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...空间可以调整这些参数了。根据瑞利公式可以看到，光刻分辨率（R）主要由三个因数决定，分别是光的波长（λ）、光可穿过透鏡的最大角度（镜头孔径角半角θ）的正弦值（sinθ）、折射率（n）以及系数k1有关。除了光刻分辨...……更多
2024-01-28 22:23:00光刻,直达,分辨率,全球,光刻,芯片
...性能和功能。除了高精度的特点，NSR-S636E光刻机还具有高分辨率和优秀的生产效率。其分辨率小于38纳米，这一指标远超当前主流的DUV光刻机。此外，该光刻机的镜头孔径达到1.35，曝光面积则为26x33毫米，生产效率预计提高10-15...……更多
2023-12-12 12:13:00尼康,光刻,日本,纳米,精度,全新
...投影到硅晶圆上的光学设计，极大地提高了下一代芯片的分辨率和功能扩展。下一代EUV高数值孔径EUV光刻被广泛视为EUV光刻的下一代发展方向，EUV光刻是一种用于半导体行业制造集成电路的技术。EUV是一种光刻技术，依靠地球上...……更多
2024-04-23 10:24:00英特,光刻,英特尔,最先,全球,系统
...出口1980Di产品。根据ASML官网介绍信息，1980Di的单次曝光分辨率为大于等于38nm。也就是说，晶圆厂通过1980Di光刻系统的单次曝光，仅能制造出不小于38nm制程的芯片产品。不过尽管晶圆厂在理论上可以通过多次曝光技术利用该型号...……更多
2024-01-03 14:40:00光刻,出口,中国,光刻,出口,晶圆
...孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高，可以实现更高分辨率的图案化，以实现更小的晶体管特征。英特尔打算在Intel18A制程节点引入High-NAEUV光刻技术，这意味着大概在2026年至2027年之间开始启用新设备。事实上，台积电（TSMC...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。当金属间距缩小到30nm以下时，就需要使用EUV双重曝光或曝光成形技术来辅助，这样会大大增加成本并降低良品率。因此，在这种情况下...……更多
2023-12-24 17:02:00光刻,孔径,荷兰,数值,成本,公司
...入到EUV。ASML系统工程总监JanvanSchoot概述了几种提高光刻分辨率和扩展EUV光刻应用的方法，表示正在研发新的光源和其他改进k1的策略，现在已经有了一些新想法。JSR（光刻胶供应商）的总裁MarkSlezak认为，EUV技术可以持续20年，DUV...……更多
2024-03-12 15:16:00三星,有利,芯片,逻辑,制造,光刻
...径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。金属间距缩小到30nm以下之后，也就是对应的工艺节点超越5nm，低NA光刻机的分辨率就不够了，只能使用EUV双重曝光和/或曝光成形(patt...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
...微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。由于纳米压印技术的加工过程不使用可见光或紫外光加工图案，而是采用机械手段进行图...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
...写笔。机型配置方面，后置200MP主摄的摄像模组，配备2K分辨率显示屏，内置5000mAh电池，45W充电功率。此外，据传三星准备在这代机型上重新启用最早的星星标识。（安兔兔） ……更多
2024-01-03 15:09:00比亚,超特,斯拉,光刻,电车,销量
...科技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
...的打击，也是对ASML的打击，意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机，但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户，而这三家客户当...……更多
2023-01-19 07:00:00中国,纳米,救命,再次,苹果,光刻
...o OLED、Fast-LCD等，Micro OLED相比其他技术具备快速响应、高分辨率、高对比度、低功耗、大视角等明显的优势，或将成为VR/AR重要技术路径。XR设备的升级主线在于屏幕升级，Micro OLED之于Vision Pro举足轻重。从成本占比上看，根据Wel...……更多
2024-01-03 10:00:00材料,设备,光学,优越,核心,性能
...对于芯片的生产与制造，其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展，禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今，美国的垄断政策不仅没有成功，反倒是影响了自己的本土生产链，拥有光...……更多
2023-11-03 09:26:00光刻,中国,怎么办,生产,光刻,国家
...积电和新思科技合作，在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度，并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂，而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
2024-03-21 16:44:00光刻,平台,科技,光刻,芯片,制造
...SML，他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到，30多年后，ASML将成为全球最大的光刻机制造商，市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片
...，挑动台湾问题，给“台独”势力释放错误信号；荷兰的光刻机享誉全球，美国就发布对华出口禁令，派官员施压荷兰跟进，限制对华出口高端光刻机，以遏制中国芯片制造业的发展。光刻机巨头阿斯麦公司去年，在美国的持续...……更多
2024-03-28 15:08:00阿斯,荷兰,中国,荷兰,阿斯,美国
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多
2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁
...，想着让自家芯片制造产业东山再起。而在 EUV （ 极紫外光刻 ）光刻机，差点让老美翻盘。。。但却因为一张膜，让老美痛失良机。光刻机大伙儿应该不陌生，就是把电路蚀刻在晶圆上的机器， EUV 算是现在最先进的技术。而在...……更多
2024-04-22 10:22:00美国,制造业,芯片,制造,光刻,英特
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
...社1月2日以此为题报道称，应美国拜登政府的要求，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在对华出口禁令生效前数周，取消了部分设备对华发货订单。此前，美国单方面实施对华芯片管制新规，曾引发荷兰议员不满，认为影响该国战略...……更多
2024-01-02 13:43:00华光,刻机,荷兰,美国,订单,部分
陈永伟/文近日，荷兰光刻机巨头ASML宣布：其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克（Mar－tinvandenBrink）将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
2023-12-19 13:42:00飞利,光刻,飞利浦,弃儿,光刻,密特
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
...的，日本企业在大部分芯片原材料中都有很强的存在感。光刻胶领域：JSR、东京应用化工、信越化学工业、住友化学、富士胶片；电子级硅晶圆领域：信越化学工业、SUMCO；掩光罩领域：大日本印刷、凸版印刷、HOYA；半导体生产...……更多
2023-12-26 17:18:00日本,半导体,产业,日本,半导体,尼康
...，苏大维格在深交所互动易平台对投资者前期关于“贵司光刻机及相关技术有哪些知名企业在使用”的提问，回复称“公司光刻机已实现向国内龙头芯片企业的销售，并已实现向日本、韩国、以色列等国家的出口；同时，公司向...……更多
2023-10-15 16:09:00维格,苏大,蒋林,误导,投资者,投资
日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
一直以来，我国因为没有EUV光刻机，而没办法生产先进的芯片，但是我们并没有坐以待毙，也不会向霸权低头，而是另辟蹊径，用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露，我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机，解...……更多
2024-01-25 10:29:00光刻,光子,霸权,难题,芯片,我国
...，开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
2023-10-14 19:39:00佳能,光刻,生产设备,芯片,方案,生产
清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电，清溢光电接受机构调研时表示，半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现180nm工艺节...……更多
2023-10-18 21:07:00电子束,光刻,佛山,生产基地,光电,基地
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