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...空间可以调整这些参数了。根据瑞利公式可以看到，光刻分辨率（R）主要由三个因数决定，分别是光的波长（λ）、光可穿过透鏡的最大角度（镜头孔径角半角θ）的正弦值（sinθ）、折射率（n）以及系数k1有关。除了光刻分辨...……更多
2024-01-28 22:23:00光刻,直达,分辨率,全球,光刻,芯片
...性能和功能。除了高精度的特点，NSR-S636E光刻机还具有高分辨率和优秀的生产效率。其分辨率小于38纳米，这一指标远超当前主流的DUV光刻机。此外，该光刻机的镜头孔径达到1.35，曝光面积则为26x33毫米，生产效率预计提高10-15...……更多
2023-12-12 12:13:00尼康,光刻,日本,纳米,精度,全新
...网上引发了一阵热议，因为它的照明波长达到了193nm、且分辨率为65nm，优于上海微电子600系列的90nm。同时，该光刻机的套刻精度达到≤8nm。氟化氩光刻机参数曝光引发网络热议在氟化氩光刻机的信息发布之后，网络上却出现了...……更多
2024-09-30 09:57:00突破,技术,光刻,芯片,制程,氟化
...投影到硅晶圆上的光学设计，极大地提高了下一代芯片的分辨率和功能扩展。下一代EUV高数值孔径EUV光刻被广泛视为EUV光刻的下一代发展方向，EUV光刻是一种用于半导体行业制造集成电路的技术。EUV是一种光刻技术，依靠地球上...……更多
2024-04-23 10:24:00英特,光刻,英特尔,最先,全球,系统
...就差了点意思。特别是上海微电子，之前最拿手的SSA600，分辨率才90nm，这在现在的高科技战场上，这分明就是慢动作回放。为啥这么慢？还不是因为美国大哥一直盯着，关键技术、元件都不让咱碰，生怕我们哪天就追上来了。...……更多
2024-09-19 13:46:00光刻,封锁,国产,突破,光刻,氟化
...NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的必备武器。
帕特·基辛格表示，第二台High NA设备即将进入Intel位于美国俄...……更多
2024-08-07 09:33:00二台,光刻,价值,全球,二台,俄勒冈州
...出口1980Di产品。根据ASML官网介绍信息，1980Di的单次曝光分辨率为大于等于38nm。也就是说，晶圆厂通过1980Di光刻系统的单次曝光，仅能制造出不小于38nm制程的芯片产品。不过尽管晶圆厂在理论上可以通过多次曝光技术利用该型号...……更多
2024-01-03 14:40:00光刻,出口,中国,光刻,出口,晶圆
... NA EUV 镜测试资料显示，ASML 的第一代 High NA EUV（EXE:5000）分辨率达 8nm，可以实现比现有 EUV 光刻机小 1.7 倍物理特征的微缩，从将单次曝光的晶体管密度提高 2.9 倍，可以使芯片制造商能够简化其制造流程。据介绍，EXE:5000 每小...……更多
2024-08-01 09:48:00光刻,评估,时间,光刻,晶圆,英特
...较于国外同系列某产品，T150A在光刻工艺中表现出的极限分辨率达到120nm，且工艺宽容度更大、稳定性更高、留膜率更优，其对刻蚀工艺表现更好，通过验证发现T150A中密集图形经过刻蚀，下层介质的侧壁垂直度表现优异。团队负...……更多
2024-10-25 12:57:00原材,光刻,原材料,配方,芯片,国产
...孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高，可以实现更高分辨率的图案化，以实现更小的晶体管特征。英特尔打算在Intel18A制程节点引入High-NAEUV光刻技术，这意味着大概在2026年至2027年之间开始启用新设备。事实上，台积电（TSMC...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率和最高能达到的工艺节点。当金属间距缩小到30nm以下时，就需要使用EUV双重曝光或曝光成形技术来辅助，这样会大大增加成本并降低良品率。因此，在这种情况下...……更多
2023-12-24 17:02:00光刻,孔径,荷兰,数值,成本,公司
...更好的应用设想。同时KB BF激光晶体技术，也能打造更高分辨率的光电子仪器，比如超过以往精度的电子显微镜等，对于多领域的科研都有着强大的推动作用。此外还有纳米光刻技术的应用等等，都有着重要的助力。而且KB BF激...……更多
2024-05-29 09:19:00一技,老美,封锁,中国,领先,全球
...入到EUV。ASML系统工程总监JanvanSchoot概述了几种提高光刻分辨率和扩展EUV光刻应用的方法，表示正在研发新的光源和其他改进k1的策略，现在已经有了一些新想法。JSR（光刻胶供应商）的总裁MarkSlezak认为，EUV技术可以持续20年，DUV...……更多
2024-03-12 15:16:00三星,有利,芯片,逻辑,制造,光刻
...径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。金属间距缩小到30nm以下之后，也就是对应的工艺节点超越5nm，低NA光刻机的分辨率就不够了，只能使用EUV双重曝光和/或曝光成形(patt...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
在之前的日子里，日本大举对中国出售二手光刻机等设备而赚取了大量金钱，韩国却顺从了美国的要求，导致诸多二手光刻机等设备蒙尘，近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数...……更多
2024-06-29 09:19:00光刻,韩国,日本,中国,光刻,中国
...E:3400B 和 NXE:3400C）相比，精度会有所提高，可以实现更高分辨率的图案化。ASML 官方曾透露，这种 High-NA 机器将比现有机器大 30%，而之前的机器已经大到难以想象，甚至需要三架波音 747 来装载它们。台积电此前宣布，其 2nm 节...……更多
2024-06-06 09:11:00光刻,价值,光刻,英特,英特尔,孔径
...微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重要加工手段。由于纳米压印技术的加工过程不使用可见光或紫外光加工图案，而是采用机械手段进行图...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
...不同，PAS 5500 机器可配备波长为 365 纳米的 i 线激光器，分辨率可达 400纳米（PAS 5500/100D），或配备波长为 193 纳米的 ArF 激光器，分辨率可达 90 纳米（PAS 5500/1150C）。20 世纪 90 年代初的 PAS 5500 设备可用于生产 35……更多
2024-09-07 09:56:00备件,制裁,芯片,年前,制造,设备
...写笔。机型配置方面，后置200MP主摄的摄像模组，配备2K分辨率显示屏，内置5000mAh电池，45W充电功率。此外，据传三星准备在这代机型上重新启用最早的星星标识。（安兔兔） ……更多
2024-01-03 15:09:00比亚,超特,斯拉,光刻,电车,销量
日前全球三大光刻机企业ASML、尼康、佳能都发布了业绩无法达到年初预计的目标，原因就在于中国在减少采购光刻机，凸显出中国市场对全球芯片设备市场的巨大影响力。全球最大的光刻机企业ASML最为悲观，ASML的新增订单环...……更多
2024-11-03 16:16:00光刻,中国,三大,企业,中国,芯片
...
High NA EUV光刻机是全球首款采用0.55NA数值孔径的光刻机，分辨率达到8nm，成像对比度比之前的NXE系列0.33NA EUV系统高出40%，支持2nm逻辑节点图案化，单价高达3.5亿欧元。Rick Lenssen此前曾花费2.5年时间（1.5年设计蓝图、1年实际组装...……更多
2024-12-03 13:37:00光刻,零件,售价,套装,全球,光刻
...科技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
大家都知道，在高科技领域，光刻机是非常重要的设备，没有之一。尤其是对于那些追求高精度、高性能芯片的企业而言，光刻机不仅是生产线上的“灵魂”，更是整个半导体制造领域的“心脏”。如果没有这颗“心脏”的跳...……更多
2024-09-19 13:47:00亿光,刻机,浙江,工厂,情况,全球
...令人瞩目的一步。近日，俄罗斯成功制造了首台国产350nm光刻机，这一成就标志着俄罗斯在芯片制造领域取得了新的里程碑。光刻机作为芯片制造的核心设备之一，其技术水平直接决定了芯片制造的精度和效率。长期以来，俄罗...……更多
2024-05-27 17:59:00光刻,里程,制造,里程碑,芯片,国产
...价，反而想涨价3%-5%。ASML想涨价的原因，也很简单。新增光刻机订单量下滑，储备订单持续减少，为了保证营收和利润，在订单持续减少的情况下，涨价就是最好的办法。要知道，EUV光刻机可是当下最先进的设备之一，只有ASML...……更多
2024-10-21 13:39:00光刻,订单,光刻,芯片,工艺,先进
...的打击，也是对ASML的打击，意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机，但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户，而这三家客户当...……更多
2023-01-19 07:00:00中国,纳米,救命,再次,苹果,光刻
在芯片产业中，光刻胶是不可或缺的重要材料。因为目前的芯片制造均是采取光刻方式，而这种方式就需要光刻胶。而光刻胶与光刻机的技术又是对应的，不同的光刻机，对应不同的光刻波长，又对应着不同的光刻胶，同样可...……更多
2024-05-21 13:50:00光刻,中国,全球,光刻,日本,韩国
...o OLED、Fast-LCD等，Micro OLED相比其他技术具备快速响应、高分辨率、高对比度、低功耗、大视角等明显的优势，或将成为VR/AR重要技术路径。XR设备的升级主线在于屏幕升级，Micro OLED之于Vision Pro举足轻重。从成本占比上看，根据Wel...……更多
2024-01-03 10:00:00材料,设备,光学,优越,核心,性能
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要，但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题，中国各个机构就一直为此努力，2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题，2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
2024-09-27 13:44:00芯片,光刻,光子,中国,芯片,光子
创始人维姆·特罗斯特上周去世，他让光刻机成为欧洲最贵奢侈品。关于后来者能不能造出光刻机和先进芯片，业界盛传比亚迪董事长王传福的一个说法：“这些是人造的，不是神造的。”最赞成王传福的可能包括光刻机巨头 AS...……更多
2024-06-13 09:22:00光刻,一本,新书,秘密,成功,制造
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