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新亚强：公司电子级六甲基二硅氮烷可作为增粘剂与光刻胶配套使用于芯片光刻工艺中 【新亚强：公司电子级六甲基二硅氮烷可作为增粘剂与光刻胶配套使用于芯片光刻工艺中】财联社9月7日电，新亚强在互动平台表示，公司...……更多
2023-09-07 11:06:00光刻,六甲,新亚,增粘剂,芯片,工艺
...的打击，也是对ASML的打击，意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机，但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户，而这三家客户当...……更多
2023-01-19 07:00:00中国,纳米,救命,再次,苹果,光刻
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装，实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字，据说是有史以来最先进的半导体制造设备，将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
2024-04-23 10:24:00英特,光刻,英特尔,最先,全球,系统
...全球先进晶圆厂的脖子。原因是只有ASML能够生产EUV光刻机，而要目前的芯片制造流程和工艺下，EUV光刻机是制造7nm及以下芯片必不可少的机器，没有替代品。所以我们看到三星、台积电在争抢EUV光刻机，因为EUV光刻机...……更多
2022-12-15 02:02光刻,芯片,压力,制造,全球
...科技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
...去两年，伴随芯片的短缺、对华禁令等一系列重大事件，光刻机从一种不为人知的先进制造设备，一跃成为了大众的新闻热点。在这当中，荷兰光刻机厂商 ASML 几乎是绕不开的存在。原因并不复杂，因为 ASML 是全球唯一一家有能...……更多
2023-04-19 17:38:00一世,英特,英特尔,光刻,需求,英伟
在当今科技快速发展的时代，随着工艺的不断进步，光刻技术一直是半导体行业的核心。传统的光刻机由于其成像分辨率有限，已经无法满足高性能芯片的制造需求。令人振奋的消息是，清华大学的科研团队成功地开发出了一...……更多
2023-08-24 11:56:00元成,光刻,清华大学,清华,芯片,突破
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电，清溢光电接受机构调研时表示，半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现180nm工艺节...……更多
2023-10-18 21:07:00电子束,光刻,佛山,生产基地,光电,基地
...。工厂停产的代价蔓延至下游，就是汽车缺芯、晶圆厂缺光刻胶。所以业内一直有这样的说法，地震是半导体产业最大的不确定性。这种不确定性在福岛地震之后三个月显现，占据全球光刻胶市场份额超两成的信越化学向中国大...……更多
2023-08-21 16:47:00光刻,路线图,路线,国产,光刻,半导体
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...本源电子研发的无损探针电学测量平台被誉为光子芯片的光刻机，这意味着中国在光子芯片生产的产业链上也已获得了重大突破，确保光子芯片生产的设备完全采用国产设备，避免再次受制于海外。中国确保光子芯片生产在设备...……更多
2023-01-23 10:00:00光子,产业链,中国,芯片,准备,产业
...，开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
2023-10-14 19:39:00佳能,光刻,生产设备,芯片,方案,生产
2023-12-24 15:41:15 作者：姚立伟近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径（High NA EUV）的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解，每台新机器的成...……更多
2023-12-24 17:02:00光刻,孔径,荷兰,数值,成本,公司
一直以来，我国因为没有EUV光刻机，而没办法生产先进的芯片，但是我们并没有坐以待毙，也不会向霸权低头，而是另辟蹊径，用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露，我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机，解...……更多
2024-01-25 10:29:00光刻,光子,霸权,难题,芯片,我国
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今...……更多
2023-09-13 17:04:00光刻,下一代,瓶颈,技术,光刻,纳米
...积电和新思科技合作，在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度，并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂，而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
2024-03-21 16:44:00光刻,平台,科技,光刻,芯片,制造
...商如果想要研发全新的制程工艺，那么就需要更加先进的光刻机，而现在最为先进的EUV光刻机几乎都被ASML所垄断，而现在有消息称ASML计划在年底出货最新一代的光刻机，产能大幅提升，可以为今后的2nm工艺制程做准备。作为目...……更多
2023-07-05 20:00:00光刻,新一代,售价,将于,工艺,光刻
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加，这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本，并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
2023-12-23 21:02:00光刻,打印机,晶圆,成本,芯片,纳米
9月6日，光刻胶板块震荡拉升，广信材料（300537.SZ）率先封住涨停板。截至当日中午收盘，广信材料、扬帆新材（300637.SZ）收获20CM涨停，盛剑环境（603324.SH）、张江高科（600895.SH）收获10CM涨停，同益股份（300538.SZ）涨9.49%。消...……更多
2023-09-06 14:29:00光刻,中国,产业,市场,光刻,晶圆
...当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步，光刻机的功耗也越来越高，据悉为了满足如此先进的制程工艺，ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺
一种新的光刻机技术或将取代EUV光刻机，这是真的吗？提到光刻机，大家首先想到的就是ASML的EUV光刻机了，也是目前世界上最先进的光刻机，其价格昂贵、交付周期长、维护成本高，总之技术难度很大，也正因为如此，ASML拥有...……更多
2023-09-18 10:30:00压印,佳能,光刻,力士,纳米,测试
近日在美国加利福利亚州圣何塞举行的SPIE先进光刻技术会议上，来自光刻生态系统不同部门的专家讨论了Low-NA和High-NAEUV光刻技术的前景，观点从高度乐观到谨慎，特别是High-NAEUV方面，三星表达了担忧。三星负责存储器生产的...……更多
2024-03-12 15:16:00三星,有利,芯片,逻辑,制造,光刻
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
...每经记者：朱成祥每经编辑：陈俊杰近期，资本市场对于光刻机的关注持续火热。此前受益于“光刻机”概念，张江高科（600895.SH，股价23.61元，市值365.65亿元）等多股连续上涨。9月14日，随着苏大维格在互动易回复光刻机相关...……更多
2023-09-15 13:41:00维格,苏大,压印,光刻,纳米,实验室
...了，Intel4会在下半年的14代酷睿上首发，还会首次用上EUV光刻工艺。Intel3是Intel4的改良版，Intel20A及之后的18A则是重大升级，相当于友商的2nm、1.8nm节点，将在2024年上半年及下半年量产，2025年将重新夺回半导体工艺的领导地位。...……更多
2023-02-11 21:32:00摩尔,定律,冲击,工艺,工艺,光刻
...）、苏大维格（300331.SZ）等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
...大芯片，良率会暴跌至30%。而且根据业内人士透露，由于光刻掩膜版的尺寸限制，其实单个芯片的面积一般不超过800mm2，所以英伟达的AI芯片其实已经逼近面积上限。当推动先进芯片进步的方法，都开始遭受前所未有的挑战，行...……更多
2023-09-18 14:41:00光刻,芯片,国产,突破,封装,芯片
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA（高数值孔径）EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块，代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日，ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章，对...……更多
2024-01-28 22:23:00光刻,直达,分辨率,全球,光刻,芯片
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