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光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
随着半导体器件制造商向2纳米工艺过渡的成本不断增加,每片2纳米晶圆的成本已经超过30万元人民币。根据IBS的报告,一家月产能为5万片晶圆的2纳米晶圆厂(WSPM)的建设成本约为280亿美元,而相同容量的3纳米晶圆厂则需要约...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...标志。(法新社)这一新技术运用了佳能公司擅长的喷墨打印机和照相机技术,就像打印机滴墨一样,将极少的树脂滴到半导体晶圆上。类似盖印章的原理,将刻有凹凸电路图案的掩模压印到晶圆上制成电路。据悉在这一过程中...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...财年旗下各大业务对公司的销售贡献比重相差不大,其中打印机类业务均贡献销售收入的56%,图像类业务贡献20%收入,涵盖半导体相关业务的工业类部门业务收入均贡献约8%。相比尼康,佳能在半导体相关业务部分贡献的收入比...……更多
首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”
从0到1,国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产...……更多
制造光刻机 40 年,一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密
创始人维姆·特罗斯特上周去世,他让光刻机成为欧洲最贵奢侈品。关于后来者能不能造出光刻机和先进芯片,业界盛传比亚迪董事长王传福的一个说法:“这些是人造的,不是神造的。”最赞成王传福的可能包括光刻机巨头 AS...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
...产设备。这款设备的独特之处在于,它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示,这套新的生产设备的工作原理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采用光刻技术,而是采用...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利用图像投影的原理将集成电路的微观结...……更多
...技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻(EUV)技术的低成本替代品。佳能首席执行官御手洗富士夫(Fujio Mitarai)表示,该公司最新的...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
安徽首片,晶合集成光刻掩模版成功亮相
...方消息,7 月 22 日,由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相,填补了安徽省在该领域的空白,进一步提升本土半导体产业的竞争力。晶合集成表示,光刻掩模版成功亮相,标志着该公司在晶圆代工领域成为台积...……更多
日本半导体产业的行与不行
...技术能力来讲,尼康比佳能强。佳能后来研发了复印机和打印机,成为公司主要盈利产品。尼康主要就是照相机和光刻机。泡沫经济以后,日本生产半导体的综合电机企业都很艰难,日本在世界半导体市场的份额也在不断下降。...……更多
佳能向得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
...盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。得克萨斯电子研究所成立于 2021 年,由得克萨斯当地政府、半导体企业(IT之家注:包括英特尔在内)、美国国家研究机构和其它实体组成,得到...……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
...芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供应商就是ASML,EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要,但每台机器的售价高达数亿美元,只有少数公司才有能力购买。为此,从2017年开始...……更多
价值3.83亿美元!Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机
...已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的必...……更多
差距进一步扩大?ASML第三代EUV光刻机交付
...芯片工厂中。据了解,TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机,其配备了0.33数值孔径透镜,相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升,能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面,TWINSCANN...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
韩国顺从导致光刻机蒙尘,日本却大赚特赚,反省后计划卖给中国
在之前的日子里,日本大举对中国出售二手光刻机等设备而赚取了大量金钱,韩国却顺从了美国的要求,导致诸多二手光刻机等设备蒙尘,近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要,但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题,中国各个机构就一直为此努力,2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题,2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
台积电试图降低n3/3nm级晶圆厂工艺成本
...据不同的配置要求,N3在25层内范围内使用EUV(极紫外)光刻技术,目前EUV扫描仪的成本基本就在1.5亿美元到2亿美元之间。而3nm技术的代工成本价格已经超过每个晶圆20000美元。AMD此前曾提到,该公司打算将3nm工艺用于Zen5微架构...……更多
极紫外光刻技术获突破:可大幅提高能源效率,降低半导体制造成本
...的教授新竹俊(Tsumoru Shintake)提出了一种极紫外(EUV)光刻技术。基于这种设计的 EUV 光刻技术可以使用更小的 EUV 光源工作,从而降低成本,显著提高机器的可靠性和使用寿命。而在消耗电量上不到传统 EUV 光刻机的十分之一...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
...。使用这种技术可以显著降低客户的实际成本,达到传统光刻设备的一半,并且由于纳米压印设备规模较小,在研发等其他用途上也更加方便。当被问及是否存在竞争对手时,岩本和德表示,在面向半导体光刻领域发展纳米压印...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
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