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芯恩申请一种基于光罩套刻误差的光刻机台补偿方法专利，节省试运行时间及成本
金融界2025年1月28日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“一种基于光罩套刻误差的光刻机台补偿方法”的专利，公开号 CN 119356033 A，申请日期为 2024年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种基于光罩套刻误差的光刻机台补偿方法，包括：制作光罩，所述光罩上设置有多个光罩对准标识；对所述光罩对准标识进行量测；采用前馈系统建立量测数据模型并计算光罩套刻误差各参数的补偿值；所述光刻机台根据所述补偿值进行实际曝光时的补偿。本发明通过前馈系统补偿光罩套刻误差至光刻机台以提前消除因光罩制造工艺引入的最终产品曝光区域内套刻误差，节省了试运行时间及成本。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目165次，知识产权方面有商标信息15条，专利信息508条，此外企业还拥有行政许可55个。
本文源自：金融界
作者：情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端
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快照生成时间：2025-01-28 20:45:01
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