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晶圆代工厂商如果想要研发全新的制程工艺,那么就需要更加先进的光刻机,而现在最为先进的EUV光刻机几乎都被ASML所垄断,而现在有消息称ASML计划在年底出货最新一代的光刻机,产能大幅提升,可以为今后的2nm工艺制程做准备。
作为目前EUV光刻机领域的绝对领导者,ASML的EUV光刻机也经过了多次迭代,让能效以及产能大幅提升,目前ASML出货的最新光刻机为NXE:3600D,而下半年将要出货的是NXE:3800E光刻机,与目前的光刻机相比,NXE:3800E光刻机的曝光能力达到了30mJ/cm2,这个性能水平相当于每小时能够制造195片晶圆,经过优化后产能可以达到220片晶圆,与目前的光刻机相比提升了30%,很显然产能的提升也将减缓现在高端芯片产能供应不足的局面。
至于价格的话,属于行业机密了,不过有报道称NXE:3600D光刻机的售价超过了1.5亿美元,也就是10亿元人民币,那么更加先进的NXE:3800E光刻机应该来说只会更加昂贵,毕竟现在整个市场就是ASML说了算,而且光刻机也是供不应求,包括三星、英特尔以及台积电都将选用ASML的最新一代的光刻机,如果下半年顺利交付的话,加上调试、安装等时间,预计三星可以在明年将这款光刻机用于2nm制程晶圆的生产之中。返回搜狐,查看更多
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快照生成时间:2023-07-06 00:45:08
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