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三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层

...比，明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多

2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程

抢光刻机、截客户，三大芯片巨头缠斗2nm丨知料

...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多

2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程

美光将在1cnm节点率先引入euv光刻

...将扩展至8-9层。对于美光，其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程，ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩，NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多

2024-02-03 21:24:00光刻,节点,三星,世代,工艺,进一

首先得有，28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

从0到1，国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破，这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域，国产光刻机究竟走到哪一步了？“在西方技术层层封锁下，国产...……更多

2024-09-30 09:57:00突破,技术,光刻,芯片,制程,氟化

台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机

去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多

2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径

ASML新增订单少一半，EUV光刻机失宠了？

...价，反而想涨价3%-5%。ASML想涨价的原因，也很简单。新增光刻机订单量下滑，储备订单持续减少，为了保证营收和利润，在订单持续减少的情况下，涨价就是最好的办法。要知道，EUV光刻机可是当下最先进的设备之一，只有ASML...……更多

2024-10-21 13:39:00光刻,订单,光刻,芯片,工艺,先进

台积电1.4nm正式现身！A14工艺已研发完成

...。此外，也不清楚台积电是否会在A14工艺上启用High-NA EUV光刻机，但这种新设备的引入可能会为芯片设计人员和制造商带来一些新的挑战。与三星的技术路线图相似，台积电计划在2027年推出SF1.4工艺（即1.4nm级别），纳米片的数...……更多

2023-12-15 10:02:00工艺,工艺,技术,三星,晶体管,制程

ASML两款光刻机出口许可被撤销；比亚迪Q4纯电车销量超特斯

热点聚焦两款光刻机出口许可被撤销，ASML：影响了对个别中国客户发运设备荷兰光刻机厂商ASML官网表示，其两款光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，将对部分中国客户产生影响。此举意味ASML只能向中国出口1980Di产...……更多

2024-01-03 15:09:00比亚,超特,斯拉,光刻,电车,销量

砸下8400亿元后，三星先被自己人背刺

...是，2018年，当台积电每月投放6万片晶圆用于EUV（极紫外光刻）的试生产时，三星仍然忙着对基于DUV技术的10nm工艺制程修修补补。最终的结果是，当台积电完成5nm工艺的量产后，三星还没有实现等效工艺的流片。这直接导致来自...……更多

2024-06-25 09:23:00三星,自己人,三星,芯片,高通,架构

英特尔包圆 ASML 初始产能，获得今年全部高数值孔径 EU

...特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径（High NA）EUV 光刻机的安装，而这台耗资约 3.5 亿美元（IT之家备注：当前约 25.23 亿元人民币）的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示，ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV ...……更多

2024-05-08 09:45:00英特,光刻,英特尔,孔径,数值,英特

这个光刻机做的风扇，我试了发现真有点东西

不开玩笑，我们可能是国内第一个用上“光刻风扇”的媒体。不知道差友们还有没有印象，去年我们专门写过一篇文章，介绍了一家叫 Frore Systems 的硅谷创业公司，以及他们用光刻机造出来的散热芯片：AirJet Mini 。当时介绍完 A...……更多

2024-07-19 09:50:00光刻,风扇,东西,风扇,光刻,功耗

日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机

日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多

2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能

中国机会｜阿斯麦中国区总裁：明年是半导体设备调整期，后年行业

...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多

2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁

强震后，日本半导体该走向何方？

...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多

2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体

不用光刻机，如何制造5nm芯片？

...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多

2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻

3.8亿美元/台！ASML将于2024年向台积电交付最新款光

...据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值...……更多

2024-06-07 09:22:00光刻,将于,光刻,德音,英特,制程

第一次EUV极紫外光刻！Intel 4工艺官宣大规模量产

Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多

2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程

台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未

...，台积电最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。对此，台积电海外营运资深副总经理暨副共同营运长张晓强表示，仍在评估 High NA EUV 应用于未来制程节点的成本效益与可扩展性，目前采用时间未定。▲ASML EXE:5...……更多

2024-08-01 09:48:00光刻,评估,时间,光刻,晶圆,英特

光刻机之战

...SML，他们将在几间靠近垃圾堆的狭小简易房中办公、开发光刻机。这个意志消沉的初创团队可能不会想到，30多年后，ASML将成为全球最大的光刻机制造商，市值远超原来的母公司飞利浦。这家荷兰最大的出口商、荷兰最大的技术...……更多

2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片

差距进一步扩大？ASML第三代EUV光刻机交付

...芯片工厂中。据了解，TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机，其配备了0.33数值孔径透镜，相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升，能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面，TWINSCANN...……更多

2024-03-25 01:43:00进一,三代,光刻,差距,晶圆,芯片