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...的教授新竹俊（Tsumoru Shintake）提出了一种极紫外（EUV）光刻技术。基于这种设计的 EUV 光刻技术可以使用更小的 EUV 光源工作，从而降低成本，显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统 EUV 光刻机的十分之一...……更多
2024-08-05 09:49:00光刻,半导体,效率,成本,能源,突破
...，开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C，表示采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同，并非光刻，而更类似于印刷，没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
2023-10-14 19:39:00佳能,光刻,生产设备,芯片,方案,生产
... 5 日消息，ASML 已经向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机并完成安装，英特尔院士马克・菲利普斯（Mark Phillips）确认这台机器将于年内正式启用。与之形成鲜明对比的是，全世界最大的芯片代工巨头台积电则似乎并不急...……更多
2024-06-06 09:11:00光刻,价值,光刻,英特,英特尔,孔径
尽管中国国内一直都没有获得荷兰ASML的高端光刻机，比如EUV光刻机，但是大量半导体制造企业都还是购买了ASML的DUV光刻机。而且在今年禁令实现之前，ASML各类型的DUV光刻机，几乎都销往了国内。所以从这个角度而言，国内半...……更多
2024-09-02 13:35:00荷兰,设备,光刻,荷兰,芯片,半导体
极紫外光刻技术是近年来最复杂的技术创新之一。 极紫外光刻设备对于生产更小、更强大的微芯片至关重要，但其耗电量巨大。 更糟糕的是，它们对电力的渴求预计在未来几年只会大幅增长。根据 TechInsights 最近的一份报告，...……更多
2024-11-04 13:33:00光刻,能耗,芯片,很快,水平,生产
...已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的必...……更多
2024-08-07 09:33:00二台,光刻,价值,全球,二台,俄勒冈州
日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
...积电和新思科技合作，在芯片制造过程中率先使用其计算光刻平台。该平台可以加快下一代先进半导体芯片的生产速度，并克服物理限制。台积电是全球领先的晶圆代工厂，而新思科技则是芯片到系统设计解决方案的领导者。二...……更多
2024-03-21 16:44:00光刻,平台,科技,光刻,芯片,制造
近日在美国加利福利亚州圣何塞举行的SPIE先进光刻技术会议上，来自光刻生态系统不同部门的专家讨论了Low-NA和High-NAEUV光刻技术的前景，观点从高度乐观到谨慎，特别是High-NAEUV方面，三星表达了担忧。三星负责存储器生产的...……更多
2024-03-12 15:16:00三星,有利,芯片,逻辑,制造,光刻
IT之家 6 月 12 日消息，光刻机巨头 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒体发文，悼念 ASML 创始人之一维姆・特鲁斯特（Wim Troost）离世。另据《埃因霍温日报》，Wim 于上周五（6 月 8 日）上午逝世，享年 98 岁。ASML 称，“Wim Troost 去世了...……更多
2024-06-12 16:19:00特鲁斯,特鲁,维姆,光刻,享年,创始人
...损并影响部分产线生产，主要机台包含所有极紫外（EUV）光刻设备皆无受损。“在地震发生后10小时内，晶圆厂设备的复原率已超过70%，新建的晶圆厂（如晶圆十八厂）的复原率更已超过80％。台积电目前正与客户保持密切沟通...……更多
2024-04-04 19:26:00晶圆,晶圆厂,台湾,地震,损失,报价
...对于芯片的生产与制造，其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展，禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今，美国的垄断政策不仅没有成功，反倒是影响了自己的本土生产链，拥有光...……更多
2023-11-03 09:26:00光刻,中国,怎么办,生产,光刻,国家
鼎龙股份：布局三大领域光刻胶相关产品收到多项重大项目立项 【鼎龙股份：布局三大领域光刻胶相关产品收到多项重大项目立项】财联社11月9日电，鼎龙股份公告，公司及下属子公司于今年相继收到多项光刻胶相关国家及省...……更多
2023-11-09 19:59:00光刻,重大项目,布局,领域,三大,股份
...着各种高精密仪器发出的嗡鸣声，邢艳荣和同事们开始在光刻机上作业。光刻是制造芯片的关键步骤，邢艳荣将硅晶圆放到机器的凹槽内，设备启动后就会按照事先设计好的工艺参数进行光刻。光刻的结果并不会第一时间显现，...……更多
2024-02-18 02:22:00监测,压力,传感器,压力,高精,空天
热点聚焦两款光刻机出口许可被撤销，ASML：影响了对个别中国客户发运设备荷兰光刻机厂商ASML官网表示，其两款光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，将对部分中国客户产生影响。此举意味ASML只能向中国出口1980Di产...……更多
2024-01-03 15:09:00比亚,超特,斯拉,光刻,电车,销量
...降低功耗的道路上，3条创新路径的重要性愈发凸显：1、光刻、材料与器件架构：引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步；新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术
...光学特性芯片上多放置50%的Die玻璃材料非常平整，可改善光刻的聚焦深度更好的热稳定性和机械稳定性玻璃通孔（TGV）之间的间隔能够小于100微米，这直接能让晶片之间的互连密度提升10倍玻璃基板的热膨胀系数与晶片更为接近...……更多
2024-07-13 10:13:00基板,新宠,玻璃,咨询,技术,基板
...评级理由主要包括：1）涂料业务行情低迷拖累业绩；2）光刻胶、研磨液项目进展顺利。风险提示：晶圆化学品市场开拓不及预期，光刻胶业务的进展慢于预期，新基地产能建设不达预期。AI点评：上海新阳近一个月获得2份券商...……更多
2024-03-18 23:24:00新阳,研磨液,光刻,项目进展,研磨,上海
...比，明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程
在当今全球半导体市场上，光刻机作为制造芯片的核心设备，其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日，日本知名光学仪器制造商尼康（Nikon）宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E，该设备...……更多
2023-12-12 12:13:00尼康,光刻,日本,纳米,精度,全新
1月24日，光刻机巨头ASML（阿斯麦）公布了2023年Q4以及全年的财报。ASML第四季度营收达到72.37亿欧元，毛利率约为51.4%，净利润达20.48亿欧元。第四季度的新增订单金额为91.86亿欧元，其中56亿欧元的增长来自EUV光刻机订单。而从20...……更多
2024-01-25 17:32:00半导体,信号,行业,中国,市场,光刻
...技术，并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分，从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻（EUV）技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示，该公司最新的...……更多
2023-11-06 16:57:00阿斯,压印,佳能,光刻,价格比,位数
...键耗材，全球巨头拟提价10%-20%TrendForce日前在《2023年全球光刻胶市场分析》中指出，随着下游客户库存的持续改善、产能利用率逐步恢复，AI、智能汽车等应用发展，预计半导体行业将在2024年经历复苏；届时半导体光刻胶市场也...……更多
2024-01-03 10:00:00材料,设备,光学,优越,核心,性能
...英特尔开始在俄勒冈州安装业界首个High-NA EUV工具（ASML的光刻机产品），同时在2024年和2025年，产线上将有超过50个测试芯片，其中75%采用Intel 18A支撑。
在代工业务上，英特尔可谓野心勃勃，从目前晶圆代工格局看，英特尔排在...……更多
2024-01-26 17:00:00英特,英特尔,数据中心,战场,芯片,业务
快科技12月1日消息，光刻机巨头ASML宣布，ASML总裁兼CEO皮特·温宁克（Peter Wennink）将于2024年4月24日退休。ASML监事会宣布，拟任命现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·富凯（Christophe Fouquet ）担任公司下一任总裁兼CEO。...……更多
2023-12-02 16:58:00阿斯,光刻,中国,巨头,宁克,克里斯托弗
...tel 4和Intel 3工艺技术的晶圆而设计。Fab 34标志着，极紫外光刻技术（EUV）首次在欧洲被用于大批量生产。除了Fab 34，英特尔在莱克斯利普还保有第二个制造厂——Fab 24。一直以来，Feb 24都是英特尔14nm处理器生产的关键场所，同...……更多
2024-09-25 13:35:00英特,英特尔,制程,救星,绝地,王牌
...改造，涉及D1X晶圆厂等设施，近期开始安装ASML的High-NA EUV光刻机；新墨西哥州里奥兰乔的Fab 9和Fab 11X，用于先进的半导体封装技术。尤其是作为英特尔宏大的核心计划之一，俄亥俄州哥伦布市附近的空地将从2027年起建设成为“...……更多
2024-03-22 14:06:00英特,英特尔,三星,大礼包,大礼,英特
...强表示，台积电并不需要使用荷兰 AXML 的高数值孔径 EUV 光刻机来制造 A16 芯片，而英特尔上周宣布他们将使用这些机器来研发其 14A 芯片。因此台积电可能在 A16 的生产上抢先英特尔 14A 一步。
除了 A16，台积电还宣布了其 2nm 工...……更多
2024-04-28 09:30:00芯片,工艺,芯片,英特,英特尔,工艺
...人民币），年复合增长率约为17.35％。必读要闻三：日本光刻胶大厂计划提价10%-20%，全球市场或将在2024年实现反弹业内人士透露，日本住友化学子公司东友精密化学（Dongwoo Fine-Chem）向韩国半导体企业表示，由于原材料价格上涨...……更多
2023-12-13 09:45:00细分,苹果,领域,推广,体验,媒体
...产设备。这款设备的独特之处在于，它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案，可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示，这套新的生产设备的工作原理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采用光刻技术，而是采用...……更多
2023-10-17 10:46:00佳能,生产设备,芯片,生产,设备,佳能
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