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...设备上都有布局，隔壁的尼康也是一个样。
不过目前光刻机的顶尖技术一直都被 ASML 独占，佳能眼看追不上，于是在研究光刻机的同时，又找了另外一条赛道：纳米压印。这次新闻的主角，也正是这个 “ 纳米压印 ” 技术，反...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
...术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，该公司最新的纳...……更多
2023-11-06 16:57:00阿斯,压印,佳能,光刻,价格比,位数
...，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手机...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
...片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前，极紫外光刻机（EUV）的唯一供应商就是ASML，EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要，但每台机器的售价高达数亿美元，只有少数公司才有能力购买。为此，从2017年开始，...……更多
2023-11-07 09:02:00压印,佳能,位数,纳米,生产设备,售价
...机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
...压印光刻技术在集成电路领域的应用可以实现更低成本的芯片量产。览富财经网注意到，国内多家上市公司在纳米压印领域已有布局，相关的技术研发和业务拓展都在稳步推进。美迪凯是一家从事光学光电子、半导体光学、半导...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
陈永伟/文近日，荷兰光刻机巨头ASML宣布：其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克（Mar－tinvandenBrink）将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
2023-12-19 13:42:00飞利,光刻,飞利浦,弃儿,光刻,密特
...工技术，采用传统机械模具微复型原理。纳米压印光刻造芯片通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上，脱模后得到一颗芯片。数据宝梳理，A股市场中，布局纳米压印相关业务的个股约有10只。歌尔股份市值居首，为...……更多
2023-10-14 00:11:00压印,概念股,市值,纳米,集体,概念
...佳能公司历时10年开发出的新技术产品——可用于半导体制造的一种光刻设备——已经正式开售。日本制造企业曾经垄断光刻机市场，但后来被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。上述新设备能否动摇阿斯麦的霸主地位将备受关注。佳能公...……更多
2023-10-21 14:38:00佳能公司,阿斯,新技,佳能,光刻,荷兰
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移 【日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移】财联社10月13日电，日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路...……更多
2023-10-13 13:26:00压印,佳能,日本,半导体,纳米,图案
...，他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到，30多年后，ASML将成为全球最大的光刻机制造商，市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术雇...……更多
2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片
...球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片所需的极紫外EUV光刻机的厂商，因精度达到一根头发丝直径的十万分之七，一台极紫外光刻机就能卖到3000亿韩元。极紫外光刻机不仅造价昂贵，而且每年只能供应40多台，芯片大厂都要排队...……更多
2023-12-14 09:07:00韩国,半导体,同盟,总统,韩国,阿斯
...管近日在接受采访时表示，公司正在开发一种先进的纳米压印技术，可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说，纳米压印是一种将刻有半导体电...……更多
2023-12-25 20:49:00佳能,纳米,成功,全球,产品,技术
...跨入到半导体制造设备领域的。比如尼康和佳能进入到光刻机领域，是因为之前有光学技术和精密加工技术的积累。村田机械株式会社是位于京都的公司，成立于1935年，该公司最初生产纺织机械，该业务到现在也存在。60年代村...……更多
2023-12-26 17:18:00日本,半导体,产业,日本,半导体,尼康
...1月2日以此为题报道称，应美国拜登政府的要求，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）在对华出口禁令生效前数周，取消了部分设备对华发货订单。此前，美国单方面实施对华芯片管制新规，曾引发荷兰议员不满，认为影响该国战略自...……更多
2024-01-02 13:43:00华光,刻机,荷兰,美国,订单,部分
2023-12-24 15:41:15 作者：姚立伟近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径（High NA EUV）的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解，每台新机器的成...……更多
2023-12-24 17:02:00光刻,孔径,荷兰,数值,成本,公司
...体厂商经营是否受到影响。虽然按照销售规模看，日本在芯片设计和终端类细分产业Top10中鲜见身影，但作为当前半导体产业链上游重要的参与者，日本始终屹立不倒，且正着力强化其系统性的产业能力。近年来日本产业界动作...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
...。他表示，对方希望自己能出来成立一家公司，为IBM生产芯片。
除IBM有需求外，美国谷歌、亚马逊、苹果和微软等平台企业对芯片也有很大的需求。由于日本半导体企业一直因为国内市场不足以支撑起具有竞争能力的芯片工厂...……更多
2023-10-21 17:24:00日本,美国,半导体,过往,辉煌,日本
...纳米压印光刻技术的问世，为小型半导体制造商生产先进芯片开辟了一条新的途径。佳能半导体设备业务经理岩本和德表示，纳米压印光刻是指将带有半导体电路图案的掩模压印在晶圆上，只需一个印记，就可以在适当的位置形...……更多
2024-01-29 10:00:00特斯,宁德,特斯拉,中国,早报,时代
在当今全球半导体市场上，光刻机作为制造芯片的核心设备，其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日，日本知名光学仪器制造商尼康（Nikon）宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E，该设备...……更多
2023-12-12 12:13:00尼康,光刻,日本,纳米,精度,全新
...将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
...片制造设备出口禁令生效前数周，取消了对中国的部分光刻机订单。中国外交部发言人汪文斌2日评论称，中方一贯反对美国泛化国家安全概念，以各种借口胁迫其他国家搞对华科技封锁。荷兰光刻机生产企业阿斯麦（ASML）标识...……更多
2024-01-03 09:43:00阿斯,华光,外交部,刻机,荷兰,外交
...于EUV光刻工具数量的增加，这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本，并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?之间，预计一个300毫米晶圆可以切割出约586个芯片。...……更多
2023-12-23 21:02:00光刻,打印机,晶圆,成本,芯片,纳米
...技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续摩...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
...者称，纳米压印技术在半导体中最常见的应用领域就是LED芯片的PSS图形化制作，兆驰半导体作为一个新的芯片厂，在2018年期间就已使用纳米压印技术制作PSS，使得公司在LED芯片领域的生产效率得到大幅提升。 ……更多
2023-10-30 12:29:00压印,半导体,纳米,股份,制作,技术
...本厂商的尖端技术。在这样的背景下，要靠着日本地区的芯片补贴，以及要在日本地区扩大自己市场影响力的台积电，很大可能会受到影响，其中“去ASML化”就可能被摆在明面上。一方面，日本半导体虽说有优势，但是在制造...……更多
2023-12-19 13:58:00日本,半导体,高层,供应,技术,日本
...商佳能公司宣布，他们已经开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。这款设备的独特之处在于，它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案，可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示，这套新的生产设备的工作原理与...……更多
2023-10-17 10:46:00佳能,生产设备,芯片,生产,设备,佳能
...）EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块，代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日，ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章，对于High-NA光刻系统进行了进一步的介绍。以下为芯智...……更多
2024-01-28 22:23:00光刻,直达,分辨率,全球,光刻,芯片
...日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。随着掩模技术的进一步改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。 ……更多
2023-10-13 13:26:00压印,发酵,纳米,概念,压印,纳米
...已经收到ASML发货的全球第一台高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，型号为“Twinscan EXE:5000”，它将帮助Intel继续推进摩尔定律。Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机，将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺，也就是1.8nm级...……更多
2024-01-07 22:00:00刻机,紫外光,全球,光刻,刻机,俄勒冈州
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