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三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层
...比,明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外(EUV)光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV,从那时起,随着迁移到5nm,再到3nm,三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
美光将基于euv光刻的1γnm制程dram技术推迟到2025
...就业。作为减少资本支出的一部分,消息称美光将使用EUV光刻的1γnm制程DRAM推迟到2025年,232层之后的NAND节点也被推迟。美光1γ制造技术中原定于2024年的某个时候推出,但因为美光必须在2023和2024财年减少新设备的支出,并减少D...……更多
2022-12-23 15:09:00光刻,制程,技术
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
英特尔将在未来冲击1nm工艺:基于新一代光刻机
...当长的距离,此外想要实现如此先进的工艺制程,采用EUV光刻机必不可少,而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步,光刻机的功耗也越来越高,据悉为了满足如此先进的制程工艺,ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
中国机会|阿斯麦中国区总裁:明年是半导体设备调整期,后年行业有望明显回暖
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调,成熟制程和先进制程同等重要,中国有条件把成熟制程做到...……更多
3.8亿美元/台!ASML将于2024年向台积电交付最新款光刻机
...据外媒报道称,ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机,单台造价达3.8亿美元。报道中提到,ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师,公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值...……更多
ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 NA EUV 光刻机
... 5 日消息,ASML 已经向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机并完成安装,英特尔院士马克・菲利普斯(Mark Phillips)确认这台机器将于年内正式启用。与之形成鲜明对比的是,全世界最大的芯片代工巨头台积电则似乎并不急...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
差距进一步扩大?ASML第三代EUV光刻机交付
...芯片工厂中。据了解,TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机,其配备了0.33数值孔径透镜,相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升,能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面,TWINSCANN...……更多
不可一世的ASML急了
...去两年,伴随芯片的短缺、对华禁令等一系列重大事件,光刻机从一种不为人知的先进制造设备,一跃成为了大众的新闻热点。在这当中,荷兰光刻机厂商 ASML 几乎是绕不开的存在。原因并不复杂,因为 ASML 是全球唯一一家有能...……更多
1月1日晚,荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT:2050i及NXT:2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
英特尔Intel 4 制程节点已大规模量产,性能大增
...上宣布了一则重要消息,该公司已于近日开始采用极紫外光刻(EUV)技术大规模量产Intel4制程节点。这一里程碑式的进展标志着英特尔在推进“四年五个制程节点”计划方面取得了重要成果,并将用于新一代的领先产品。英特尔...……更多
不畏霸权,我国或将通过硅光子技术摆脱EUV光刻机,解决芯片难题
一直以来,我国因为没有EUV光刻机,而没办法生产先进的芯片,但是我们并没有坐以待毙,也不会向霸权低头,而是另辟蹊径,用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露,我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机,解...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...动作频繁:新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工,光刻胶龙头JSR将被JIC所收购,东芝退市前有诸多本土和外资竞购;同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
英特尔包圆 ASML 初始产能,获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
...特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径(High NA)EUV 光刻机的安装,而这台耗资约 3.5 亿美元(IT之家备注:当前约 25.23 亿元人民币)的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示,ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV ...……更多
又一个换道超车的领域:车规级碳化硅
...前几名的芯片企业中,会有一家或者多家中国企业。不是光刻机被限制了吗?中国芯片企业还能有未来?要知道,EUV光刻机本来就是个偶然。在ASML研发出EUV光刻机之前,光刻机市场以佳能和尼康为主,只不过在赌未来的研发方...……更多
通往万亿晶体管芯片,关键技术揭秘
...降低功耗的道路上,3条创新路径的重要性愈发凸显:1、光刻、材料与器件架构:引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步;新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
安徽首片,晶合集成光刻掩模版成功亮相
...方消息,7 月 22 日,由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相,填补了安徽省在该领域的空白,进一步提升本土半导体产业的竞争力。晶合集成表示,光刻掩模版成功亮相,标志着该公司在晶圆代工领域成为台积...……更多
“半导体行业已有积极信号”
1月24日,光刻机巨头ASML(阿斯麦)公布了2023年Q4以及全年的财报。ASML第四季度营收达到72.37亿欧元,毛利率约为51.4%,净利润达20.48亿欧元。第四季度的新增订单金额为91.86亿欧元,其中56亿欧元的增长来自EUV光刻机订单。而从20...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
陕西先进光子器件工程创新平台落成
...。通过与创新企业持续进行联合研发,光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺技术不断攻克,平台软硬件建设不断完善,未来平台将持续助力光子产业链上下游企业聚集。湿法设备。先进光子器件工程创新平台供图...……更多
...将扩展至8-9层。对于美光,其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程,ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩,NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
​光刻机之战
...SML,他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到,30多年后,ASML将成为全球最大的光刻机制造商,市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多
中科融合MEMS质量管控 | 持续提升MEMS微镜鲁棒性与耐久性
...lk micromachining2.Surface micromachiningBulk Micromachining是一种通过光刻/蚀刻等步骤在材料内部生成结构的方法,其典型代表为SOI制程,它的好处是,MEMS的材料性质与结构尺寸主要由使用的晶圆材料构成,因此拥有较低的原生应力(intr……更多
兴欣新材:公司的N-羟乙基哌嗪等产品是光刻胶剥离液的重要成分 【兴欣新材:公司的N-羟乙基哌嗪等产品是光刻胶剥离液的重要成分】财联社1月3日电,兴欣新材在互动平台表示,公司的N-羟乙基哌嗪、N,N-二甲基丙酰胺等产品...……更多
英特尔与美国国防部深化合作,采用18A工艺生产芯片
...先进的芯片制造设备,名为高数值孔径极紫外 (high NA EUV) 光刻机。英特尔表示,这种设备可以简化设计流程,从而缩短芯片的制造时间。【来源:IT之家】返回搜狐,查看更多责任编辑: ……更多
微软与英特尔在芯片制造领域合作
...工领域的发展。英特尔的18A工艺采用了业界领先的极紫外光刻技术,能够实现更高的晶体管密度和更低的功耗。这一工艺的优化也为微软的定制芯片提供了强大的性能支持。据了解,微软的定制芯片将用于增强其AI服务,包括去...……更多
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