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1月1日晚,荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
中国半导体制造设备进口额大涨93%:来自荷兰进口额暴涨超6倍
...较去年同期暴涨了93%至634亿元人民币。就产品类别来看,光刻设备进口额暴涨了近4倍。 就国别来看,来自荷兰的进口额暴涨了超过6倍。预估其中大部分为荷兰光刻机龙头艾ASML的光刻机产品。来自日本的半导体设备进口额成长...……更多
“半导体行业已有积极信号”
1月24日,光刻机巨头ASML(阿斯麦)公布了2023年Q4以及全年的财报。ASML第四季度营收达到72.37亿欧元,毛利率约为51.4%,净利润达20.48亿欧元。第四季度的新增订单金额为91.86亿欧元,其中56亿欧元的增长来自EUV光刻机订单。而从20...……更多
随时可能断供?90%光刻胶都是日本生产,若断供中国该怎么办?
...对于芯片的生产与制造,其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展,禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今,美国的垄断政策不仅没有成功,反倒是影响了自己的本土生产链,拥有光...……更多
光刻机巨头阿斯麦CEO明年2月退休:曾表示孤立中国没有希望
快科技12月1日消息,光刻机巨头ASML宣布,ASML总裁兼CEO皮特·温宁克(Peter Wennink)将于2024年4月24日退休。ASML监事会宣布,拟任命现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·富凯(Christophe Fouquet )担任公司下一任总裁兼CEO。...……更多
ASML两款光刻机出口许可被撤销;比亚迪Q4纯电车销量超特斯拉
热点聚焦两款光刻机出口许可被撤销,ASML:影响了对个别中国客户发运设备荷兰光刻机厂商ASML官网表示,其两款光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对部分中国客户产生影响。此举意味ASML只能向中国出口1980Di产...……更多
ASML官网声明:2050及2100光刻机出口许可证已被部分撤销 【ASML官网声明:2050及2100光刻机出口许可证已被部分撤销】《科创板日报》2日讯,ASML在官网发布声明称,其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销...……更多
​外媒报道:中国AI企业加速转向国产芯片
...限制措施,中国芯片制造商一直在忙着囤积设备,尤其是光刻机。中国对半导体制造产能的积极投资仍是长期趋势。中国制造最先进芯片的努力受制于制裁措施,但中国企业正在努力发展较成熟的技术。中国最大的芯片制造商中...……更多
“美国施压荷兰”,ASML提前取消部分对华光刻机订单
...社1月2日以此为题报道称,应美国拜登政府的要求,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在对华出口禁令生效前数周,取消了部分设备对华发货订单。此前,美国单方面实施对华芯片管制新规,曾引发荷兰议员不满,认为影响该国战略...……更多
半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%
...司,表示由于原材料和劳动力费用不断上涨,KrF和L系列光刻胶供货价格将上涨10-20%。IT之家注:光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜...……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
苏大维格误导投资者 公司及董秘蒋林拟合计被罚250万
...,苏大维格在深交所互动易平台对投资者前期关于“贵司光刻机及相关技术有哪些知名企业在使用”的提问,回复称“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售,并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口;同时,公司向...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...时10年开发出的新技术产品——可用于半导体制造的一种光刻设备——已经正式开售。日本制造企业曾经垄断光刻机市场,但后来被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。上述新设备能否动摇阿斯麦的霸主地位将备受关注。佳能公司18日在横...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加,这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本,并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
差距进一步扩大?ASML第三代EUV光刻机交付
...芯片工厂中。据了解,TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机,其配备了0.33数值孔径透镜,相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升,能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面,TWINSCANN...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...动作频繁:新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工,光刻胶龙头JSR将被JIC所收购,东芝退市前有诸多本土和外资竞购;同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
张江集团:上海微电子成功研制出中国首台28nm光刻机|硅基世界
...钛媒体App编辑拍摄)传闻落地,中国成功研制出首台28nm光刻机。钛媒体App 12月20日消息,据张江集团官方账号“你好张江”于19日披露,作为国内唯—一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子已成功研制出28nm光刻机。此文章还肯...……更多
苏大维格:因光刻机等互动回复构成误导性陈述 公司及董秘遭江苏证监局合计处罚250万元 【苏大维格:因光刻机等互动回复构成误导性陈述 公司及董秘遭江苏证监局合计处罚250万元】财联社12月29日电,苏大维格公告,公司前...……更多
...着各种高精密仪器发出的嗡鸣声,邢艳荣和同事们开始在光刻机上作业。光刻是制造芯片的关键步骤,邢艳荣将硅晶圆放到机器的凹槽内,设备启动后就会按照事先设计好的工艺参数进行光刻。光刻的结果并不会第一时间显现,...……更多
钛媒体科股早知道:MR设备核心光学材料,该材料性能优越可使MR设备大幅减重
...键耗材,全球巨头拟提价10%-20%TrendForce日前在《2023年全球光刻胶市场分析》中指出,随着下游客户库存的持续改善、产能利用率逐步恢复,AI、智能汽车等应用发展,预计半导体行业将在2024年经历复苏;届时半导体光刻胶市场也...……更多
鼎龙股份:布局三大领域光刻胶相关产品收到多项重大项目立项 【鼎龙股份:布局三大领域光刻胶相关产品收到多项重大项目立项】财联社11月9日电,鼎龙股份公告,公司及下属子公司于今年相继收到多项光刻胶相关国家及省...……更多
台积电、新思科技首次采用NVIDIA计算光刻平台
...积电和新思科技合作,在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度,并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂,而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
日本半导体产业的行与不行
...的,日本企业在大部分芯片原材料中都有很强的存在感。光刻胶领域:JSR、东京应用化工、信越化学工业、住友化学、富士胶片;电子级硅晶圆领域:信越化学工业、SUMCO;掩光罩领域:大日本印刷、凸版印刷、HOYA;半导体生产...……更多
国联证券给予上海新阳增持评级,光刻胶、研磨液项目进展顺利
...评级理由主要包括:1)涂料业务行情低迷拖累业绩;2)光刻胶、研磨液项目进展顺利。风险提示:晶圆化学品市场开拓不及预期,光刻胶业务的进展慢于预期,新基地产能建设不达预期。AI点评:上海新阳近一个月获得2份券商...……更多
外交部批美阻止荷兰阿斯麦公司售华光刻机:严重违背国际贸易规则
...ML)1日发布消息称,荷兰政府最近吊销了NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的发货许可证,“此举将对阿斯麦在中国的少数客户产生影响”。美国彭博社2日援引知情人士的消息称,阿斯麦是应美国拜登政府要求,在高端芯片制造设备出...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
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当地时间 6 月 10 号,苹果召开 2024 年苹果全球开发者大会(WWDC,Worldwide Developers Conference)
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美股研究社讯,天眼查知识产权信息显示,近日,小米科技有限责任公司申请注册多枚“小米小折叠”“小米小折”“小米大折叠”“小米大折”商标
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6月11日凌晨,苹果WWDC2024开发者大会如期举行,此次大会一扫过去“平平无奇”的质疑,以震撼性的方式揭开了其AI战略的序幕——AI大模型Apple Intelligence正式亮相
2024-06-11 17:53:00
本文转自:中国新闻网中新网上海6月11日电 (记者 许婧)“同济大学的人才培养有何特色?”“能介绍一下国豪书院吗?”“同济大学今年招生有哪些新政策
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本文转自:中国新闻网中新网北京6月11日电 (记者 孙自法)记者从中国科学院力学研究所获悉,为推动钱学森先生科学精神和思想的传承与发展
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