苏大维格连续大涨，“纳米压印”能否替代传统光刻？实验室已实现10+nm

每经记者：朱成祥每经编辑：陈俊杰

近期，资本市场对于光刻机的关注持续火热。此前受益于“光刻机”概念，张江高科（600895.SH，股价23.61元，市值365.65亿元）等多股连续上涨。

9月14日，随着苏大维格在互动易回复光刻机相关问题，“纳米压印”概念迅速火热。午后，苏大维格股价迅速拉升，并实现20%涨停。

彼时，苏大维格表示：“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向国内相关芯片光刻机厂商提供了定位光栅尺部件。”

据苏大维格在互动易所述，其光刻机产品为激光直写光刻机。对于该类型光刻机的用途，《每日经济新闻》记者9月15日咨询了与非网副主编夏珍，其表示：“据我所知，激光直写光刻机是用于掩膜版的制造，替代传统的铬玻璃掩膜版，具有灵活性高的特点，与平常我们所说的光刻机不是一回事儿。”

9月15日早间，苏大维格便收到深交所关注函。不过，截至午间收盘，苏大维格报37.47元/股，上涨13.13%。

此光刻机非彼光刻机

传统光刻机包括EUV（极紫外）光刻机、DUV（深紫外）光刻机。此外，更早也有i线和g线光刻机。上述均属于较为先进的半导体光刻机。除了半导体用，光刻机也用于面板、PCB（印刷电路板）的制造中。

自苏大维格称已实现向国内龙头芯片企业的销售后，有投资者也追问：“公司光刻设备对比全世界同行业处于什么阶段？未来有没有和国内同行合作研发制造光刻机计划？”

对此，苏大维格解释：“在大类上，光刻机主要有两种类型。第一类是掩膜光刻机，如ASML的EUV设备，好比‘复印机’，把掩膜上的图形投射到硅片上，可用于各类芯片的批量生产，这类光刻机技术工艺和材料难度极高；第二类是无掩膜光刻机，也称直写光刻机，包括激光直写光刻机和电子束光刻机等，用于直接将数据转变成相关图形，好比‘打印机’，可用于芯片/液晶掩膜、光模具及其他微结构的制备。”

关注函中，深交所也要求苏大维格结合不同类型光刻设备的技术路线的差异，补充披露公司所生产光刻设备的具体类型、主要客户及下游用途、以及最近一年一期境内外销售情况，并核实说明公司光刻设备是否能够直接用于芯片研发及制造、主要技术参数是否与业内龙头厂商存在较大差距，并进一步提示相关风险。

在上述投资者关系平台回复中，苏大维格曾表示：“目前，公司对外销售的光刻机主要为激光直写光刻机，其中在科研教育领域具有一定的知名度和市场占有率，在其他行业和领域已实现的销售金额相对较小，部分应用领域离国际先进水平具有一定差距，需要持续的研发投入。”

“纳米压印”能否替代传统光刻？

除了光刻机的销售信息，苏大维格9月14日还提及“纳米压印”技术。在回复“纳米压印技术有没有替代EUV光刻机的可能性”时，苏大维格称：“根据相关资讯，佳能等国际厂商拟试图通过纳米压印技术在部分集成电路领域替代EUV光刻设备实现更低成本的芯片量产。”

此外，苏大维格也表示：“纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小。”

也就是说，苏大维格对外销售的光刻机主要是直写光刻机，纳米压印主要是自用。

那么，苏大维格自身拥有“纳米压印”技术吗？深交所要求其说明：“你公司纳米压印技术的具体用途、研发情况，以及在集成电路领域的布局情况，并充分提示相关风险。”

关于纳米压印技术能否替代EUV光刻机，夏珍向记者解释：“纳米压印可潜在替代EUV、DUV。当DUV（技术）再往下走，日本厂商并没有选择EUV，而是采用了‘纳米压印’（Nanoimprint Lithography，NIL）技术，来开发新一代的设备。纳米压印技术和现在市场上的光刻技术有所不同。基于光学的曝光机，也就是我们常说的光刻机，从Reticle（掩膜版）到晶圆是4：1的缩小比例，而纳米压印技术下的Reticle选用特殊加工方法，从Reticle到晶圆是等比例的。这意味着只要Reticle能做到5nm，就能压印出5nm的东西。”

夏珍补充表示：“此外，采用纳米压印技术的成本较低，低成本主要体现在两个方面，一是设备本身的成本低，二是在使用的过程中用电量低。”

那么，纳米压印技术目前进展如何呢？夏珍介绍：“目前基于纳米压印技术的设备还没量产，处于量产评价阶段，但从实验室的角度来看，已经实现了10+nm，未来将进一步拓展至5nm。”