EUV光刻机不香了？佳能造出纳米压印设备，SK海力士已经开始测试

一种新的光刻机技术或将取代EUV光刻机，这是真的吗？

提到光刻机，大家首先想到的就是ASML的EUV光刻机了，也是目前世界上最先进的光刻机，其价格昂贵、交付周期长、维护成本高，总之技术难度很大，也正因为如此，ASML拥有极强的话语权，想买都不一定买的到。所以，很多国家也在寻求新的技术路线，以打破ASML在先进半导体制造设备方面的垄断。那么新兴的纳米压印技术开始涌现出来，它也被很多人认为是最有可能替代EUV的新一代光刻技术。

所谓的纳米压印技术，是一种新型的微纳加工技术。它是将设计并制作在模板上的微小图形，通过压印等技术方式，转移到涂有高分子材料的硅基板上。纳米压印的分辨率由所用印模板图形的大小决定，物理上没有光刻中的衍射限制，可以实现纳米级线宽的图形。

说的直白点，纳米压印技术就跟盖章差不多，先刻好图案，只不过这个图案是栅极长度只有几纳米的电路图，把它刻在掩膜上，然后盖在晶圆上涂覆的刻胶上，再让图形固化，最终完成雕刻过程。

那么这种技术与传统的光刻技术相比，优势非常明显。

例如光刻机的分辨率由光源波长决定的，现在发展到了极紫外光的13.5nm， 这就已经极其困难了，也导致了光刻机的成本极高。

而纳米压印技术就完全没有这方面的限制，模板是什么分辨率，做出来的就是什么分辨率，简单粗暴。而且一旦在掩膜版上做好图片，还能重复使用。同时，纳米压印技术也不需要复杂的光源。这都决定了与光刻机相比，有着巨大的成本优势。例如，据称纳米压印技术能降低40%制造成本，并使耗电量减少90%。

那么在这个领域，日本走在了世界的前列。

2009年，美国的一家公司开始纳米压印技术的研发，曾计划用来制造32nm工艺的芯片，但因为技术问题，未能取得突破。到了2014年，佳能收购了这家公司，随后还和东芝一起合作，开始研发纳米压印技术。

此前，佳能已经在纳米压印技术布局多年，东芝也想利用纳米压印技术制造NAND闪存芯片，所以这也成了两家公司努力的方向。

近日，有消息称，韩国的SK海力士从佳能引进了纳米压印设备，计划在2025年前后，开始量产3D NAND闪存，并在测试结果很好。

据称佳能纳米压印设备的技术指标不错，套刻精度达到了2.4nm/3.2nm，每小时可制造100片以上晶圆，基本达到了3D NAND大规模生产的水平。

可见，佳能已经在纳米压印领域占得了先机。

鉴于我国在半导体制造领域吃过的亏，相信在纳米压印领域，我们一定会投入一定的研发力量，紧跟日本的步伐。所以，目前已经有不少国内企业开始涉足该技术领域。

例如，近日，苏大维格公开表示：纳米压印光刻领域，公司设备主要为自用，对外销售金额与直写光刻机相比较小。公司已关注到纳米压印光刻在集成电路和芯片制造领域具备替代传统光刻的应用潜力，并在积极布局。也就是说，苏大维格已经有了纳米压印技术的积累，这是一个振奋人心的好消息，意味着我国在这一新兴技术领域，并非空白。

苏大维格是国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商，其自主研发的激光直写光刻机，已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口，具备很强的技术实力。

除此之外，还有美迪凯、炬光科技、创汇达、歌尔股份等多家企业，也开始涉足纳米压印技术的研发。

从整体来看，虽然日本已经取得了一定的成绩，但纳米压印技术尚处于产业化初期阶段。有专家表示，目前基于纳米压印技术的设备还没量产，处于量产评价阶段，在实验室实现了10+nm，未来有望拓展至5nm。佳能也表示，希望在2025年实现5nm工艺。但不管怎样，纳米压印技术离真正的商业化还有一段时间，这也给了我们机会。只要能加大研发投入，相信以中国人的智慧，一定能够取得突破，在纳米压印技术方面达到世界先进水平。