心，并表示他们会继续改进和发展这套系统。他们的目标是，未来这套系统有望能够用于生产2纳米的芯片。
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快照生成时间：2023-10-17 15:45:01
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