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努力6年后，国产光刻机取得重大突破，外媒：西方的封锁失败了
说起来，光刻机这个高科技设备，在全球舞台上就那么几位大佬在玩，荷兰的ASML那是绝对的王者，日本的尼康和佳能紧随其后，咱们中国的上海微电子也在努力追赶。但要是论起市场份额，那简直是天差地别——ASML一家独大，占了八成五还多，尼康佳能加起来也就分了点儿汤喝，而咱们的上海微电子，就像是还没上桌的客人，份额几乎可以忽略不计。
那么问题来了，为什么会有今天这样的局面？其实答案很简单，关键就在于技术门槛高得吓人，尤其是那个EUV光刻机，全球就ASML一家能造，简直是技术垄断的代名词。在稍微次一点的浸润式DUV领域，ASML也是霸主，九成五的市场都归它了，尼康只能喝点剩汤。
上海微电子和佳能呢，它们目前主要还在做低端光刻机，就像是小孩子玩的小车车，虽然也能跑，但速度就差了点意思。特别是上海微电子，之前最拿手的SSA600，分辨率才90nm，这在现在的高科技战场上，这分明就是慢动作回放。为啥这么慢？还不是因为美国大哥一直盯着，关键技术、元件都不让咱碰，生怕我们哪天就追上来了。
不过，好消息来了！最近工信部放了个大招，说咱们有了新家伙——两台光刻机！其中一台是氟化氪的，虽然分辨率也就110nm左右，连DUV的边儿都没摸到，但好歹是自家产的，值得鼓励。另一台就厉害了，氟化氩的，波长193nm，分辨率直接干到了65nm，套刻精度也小于等于8nm，这可是实打实的进步！就连外媒都纷纷表示，西方的芯片封锁失败了。
有人可能一听8nm就激动了，以为能造8nm芯片了。其实呢，这个套刻精度跟造芯片的大小不是直接划等号的。它更像是咱们画画时用的细笔，画得越细，线条越多，就越能画出复杂的图案。光刻机也是这样，分辨率不够时，就得分多次画，每次画都要对准，这个对准的误差就是套刻精度。精度越高，画的次数就越多，画出来的芯片就越精细。
当然啦，咱们这台氟化氩光刻机，虽然还不是最顶尖的浸润式，但已经是干式光刻机里的佼佼者了，理论上能摸到65nm的门槛。虽然离造28nm、8nm芯片还有点距离，但别忘了，这可是咱们自己一步一个脚印走出来的成果。
总之，虽然起点低，但咱们有决心、有毅力，一步步往上爬。总有一天，咱们也能造出浸润式光刻机，甚至EUV光刻机，让全世界都看看，中国智造的力量！
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