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...比，明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
光刻机作为集成电路生产中不可或缺的重要设备之一，一直以来都决定了先进制程的发展速度，而阿斯麦(ASML)是欧洲最大的技术公司，主导着光刻市场。近期，光刻巨头荷兰半导体设备公司阿斯麦首席执行官Peter Wennink表示，今...……更多
2023-09-13 17:04:00光刻,下一代,瓶颈,技术,光刻,纳米
日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
...当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步，光刻机的功耗也越来越高，据悉为了满足如此先进的制程工艺，ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺
Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多
2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程
...。工厂停产的代价蔓延至下游，就是汽车缺芯、晶圆厂缺光刻胶。所以业内一直有这样的说法，地震是半导体产业最大的不确定性。这种不确定性在福岛地震之后三个月显现，占据全球光刻胶市场份额超两成的信越化学向中国大...……更多
2023-08-21 16:47:00光刻,路线图,路线,国产,光刻,半导体
9月6日，光刻胶板块震荡拉升，广信材料（300537.SZ）率先封住涨停板。截至当日中午收盘，广信材料、扬帆新材（300637.SZ）收获20CM涨停，盛剑环境（603324.SH）、张江高科（600895.SH）收获10CM涨停，同益股份（300538.SZ）涨9.49%。消...……更多
2023-09-06 14:29:00光刻,中国,产业,市场,光刻,晶圆
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多
2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁
...据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值...……更多
2024-06-07 09:22:00光刻,将于,光刻,德音,英特,制程
... 5 日消息，ASML 已经向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机并完成安装，英特尔院士马克・菲利普斯（Mark Phillips）确认这台机器将于年内正式启用。与之形成鲜明对比的是，全世界最大的芯片代工巨头台积电则似乎并不急...……更多
2024-06-06 09:11:00光刻,价值,光刻,英特,英特尔,孔径
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...，台积电最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。对此，台积电海外营运资深副总经理暨副共同营运长张晓强表示，仍在评估 High NA EUV 应用于未来制程节点的成本效益与可扩展性，目前采用时间未定。▲ASML EXE:5...……更多
2024-08-01 09:48:00光刻,评估,时间,光刻,晶圆,英特
...芯片工厂中。据了解，TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机，其配备了0.33数值孔径透镜，相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升，能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面，TWINSCANN...……更多
2024-03-25 01:43:00进一,三代,光刻,差距,晶圆,芯片
...去两年，伴随芯片的短缺、对华禁令等一系列重大事件，光刻机从一种不为人知的先进制造设备，一跃成为了大众的新闻热点。在这当中，荷兰光刻机厂商 ASML 几乎是绕不开的存在。原因并不复杂，因为 ASML 是全球唯一一家有能...……更多
2023-04-19 17:38:00一世,英特,英特尔,光刻,需求,英伟
...今天，这一工作突然被一些自媒体炒作为中国将建立起EUV光刻机工厂。但是，独立制造一台光刻机，能有这么快吗？
撰文 | 汪诘最近这一周，一则科技新闻在网上风传，消息说中国科学家发现了一种新的产生极深紫外光源的原...……更多
2023-09-19 10:01:00光刻,中国,生产,光刻,就是,阿斯
1月1日晚，荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT：2050i及NXT：2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
2024-01-03 14:40:00光刻,出口,中国,光刻,出口,晶圆
...上宣布了一则重要消息，该公司已于近日开始采用极紫外光刻（EUV）技术大规模量产Intel4制程节点。这一里程碑式的进展标志着英特尔在推进“四年五个制程节点”计划方面取得了重要成果，并将用于新一代的领先产品。英特尔...……更多
2023-10-15 22:19:00英特,大规,英特尔,制程,节点,大规模
...大芯片，良率会暴跌至30%。而且根据业内人士透露，由于光刻掩膜版的尺寸限制，其实单个芯片的面积一般不超过800mm2，所以英伟达的AI芯片其实已经逼近面积上限。当推动先进芯片进步的方法，都开始遭受前所未有的挑战，行...……更多
2023-09-18 14:41:00光刻,芯片,国产,突破,封装,芯片
...商如果想要研发全新的制程工艺，那么就需要更加先进的光刻机，而现在最为先进的EUV光刻机几乎都被ASML所垄断，而现在有消息称ASML计划在年底出货最新一代的光刻机，产能大幅提升，可以为今后的2nm工艺制程做准备。作为目...……更多
2023-07-05 20:00:00光刻,新一代,售价,将于,工艺,光刻
一直以来，我国因为没有EUV光刻机，而没办法生产先进的芯片，但是我们并没有坐以待毙，也不会向霸权低头，而是另辟蹊径，用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露，我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机，解...……更多
2024-01-25 10:29:00光刻,光子,霸权,难题,芯片,我国
...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
...特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径（High NA）EUV 光刻机的安装，而这台耗资约 3.5 亿美元（IT之家备注：当前约 25.23 亿元人民币）的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示，ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV ...……更多
2024-05-08 09:45:00英特,光刻,英特尔,孔径,数值,英特
...前几名的芯片企业中，会有一家或者多家中国企业。不是光刻机被限制了吗？中国芯片企业还能有未来？要知道，EUV光刻机本来就是个偶然。在ASML研发出EUV光刻机之前，光刻机市场以佳能和尼康为主，只不过在赌未来的研发方...……更多
2023-01-18 10:00:00碳化硅,领域,三安,芯片,公司,碳化硅
...已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的必...……更多
2024-08-07 09:33:00二台,光刻,价值,全球,二台,俄勒冈州
...降低功耗的道路上，3条创新路径的重要性愈发凸显：1、光刻、材料与器件架构：引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步；新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术
...方消息，7 月 22 日，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业的竞争力。晶合集成表示，光刻掩模版成功亮相，标志着该公司在晶圆代工领域成为台积...……更多
2024-07-25 09:39:00合集,光刻,安徽,模版,成功,合集
1月24日，光刻机巨头ASML（阿斯麦）公布了2023年Q4以及全年的财报。ASML第四季度营收达到72.37亿欧元，毛利率约为51.4%，净利润达20.48亿欧元。第四季度的新增订单金额为91.86亿欧元，其中56亿欧元的增长来自EUV光刻机订单。而从20...……更多
2024-01-25 17:32:00半导体,信号,行业,中国,市场,光刻
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