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sk海力士、三星电子等公司正在致力于新材料的开发和应用
类别：科技 发布时间：2024-05-30 08:30:00 来源：浅语科技
5月30日消息，随着DRAM小型化的不断推进，SK海力士、三星电子等公司正在致力于新材料的开发和应用。
据TheElec，SKHynix计划在第6代（1c工艺，约10nm）DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。
消息人士称，SKHynix量产的1cDRAM上有五个极紫外(EUV)层，其中一层将使用MOR绘制。他还补充说，“不仅SK海力士，三星电子也将追求这类无机PR材料。”
查询公开资料获悉，Inpria是日本化学公司JSR的子公司，也是无机光刻胶领域的领导者；而MOR则被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶（CAR）的下一代产品。
此外，该公司自2022年以来就一直与SKHynix合作进行MOR研究。SKHynix此前曾表示，使用Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提高下一代DRAM的性能并降低成本。
TheElec报道还指出，三星电子也在考虑将MOR应用于1cDRAM，目前三星电子在1cDRAM上应用了6至7个EUV层，而美光则只应用了1层。
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快照生成时间：2024-05-30 13:45:03
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