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纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
近日,佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是重要的半导体制造工艺。10月13日下午,纳米压印概念股拉升,汇创达(300909.SZ)盘中一度涨超14%,美迪凯(688079.SH)、利和兴(301013.SZ...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
...(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先进芯...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...,于是在研究光刻机的同时,又找了另外一条赛道:纳米压印。这次新闻的主角,也正是这个 “ 纳米压印 ” 技术,反正消息一出,吃瓜群众们的反应是最热烈的。像是什么“ 光刻机即将被取代,纳米压印战未来 ” “ ASML 这...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
...管近日在接受采访时表示,公司正在开发一种先进的纳米压印技术,可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说,纳米压印是一种将刻有半导体电...……更多
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...公司18日在横滨市举行了技术展示会,展示了新的“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上绘制精密电路的设备。 2月25日,横滨举办的一场展览上悬挂的佳能公司标志。(法新社)这一新技术运用了佳能公司擅长的喷...……更多
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移 【日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移】财联社10月13日电,日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数快科技11月6日消息,近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供...……更多
纳米压印概念股集体冲高,歌尔股份市值626.96亿元居首
今日纳米压印概念股集体冲高。汇创达午后急速拉升,大涨9.32%;美迪凯随后,收涨4.69%;苏大维格、晶方科技、腾景科技等纷纷跟涨,涨幅均在2%以上。消息面上,10月13日,日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...机技术的先锋探索。在今年10月份,佳能就号称通过纳米压印(NIL),将有可能承担2nm芯片制程的生产。纳米压印完全是和光刻完全不同的技术路线——如前文所说,光刻更像“投影”,那么纳米压可以用“盖印”来比喻。根据...……更多
【科技早报】特斯拉cybertruck中国巡展启幕;宁德时代和滴滴成立换电公司
...工,(IT之家)佳能:目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备据英国金融时报报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称,采用纳米压印技术的佳能光刻设备 FPA-1200NZ2C 目标今年或明年出货...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...门提供给EUV的器件产品,不过近期佳能提出,其采用纳米压印路线的光刻机有望生产2nm芯片,该消息备受关注。对此有业内人士对记者分析,纳米压印并不算是新技术,佳能后续面临的挑战可能在于,是否有客户愿意与其合作,...……更多
...半导体生产设备FPA-1200NZ2C。该设备采用了一种名为“纳米压印”的新技术,可以更加低成本、节能地制造智能手机、数据中心等所需的尖端半导体产品。与以往的工艺不同,“纳米压印”采用的是类似盖章一样绘制电路方式,由...……更多
纳米压印概念发酵 汇创达涨超11% 【纳米压印概念发酵 汇创达涨超11%】财联社10月13日电,纳米压印概念股午后走高,汇创达午后开盘拉升涨超11%,美迪凯、晶方科技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。消息面上,日本佳能公...……更多
兆驰股份:兆驰半导体使用纳米压印技术制作PSS 【兆驰股份:兆驰半导体使用纳米压印技术制作PSS】财联社10月30日电,兆驰股份在互动平台回复投资者称,纳米压印技术在半导体中最常见的应用领域就是LED芯片的PSS图形化制作...……更多
纳米压印概念发酵 汇创达(300909)涨超10%
2023年10月13日,纳米压印概念股午后走高,截至13:10,汇创达(300909)拉升涨超10%,美迪凯、晶方科技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。消息面上,日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执...……更多
...合金压铸零件自动化加工及装配线;大幅面、高精度纳米压印光刻生产线;新一代深远海一体化大型风电安装船;10微米超薄氢燃料电池全氟质子膜;超高清全色激光电视;岩土工程灾变分析软件HazE;“妙手”腔镜手术机器人系...……更多
日半导体供应占6成,去“ASML化”开始?日本高层:从台转移技术
...已经着手开始在这一方面发展,如佳能此前就宣布了纳米压印技术,朝着替代ASML手中EUV光刻机而前进。 此举是日本半导体的翻盘关键,那么为了扶持本土的半导体设备扩张出货市场,要求台积电配合也不是不可能。尤其是现如...……更多
三大指数集体低开 沪指刷新年内新低 【三大指数集体低开 沪指刷新年内新低】财联社10月19日电,沪指低开0.51%,刷新年内新低;深成指低开0.61%,创业板指低开0.67%,减肥药、纳米压印、光刻机等板块指数跌幅居前。 ……更多
张江集团:作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子成功研制出28纳米光刻机
...号在12月19日的推文中提及:上海微电子成功研制出28纳米光刻机。此外文章也肯定了中芯国际、华虹半导体等在先进模拟芯片代工方面不断注入的强劲能量。文章提到,围绕数据前沿技术、算力算法、数据服务、具身智能等领域...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加,这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本,并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
微纳3D打印机“绣出”透明防护衣
...面金属网栅透明电子的制造技术主要包括光学光刻、纳米压印、模板法、激光蚀刻、电镀、丝网印刷、电流体动力喷射打印等,异形曲面金属网栅透明电子制造技术主要包括曲面光刻、激光直写、转印、喷墨打印、气溶胶喷射打...……更多
佳能展示革黑科技镜片Meta Lens 饼干头不是梦
...间尚未确定。但是佳能在CANON EXPO现场,展示了一台纳米压印半导体制造设备,它能够大规模、快速生产Meta Lens 轻便的饼干镜头一直摄影爱好者追捧的产品,但是由于光学技术限制,镜头很难做到很薄,在单反时代凭借着较长的...……更多
2022年中国CMP抛光液市场规模现状及行业发展前景预测[图]
...达到晶圆表面的高度(纳米级)平坦化效应,使下一步的光刻工艺得以进行。CMP抛光材料按照类别的不同可以分为抛光液,抛光垫,调节器,清洁剂等。其中占比最大的是抛光液,而在抛光研磨中用到的另一种关键耗材则是抛光...……更多
谁说千元机不能有好质感?3分钟看懂新机vivo Y100
...面玻璃后盖,观感通透;后盖内部纹理借助纳米激光直写光刻机实现微米级光刻技术,在不同的光线环境下闪耀出光芒。vivoY100产品综述|图片(1)|参数|报价|点评璃光蓝配色同样以传统文化为灵感,机身后盖镀上了纳米级瓷釉质感...……更多
...》。研究团队运用首次构建的弹性模量维度4D纳米弹性体光刻策略,制备了迄今最灵敏的人造弹簧系统,并基于此开发出一系列具有超灵敏度的软体微米机器人,实现了高精度细胞力学研究以及细胞的无影响操纵,有望为显微外...……更多
ROG幻14经典版凭借着出色的配置,令人惊叹
...密打孔,并为其注入了幻彩棱镜光效;左下角嵌入了纳米压印光刻技术打造的炫彩铭牌,无论从哪个角度看都能感受到TA流光溢彩的魅力。此外,独树一帜的小翘跟转轴设计,支持180度\"躺平\",在开启约140。屏幕开合角度时,键...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
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