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...将扩展至8-9层。对于美光,其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程,ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩,NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层
...比,明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外(EUV)光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV,从那时起,随着迁移到5nm,再到3nm,三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
三星表示,将成功实现2纳米节点,或提升芯片性能和功耗
...艺节点的关键在于克服了多项技术难题,包括材料选择、光刻技术以及电子束曝光技术的全面升级等。这项突破将使得芯片制造商能够在同样大小的芯片上装载更多的晶体管,从而提升芯片的性能和功耗控制能力。 除了提升芯...……更多
首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”
从0到1,国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺
...科技2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
三星正在讨论为高通和lsi部门生产原型产品
...替Exynos2400,但不太可能使用2nm工艺进行量产,因为这种光刻技术预计要到2026年才会投入使用。IT之家此前援引ETNews报道,高通公司已要求三星和台积电提供2nm样品,但这项技术可能会用于未来的骁龙8Gen5,而不是即将推出的骁龙...……更多
英特尔3nm,加入战局
...量产。Intel 4 工艺将带来20% 的每瓦性能提升,并采用 EUV 光刻技术以获得更好的良率和密度。他进一步指出。英特尔还准备在 2023 年底推出其 3nm 等效工艺节点。这些晶圆专为服务器级至强芯片设计。第 5 代 Xeon Emerald Rapids-SP 将...……更多
中国不买了,三大光刻机企业都降低预期,后悔莫及
日前全球三大光刻机企业ASML、尼康、佳能都发布了业绩无法达到年初预计的目标,原因就在于中国在减少采购光刻机,凸显出中国市场对全球芯片设备市场的巨大影响力。全球最大的光刻机企业ASML最为悲观,ASML的新增订单环...……更多
韩国顺从导致光刻机蒙尘,日本却大赚特赚,反省后计划卖给中国
在之前的日子里,日本大举对中国出售二手光刻机等设备而赚取了大量金钱,韩国却顺从了美国的要求,导致诸多二手光刻机等设备蒙尘,近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数...……更多
砸下8400亿元后,三星先被自己人背刺
...是,2018年,当台积电每月投放6万片晶圆用于EUV(极紫外光刻)的试生产时,三星仍然忙着对基于DUV技术的10nm工艺制程修修补补。最终的结果是,当台积电完成5nm工艺的量产后,三星还没有实现等效工艺的流片。这直接导致来自...……更多
台积电1.4nm正式现身!A14工艺已研发完成
...。此外,也不清楚台积电是否会在A14工艺上启用High-NA EUV光刻机,但这种新设备的引入可能会为芯片设计人员和制造商带来一些新的挑战。与三星的技术路线图相似,台积电计划在2027年推出SF1.4工艺(即1.4nm级别),纳米片的数...……更多
英特尔重塑代工业务:按期推进4年5个节点计划、公布Intel 14A路线图、2030要成第二大代工厂
... Intel 14A(1.4nm)工艺,这将是业界首个使用 ASML High-NA EUV 光刻工具的工艺节点。事实上,英特尔是业内首家获得尖端 High-NA 工具的公司,而台积电(TSMC)据说因成本问题推迟到 2030 年才使用这种生产工具。英特尔没有透露 14A 的...……更多
比 18A 高 15%,英特尔高管透露英特尔 14A 节点性能功耗比信息
...再增加5%。凯莱赫表示,Intel 14A工艺率先使用了High-NA EUV光刻技术,因此晶体管逻辑密度比Intel 18A提高了20%。英特尔公司正在积极推进IDM 2.0战略,并希望在2030年之前超越三星,重新夺回代工行业的领先地位。目前,他们的总订单...……更多
近30亿元!ASML明年生产10台高NA EUV光刻机:Intel独吞6台
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,...……更多
ASML新增订单少一半,EUV光刻机失宠了?
...价,反而想涨价3%-5%。ASML想涨价的原因,也很简单。新增光刻机订单量下滑,储备订单持续减少,为了保证营收和利润,在订单持续减少的情况下,涨价就是最好的办法。要知道,EUV光刻机可是当下最先进的设备之一,只有ASML...……更多
sk海力士、三星电子等公司正在致力于新材料的开发和应用
...1c工艺,约10nm)DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶(MOR),这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。消息人士称,SKHynix量产的1cDRAM上有五个极紫外(EUV)层,其中一层将使用MOR绘制。他还补充说,“不仅SK海力士,三星电子也...……更多
英特尔包圆 ASML 初始产能,获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
...特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径(High NA)EUV 光刻机的安装,而这台耗资约 3.5 亿美元(IT之家备注:当前约 25.23 亿元人民币)的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示,ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV ...……更多
三星认为High-NA EUV有利于逻辑芯片制造
近日在美国加利福利亚州圣何塞举行的SPIE先进光刻技术会议上,来自光刻生态系统不同部门的专家讨论了Low-NA和High-NAEUV光刻技术的前景,观点从高度乐观到谨慎,特别是High-NAEUV方面,三星表达了担忧。三星负责存储器生产的...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
芯片股暴雷!光刻机巨头ASML提前公布三季度财报逊预期,股价创26年来最大跌幅|硅基世界
...由于美荷对华出口管制以及上游需求不振等因素下,芯片光刻机巨头ASML(阿斯麦,NASDAQ: ASML)业绩受到承压,叠加下调2025财年指引还引发了股价暴跌,拖累整个半导体板块和美股市场走弱。钛媒体App 10月16日消息,ASML原定于周...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
维信诺ViP AMOLED量产项目首片模组点亮 助力产业链价值升级
...诺ViP技术向量产实现关键一跃。据公开消息,ViP技术通过光刻实现像素图形化,摆脱了FMM蒸镀技术对产品尺寸、分辨率等的限制,并在中大尺寸应用更关注的亮度、寿命、功耗等性能上有显著提升。ViP技术从底层攻克了限制OLED...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
韩国、荷兰组建“芯片联盟”:阿斯麦与三星将共建芯片研究中心
....04亿欧元),在韩国建立研究中心,利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究超精细芯片制造工艺。这一事件的背景是,尹锡悦从周一起对荷兰进行为期4天的国事访问。根据日程,当地时间周二,尹锡悦将与荷兰国王威廉·亚历山大、三...……更多
产业链已准备好,中国光子芯片量产在即
...本源电子研发的无损探针电学测量平台被誉为光子芯片的光刻机,这意味着中国在光子芯片生产的产业链上也已获得了重大突破,确保光子芯片生产的设备完全采用国产设备,避免再次受制于海外。中国确保光子芯片生产在设备...……更多
光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要,但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题,中国各个机构就一直为此努力,2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题,2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
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