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近30亿元!ASML明年生产10台高NA EUV光刻机:Intel独吞6台
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,...……更多
3+亿美元能造1.8nm!Intel收到全球第一台高NA EUV极紫外光刻机
...厂已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,型号为“Twinscan EXE:5000”,它将帮助Intel继续推进摩尔定律。Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机,将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺,也就是1.8nm...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
成本超过3亿美元 荷兰ASML公司向Intel交付高数值孔径EUV光刻机
2023-12-24 15:41:15 作者:姚立伟近日,荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径(High NA EUV)的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解,每台新机器的成...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺
...科技2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续...……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
...技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,该公司最新的...……更多
“美国施压荷兰”,ASML提前取消部分对华光刻机订单
...社1月2日以此为题报道称,应美国拜登政府的要求,荷兰光刻机巨头阿斯麦(ASML)在对华出口禁令生效前数周,取消了部分设备对华发货订单。此前,美国单方面实施对华芯片管制新规,曾引发荷兰议员不满,认为影响该国战略...……更多
外交部批美阻止荷兰阿斯麦公司售华光刻机:严重违背国际贸易规则
...ML)1日发布消息称,荷兰政府最近吊销了NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的发货许可证,“此举将对阿斯麦在中国的少数客户产生影响”。美国彭博社2日援引知情人士的消息称,阿斯麦是应美国拜登政府要求,在高端芯片制造设备出...……更多
证监会拟对苏大维格及相关人员合计处以250万罚款
...。证监会表示,近日,上市公司苏大维格发布关于公司“光刻机”生产销售的不实信息,导致股价异动,引发市场质疑。我会立即部署,迅速立案,查明事实,严肃惩处,已向上市公司及相关责任人送达了《行政处罚事先告知书...……更多
韩国总统力推“半导体同盟”
...需要通过曝光技术将设计图案蚀刻到芯片上,在这关键的光刻工艺方面,阿斯麦是全球龙头企业。阿斯麦是全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片所需的极紫外EUV光刻机的厂商,因精度达到一根头发丝直径的十万分之七,一台...……更多
日本半导体产业的行与不行
...的,日本企业在大部分芯片原材料中都有很强的存在感。光刻胶领域:JSR、东京应用化工、信越化学工业、住友化学、富士胶片;电子级硅晶圆领域:信越化学工业、SUMCO;掩光罩领域:大日本印刷、凸版印刷、HOYA;半导体生产...……更多
徐州:高端制造引领发展 新兴产业赋能未来
...名不显,但徐州博康信息化学品有限公司生产的产品——光刻胶,却是大名鼎鼎,它是芯片制造最核心的原材料之一。这些小瓶子里装的就是光刻胶,芯片制造时把它涂到芯片的原始材料晶圆之上,再用光刻机将电路图案照射上...……更多
...股份有限公司(以下简称“苏大维格”)发布关于公司“光刻机”生产销售的不实信息,导致股价异动,引发市场质疑。我会立即部署,迅速立案,查明事实,严肃惩处,已向上市公司及相关责任人送达了《行政处罚事先告知书...……更多
光刻机板块异动拉升 福晶科技触及涨停 【光刻机板块异动拉升 福晶科技触及涨停】财联社11月7日电,光刻机板块早盘异动拉升,福晶科技触及涨停,波长光电、上海新阳、茂莱光学、晶方科技等跟涨。消息面上,荷兰光刻机...……更多
张江集团:上海微电子成功研制出中国首台28nm光刻机|硅基世界
...钛媒体App编辑拍摄)传闻落地,中国成功研制出首台28nm光刻机。钛媒体App 12月20日消息,据张江集团官方账号“你好张江”于19日披露,作为国内唯—一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子已成功研制出28nm光刻机。此文章还肯...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
ASML两款光刻机出口许可被撤销;比亚迪Q4纯电车销量超特斯拉
热点聚焦两款光刻机出口许可被撤销,ASML:影响了对个别中国客户发运设备荷兰光刻机厂商ASML官网表示,其两款光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对部分中国客户产生影响。此举意味ASML只能向中国出口1980Di产...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
1月1日晚,荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
光刻机巨头 ASML 核心业务将留在荷兰,拟在埃因德霍芬大举投资
IT之家 4 月 23 日消息,荷兰光刻机制造商 ASML 与埃因德霍芬市政府签署了一份意向书,计划扩大在该市的业务规模。此举可能终结此前有关 ASML 将部分业务迁至海外的猜测。ASML 表示,该公司与埃因德霍芬市达成了一项协议,计...……更多
旭光电子:公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销售 【旭光电子:公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
半导体行业新挑战:光刻胶价格上涨 10%-20%
...司,表示由于原材料和劳动力费用不断上涨,KrF和L系列光刻胶供货价格将上涨10-20%。IT之家注:光刻胶(Photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
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