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Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多
2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程
...这次AI芯片的缺货潮使得先进封装技术代表之一的CoWoS，第一次走到了聚光灯下，以前这一冷门的名词，变得家喻户晓；业内甚至夸张到可以直接通过跟踪先进封装CoWoS的产能，来预判英伟达的下个季度的业绩，然后在英伟达的财...……更多
2023-09-18 14:41:00光刻,芯片,国产,突破,封装,芯片
9月6日，光刻胶板块震荡拉升，广信材料（300537.SZ）率先封住涨停板。截至当日中午收盘，广信材料、扬帆新材（300637.SZ）收获20CM涨停，盛剑环境（603324.SH）、张江高科（600895.SH）收获10CM涨停，同益股份（300538.SZ）涨9.49%。消...……更多
2023-09-06 14:29:00光刻,中国,产业,市场,光刻,晶圆
...当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步，光刻机的功耗也越来越高，据悉为了满足如此先进的制程工艺，ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺
...去两年，伴随芯片的短缺、对华禁令等一系列重大事件，光刻机从一种不为人知的先进制造设备，一跃成为了大众的新闻热点。在这当中，荷兰光刻机厂商 ASML 几乎是绕不开的存在。原因并不复杂，因为 ASML 是全球唯一一家有能...……更多
2023-04-19 17:38:00一世,英特,英特尔,光刻,需求,英伟
...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
...。工厂停产的代价蔓延至下游，就是汽车缺芯、晶圆厂缺光刻胶。所以业内一直有这样的说法，地震是半导体产业最大的不确定性。这种不确定性在福岛地震之后三个月显现，占据全球光刻胶市场份额超两成的信越化学向中国大...……更多
2023-08-21 16:47:00光刻,路线图,路线,国产,光刻,半导体
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
...商如果想要研发全新的制程工艺，那么就需要更加先进的光刻机，而现在最为先进的EUV光刻机几乎都被ASML所垄断，而现在有消息称ASML计划在年底出货最新一代的光刻机，产能大幅提升，可以为今后的2nm工艺制程做准备。作为目...……更多
2023-07-05 20:00:00光刻,新一代,售价,将于,工艺,光刻
...今天，这一工作突然被一些自媒体炒作为中国将建立起EUV光刻机工厂。但是，独立制造一台光刻机，能有这么快吗？
撰文 | 汪诘最近这一周，一则科技新闻在网上风传，消息说中国科学家发现了一种新的产生极深紫外光源的原...……更多
2023-09-19 10:01:00光刻,中国,生产,光刻,就是,阿斯
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今...……更多
2023-09-13 17:04:00光刻,下一代,瓶颈,技术,光刻,纳米
...府会给予接近一半的补贴。（来源：台积电）虽然日本在光刻胶等领域处于国际领先地位，但论及半导体制造能力并不突出。时至今日，日本本土最多只能生产40nm区间的芯片，显然无法满足AI时代对先进半导体的需求。正在建设...……更多
2023-10-13 11:46:00制程,日本,水面,规模,先进,工艺
...）、苏大维格（300331.SZ）等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...。通过与创新企业持续进行联合研发，光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺技术不断攻克，平台软硬件建设不断完善，未来平台将持续助力光子产业链上下游企业聚集。湿法设备。先进光子器件工程创新平台供图...……更多
2023-01-12 14:09:00光子,陕西,器件,先进,工程,平台
...00英里的速度穿过真空。 然后以激光照射那颗锡球两次，第一次是加热它，第二次是以太阳表面温度好几倍的高温把它轰击成电浆体。这种轰击锡滴的过程，每秒重复5万次，就能产生制造芯片所需的EUV量。再看镜头，起初莱思...……更多
2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片
日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
![2022年中国CMP抛光液市场规模现状及行业发展前景预测[图]](https://img.fyun.cc/newsimg/707/394/f4b202dda3b76bb1e0d7e06982ca2de49f6d027e.png)
...达到晶圆表面的高度（纳米级）平坦化效应，使下一步的光刻工艺得以进行。CMP抛光材料按照类别的不同可以分为抛光液，抛光垫，调节器，清洁剂等。其中占比最大的是抛光液，而在抛光研磨中用到的另一种关键耗材则是抛光...……更多
2023-01-06 06:00:00发展前景,抛光,中国,前景,现状,规模
...赚”时代就被彻底打破了，而自诩为科技霸主的美国，也第一次深刻感受到了来自东方大国的竞争压力。按照正常逻辑，美国若想夺回通信话语权，就该加大研发投入，在核心技术方面与我们“真刀真枪”的较量。可它却不讲武...……更多
2024-01-12 15:03:00中美,人民日报,幻想,日报,人民,华为
...将扩展至8-9层。对于美光，其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程，ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩，NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
2024-02-03 21:24:00光刻,节点,三星,世代,工艺,进一
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多
2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁
...芯片也面临着CPU/GPU一样的微缩难题，解决办法就是上EUV光刻机，但是设备实在太贵，现在还要榨干DUV工艺最后一滴，DDR5内存有望实现单条1TB。作为第一家推出24Gb核心DDR5的内存公司，美光日前又创造了一个新纪录——推出了32Gb...……更多
2023-08-02 21:58:00光刻,狂飙,内存,疯狂,内存,核心
...降低功耗的道路上，3条创新路径的重要性愈发凸显：1、光刻、材料与器件架构：引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步；新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术
...上宣布了一则重要消息，该公司已于近日开始采用极紫外光刻（EUV）技术大规模量产Intel4制程节点。这一里程碑式的进展标志着英特尔在推进“四年五个制程节点”计划方面取得了重要成果，并将用于新一代的领先产品。英特尔...……更多
2023-10-15 22:19:00英特,大规,英特尔,制程,节点,大规模
...先进的芯片制造设备，名为高数值孔径极紫外 (high NA EUV) 光刻机。英特尔表示，这种设备可以简化设计流程，从而缩短芯片的制造时间。【来源：IT之家】返回搜狐，查看更多责任编辑： ……更多
2024-04-23 17:00:00美国国防部,英特,国防部,英特尔,美国,芯片
...已现，下游行情待复苏，将推动半导体新一轮周期开始。光刻胶板块走势强劲，其中，容大感光（300576.SZ）涨20%，波长光电（301421.SZ）涨14.17%，南大光电（300346.SZ）涨7.43%，华创证券认为，光刻是半导体加工中最重要的工艺之一...……更多
2023-08-31 17:19:00半导体,强势,板块,指数,调整,三大
...lk micromachining2.Surface micromachiningBulk Micromachining是一种通过光刻/蚀刻等步骤在材料内部生成结构的方法，其典型代表为SOI制程，它的好处是，MEMS的材料性质与结构尺寸主要由使用的晶圆材料构成，因此拥有较低的原生应力（intr……更多
2023-12-19 14:00:00耐久性,质量,应力,制程,模态,芯片
...。此外，也不清楚台积电是否会在A14工艺上启用High-NA EUV光刻机，但这种新设备的引入可能会为芯片设计人员和制造商带来一些新的挑战。与三星的技术路线图相似，台积电计划在2027年推出SF1.4工艺（即1.4nm级别），纳米片的数...……更多
2023-12-15 10:02:00工艺,工艺,技术,三星,晶体管,制程
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