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韩国、荷兰组建“芯片联盟”:阿斯麦与三星将共建芯片研究中心
....04亿欧元),在韩国建立研究中心,利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究超精细芯片制造工艺。这一事件的背景是,尹锡悦从周一起对荷兰进行为期4天的国事访问。根据日程,当地时间周二,尹锡悦将与荷兰国王威廉·亚历山大、三...……更多
...成电路有限公司申请一项名为“一种基于光罩套刻误差的光刻机台补偿方法”的专利,公开号 CN 119356033 A,申请日期为 2024年5月。专利摘要显示,本发明提供一种基于光罩套刻误差的光刻机台补偿方法,包括:制作光罩,所述光...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
价值3.83亿美元!Intel拿下全球第二台High NA EUV光刻机
...已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV(极紫外光刻机)。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一,其分辨率达到8纳米,能够显著提升芯片的晶体管密度和性能,是实现2nm以下先进制程大规模量产的必...……更多
美光将基于euv光刻的1γnm制程dram技术推迟到2025
...就业。作为减少资本支出的一部分,消息称美光将使用EUV光刻的1γnm制程DRAM推迟到2025年,232层之后的NAND节点也被推迟。美光1γ制造技术中原定于2024年的某个时候推出,但因为美光必须在2023和2024财年减少新设备的支出,并减少D...……更多
2022-12-23 15:09:00光刻,制程,技术
晶瑞电材:子公司krf高端光刻胶部分品种已量产
晶瑞电材在互动平台表示,公司子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司的KrF光刻胶产品分辨率达到0.25-0.13μm的技术要求,已通过部分重要客户测试,KrF高端光刻胶部分品种已量产。 ……更多
联合光电:光刻机镜头技术为自主研发
...型显示、智能驾驶、人工智能等领域。公司具备生产制造光刻机镜头的技术和能力,公司的光刻机镜头技术为自主研发。 ……更多
深交所对苏大维格有关“光刻机”误导性陈述启动纪律处分程序
...日晚间,苏大维格(300331)披露称,深交所对公司有关“光刻机”误导性陈述启动纪律处分程序。深交所表示,苏大维格在互动易平台对投资者提问的有关“光刻机”相关回复受到媒体和投资者广泛质疑,并引起公司股价大幅波...……更多
国联证券给予上海新阳增持评级,光刻胶、研磨液项目进展顺利
...评级理由主要包括:1)涂料业务行情低迷拖累业绩;2)光刻胶、研磨液项目进展顺利。风险提示:晶圆化学品市场开拓不及预期,光刻胶业务的进展慢于预期,新基地产能建设不达预期。AI点评:上海新阳近一个月获得2份券商...……更多
【扬帆新材:公司目前不生产光刻胶】财联社6月3日电,扬帆新材披露股票交易异常波动暨严重异常波动公告,公司目前不生产光刻胶,公司光引发剂产品也不涉及半导体相关领域应用。公司2023年和2024年一季度都处于亏 损状态...……更多
【阿斯麦和IMEC联合光刻实验室启用】财联社6月3日电,比利时微电子研究中心(IMEC)和阿斯麦6月3日宣布,由双方共同运营的High-NA EUV光刻实验室(High NA EUV Lithography Lab)在荷兰费尔德霍芬(Veldhoven)开幕,该实验室可提供High N...……更多
差距进一步扩大?ASML第三代EUV光刻机交付
...芯片工厂中。据了解,TWINSCANNXE:3800E是ASML的第三代标准EUV光刻机,其配备了0.33数值孔径透镜,相较于此前发布的TWINSCANNXE:3600D性能有了进一步提升,能够支持未来几年芯片行业3nm以及2nm制程芯片的生产制造。在性能方面,TWINSCANN...……更多
...准影像测量仪、光学显微镜等光学精密测量设备和高精度光刻机母版制造设备的二维线纹标准器的测量能力空白,核心技术实现完全自主可控。据市场监管总局相关负责人介绍,二维线纹基准装置测量范围为320mm×320mm,最优测量...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
江苏证监局公开处罚决定,苏大维格被警告并罚款,涉嫌误导性陈述
...大维格在列,根据处罚决定书,在当时市场普遍热议芯片光刻机,且普通投资者普遍认为“光刻机”是指芯片光刻机的背景下,公司董秘在互动易回复中刻意修改删除证券部草拟的回复初稿,将“激光直写光刻设备”简称为“光...……更多
...股份有限公司(以下简称“苏大维格”)发布关于公司“光刻机”生产销售的不实信息,导致股价异动,引发市场质疑。我会立即部署,迅速立案,查明事实,严肃惩处,已向上市公司及相关责任人送达了《行政处罚事先告知书...……更多
英特尔将在未来冲击1nm工艺:基于新一代光刻机
...当长的距离,此外想要实现如此先进的工艺制程,采用EUV光刻机必不可少,而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步,光刻机的功耗也越来越高,据悉为了满足如此先进的制程工艺,ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
单台售价超25亿!ASML最先进光刻机产能被美国厂商英特尔承包,三星SK海力无奈
快科技5月8日消息,ASML最先进EUV光刻机今年订单已经被Intel包揽,其单台售价超过了25亿元。据悉,ASML截至明年上半年最先进EUV设备的订单已经由英特尔承包,而今年计划生产的五套设备也将全部运给这家美国芯片制造商。按照...……更多
佳能推出半导体制造用晶圆测量机
...而曝光前要测量的对准测量点也越来越多。如果在半导体光刻机中对数量众多的测量点进行对准测量的话,测量本身会非常耗时,进而就会降低半导体光刻机的生产效率。为此,半导体制造领域引进了晶圆测量机,将半导体光刻...……更多
...炒作风险。 12、7天6板西陇科学公告,公司未生产、销售光刻胶,生产和销售的光刻胶配套试剂为清洗剂、显影液、剥离液等。 13、北方华创公告,本次股权无偿划转完成后,公司控股股东将由七星集团变更为北京电控,实际控...……更多
因需求过高,ASML 取消非员工订购的 High-NA EUV 光刻机乐高模型
...IT之家 12 月 23 日消息,X(原推特)用户 @jonmasters 发现,光刻机制造商阿斯麦(ASML)正在取消非员工订购的限量版 Twinscan EXE:5000 乐高模型订单。这款售价 230 美元(IT之家备注:当前约 1678 元人民币)的乐高套装是对价值 3.8 亿...……更多
...下挫跌1%,深成指跌0.18%,创业板指涨0.46%。保险、军工、光刻机等方向跌幅居前,沪深京三市下跌个股近3300只。军工股午后继续走低,军工电子、军工装备等方向领跌,中航沈飞、利君股份、晨曦航空、航天宏图、中无人机、...……更多
加强前瞻技术布局 提升显示产业竞争力
...。”郭太良说,2019年日本限制向韩国出口氟聚酰亚胺、光刻胶、高纯度氟化氢,曾严重影响韩国的半导体和新型显示行业发展,为我国的半导体和新型显示产业链安全敲响警钟。对此,郭太良建议,我国亟需破解显示产业的技...……更多
光刻机巨头 ASML 联合创始人维姆・特鲁斯特逝世,享年 98 岁
IT之家 6 月 12 日消息,光刻机巨头 ASML 公司 6 月 11 日在社交媒体发文,悼念 ASML 创始人之一维姆・特鲁斯特(Wim Troost)离世。另据《埃因霍温日报》,Wim 于上周五(6 月 8 日)上午逝世,享年 98 岁。ASML 称,“Wim Troost 去世了...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
中国全面翻盘!美国心态崩了!5个重大突破传来,太不容易了!
...达成智能网联汽车的批量生产并落地。 不久前,中国在光刻机领域取得了重要突破。在西方国家的科技封锁下,中国最终成功实现了光刻机的自主研发。令人意想不到的是,就在这个好消息传开之后,美国和荷兰这两个芯片强...……更多
日本Rapidus欲建全自动2纳米芯片工厂,交付速度可提升2/3
...之一。该公司工厂的外观结构计划于今年 10 月完工,EUV 光刻设备将于 12 月进场。全自动化工厂有望帮助 Rapidus 在竞争激烈的半导体制造领域取得优势。虽然芯片制造的前端工艺,包括 EUV 光刻,已经在大多数生产设施中实现了...……更多
外交部批美阻止荷兰阿斯麦公司售华光刻机:严重违背国际贸易规则
...ML)1日发布消息称,荷兰政府最近吊销了NXT:2050i和NXT:2100i光刻系统的发货许可证,“此举将对阿斯麦在中国的少数客户产生影响”。美国彭博社2日援引知情人士的消息称,阿斯麦是应美国拜登政府要求,在高端芯片制造设备出...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加,这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本,并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
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