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Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多
2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程
...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
...府会给予接近一半的补贴。（来源：台积电）虽然日本在光刻胶等领域处于国际领先地位，但论及半导体制造能力并不突出。时至今日，日本本土最多只能生产40nm区间的芯片，显然无法满足AI时代对先进半导体的需求。正在建设...……更多
2023-10-13 11:46:00制程,日本,水面,规模,先进,工艺
...）、苏大维格（300331.SZ）等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
...。通过与创新企业持续进行联合研发，光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺技术不断攻克，平台软硬件建设不断完善，未来平台将持续助力光子产业链上下游企业聚集。湿法设备。先进光子器件工程创新平台供图...……更多
2023-01-12 14:09:00光子,陕西,器件,先进,工程,平台
...00英里的速度穿过真空。 然后以激光照射那颗锡球两次，第一次是加热它，第二次是以太阳表面温度好几倍的高温把它轰击成电浆体。这种轰击锡滴的过程，每秒重复5万次，就能产生制造芯片所需的EUV量。再看镜头，起初莱思...……更多
2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片
日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能
![2022年中国CMP抛光液市场规模现状及行业发展前景预测[图]](https://img2.fyun.cc/newsimg/707/394/f4b202dda3b76bb1e0d7e06982ca2de49f6d027e.png)
...达到晶圆表面的高度（纳米级）平坦化效应，使下一步的光刻工艺得以进行。CMP抛光材料按照类别的不同可以分为抛光液，抛光垫，调节器，清洁剂等。其中占比最大的是抛光液，而在抛光研磨中用到的另一种关键耗材则是抛光...……更多
2023-01-06 06:00:00发展前景,抛光,中国,前景,现状,规模
...赚”时代就被彻底打破了，而自诩为科技霸主的美国，也第一次深刻感受到了来自东方大国的竞争压力。按照正常逻辑，美国若想夺回通信话语权，就该加大研发投入，在核心技术方面与我们“真刀真枪”的较量。可它却不讲武...……更多
2024-01-12 15:03:00中美,人民日报,幻想,日报,人民,华为
...将扩展至8-9层。对于美光，其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程，ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩，NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
2024-02-03 21:24:00光刻,节点,三星,世代,工艺,进一
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多
2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁
...上宣布了一则重要消息，该公司已于近日开始采用极紫外光刻（EUV）技术大规模量产Intel4制程节点。这一里程碑式的进展标志着英特尔在推进“四年五个制程节点”计划方面取得了重要成果，并将用于新一代的领先产品。英特尔...……更多
2023-10-15 22:19:00英特,大规,英特尔,制程,节点,大规模
...lk micromachining2.Surface micromachiningBulk Micromachining是一种通过光刻/蚀刻等步骤在材料内部生成结构的方法，其典型代表为SOI制程，它的好处是，MEMS的材料性质与结构尺寸主要由使用的晶圆材料构成，因此拥有较低的原生应力（intr……更多
2023-12-19 14:00:00耐久性,质量,应力,制程,模态,芯片
...。此外，也不清楚台积电是否会在A14工艺上启用High-NA EUV光刻机，但这种新设备的引入可能会为芯片设计人员和制造商带来一些新的挑战。与三星的技术路线图相似，台积电计划在2027年推出SF1.4工艺（即1.4nm级别），纳米片的数...……更多
2023-12-15 10:02:00工艺,工艺,技术,三星,晶体管,制程
一直以来，我国因为没有EUV光刻机，而没办法生产先进的芯片，但是我们并没有坐以待毙，也不会向霸权低头，而是另辟蹊径，用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露，我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机，解...……更多
2024-01-25 10:29:00光刻,光子,霸权,难题,芯片,我国
...工领域的发展。英特尔的18A工艺采用了业界领先的极紫外光刻技术，能够实现更高的晶体管密度和更低的功耗。这一工艺的优化也为微软的定制芯片提供了强大的性能支持。据了解，微软的定制芯片将用于增强其AI服务，包括去...……更多
2024-02-23 10:26:00英特,英特尔,微软,芯片,领域,合作
...界第一款采用台积电 3nm 工艺的手机芯片，也是 3nm 工艺第一次出现普通人就可以买到的大众消费品上。要知道，随着芯片尺寸越来越逼近物理极限，每一代工艺节点升级需要投入也在加速增加，仅台积电一家的 3nm 新增投入就超...……更多
2023-10-11 15:22:00芯片,战争,芯片,工艺,晶圆,三星
...芯片工厂中。据了解，TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机，其配备了0.33数值孔径透镜，相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升，能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面，TWINSCANN...……更多
2024-03-25 01:43:00进一,三代,光刻,差距,晶圆,芯片
...号称投资高达1280亿元，拥有“国内首个能生产7nmASML高端光刻机”，半导体行业大牛、台积电前COO蒋尚义坐镇，但在今年上半年被爆出资金链告急，甚至连厂房都未建成，而那台被高调宣传的光刻机直接被全新原封用作了贷款抵...……更多
2024-03-25 08:00:00之年,俱下,泥沙,风口,泡沫,资本
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
1月1日晚，荷兰光刻机巨头ASML在官网发布声明表示其NXT：2050i及NXT：2100i光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销，将对个别中国客户产生影响。至于上述两款产品的出口许可被撤销将会对该公司的中国客户产生怎样的影响...……更多
2024-01-03 14:40:00光刻,出口,中国,光刻,出口,晶圆
...芯片不像硅基电芯片（集成电路）一般有着对先进制程（光刻机在内）的强依赖。集成电路的性能提升符合摩尔定律，要提升性能必须加大晶体管密度，而随着摩尔定律陷入瓶颈，这一性价比变低。而光芯片却可以通过借助多个...……更多
2024-03-18 09:43:00光子,本位,融资,芯片,天使,芯片
...所使用的芯片要先进得多。此外，中国拥有大量的深紫外光刻机，也能够以低成本生产大量芯片。
科学家们表示，在“天宫”测试的芯片完全是在中国设计和制造的。在测试期间，芯片在中国独立开发的Space OS操作系统上运行...……更多
2024-01-25 10:29:00空间站,中国,芯片,对手,优势,目标
...三个制程节点。Intel4的主要特性包括：其一，广泛采用EUV光刻技术，在满足DIE变小的同时，大幅度简化了制造流程。其二，CPU高性能逻辑库面积相比Intel7缩减约2倍。其三，相比Intel7，带来了20%的性能和能效比提升，其四，实现...……更多
2023-12-15 19:55:00英特,英特尔,脱胎,架构,深度,设计
...能源等高端工业领域。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大核心设备。中赢创投投资总监茹毅先生表示：在半导体设备国产化率较低且国产替代空间广阔的当下，首芯半导体组建了来自国际顶...……更多
2024-03-13 13:46:00融资,融资额,半导体,天使,半导体,设备
...品，必须使用被荷兰ASML（阿斯麦）垄断的采用“极紫外光刻（EUV）”技术的装置，但这种装置存在价格昂贵、耗电量大等问题。为了向市场投放新装置，佳能早在2014年就开始进行持续研发。同时，佳能还与铠侠、大日本印刷等...……更多
2023-10-21 17:24:00日本,美国,半导体,过往,辉煌,日本
1月24日，光刻机巨头ASML（阿斯麦）公布了2023年Q4以及全年的财报。ASML第四季度营收达到72.37亿欧元，毛利率约为51.4%，净利润达20.48亿欧元。第四季度的新增订单金额为91.86亿欧元，其中56亿欧元的增长来自EUV光刻机订单。而从20...……更多
2024-01-25 17:32:00半导体,信号,行业,中国,市场,光刻
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