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日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...息网10月20日报道据日本《朝日新闻》10月19日报道,日本佳能公司历时10年开发出的新技术产品——可用于半导体制造的一种光刻设备——已经正式开售。日本制造企业曾经垄断光刻机市场,但后来被荷兰的阿斯麦(ASML)碾压。上...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数快科技11月6日消息,近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
最近,芯片圈儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片...……更多
佳能向得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
IT之家 9 月 27 日消息,佳能日本东京当地时间昨日宣布,将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。得克萨斯电子研究所成立于 2021 年,由...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
据媒体报道,佳能高管近日在接受采访时表示,公司正在开发一种先进的纳米压印技术,可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说,纳米压印是...……更多
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移 【日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移】财联社10月13日电,日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...市场占据75%份额,在韩国、中国和美国市场份额都达50%;佳能略晚推出步进式光刻机,彼时在欧洲市场份额占一半,世界其他地区是10%~15%;NEC一度多年是半导体销售额全球第一的企业。在尼康和佳能高歌猛进的那些年,今天的...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
近日,佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是重要的半导体制造工艺。10月13日下午,纳米压印概念股拉升,汇创达(300909.SZ)盘中一度涨超14%,美迪凯(688079.SH)、利和兴(301013.SZ...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...也出现了下一代光刻机技术的先锋探索。在今年10月份,佳能就号称通过纳米压印(NIL),将有可能承担2nm芯片制程的生产。纳米压印完全是和光刻完全不同的技术路线——如前文所说,光刻更像“投影”,那么纳米压可以用“...……更多
...多大?突破技术加大投资据《日本经济新闻》报道,日本佳能公司日前开始销售半导体生产设备FPA-1200NZ2C。该设备采用了一种名为“纳米压印”的新技术,可以更加低成本、节能地制造智能手机、数据中心等所需的尖端半导体产...……更多
纳米压印概念股集体冲高,歌尔股份市值626.96亿元居首
...等纷纷跟涨,涨幅均在2%以上。消息面上,10月13日,日本佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是最重要的半导体制造工艺。随着掩模技术的进一步改进,NIL有望使电路图案化的最小线...……更多
中国不买了,三大光刻机企业都降低预期,后悔莫及
日前全球三大光刻机企业ASML、尼康、佳能都发布了业绩无法达到年初预计的目标,原因就在于中国在减少采购光刻机,凸显出中国市场对全球芯片设备市场的巨大影响力。全球最大的光刻机企业ASML最为悲观,ASML的新增订单环...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
10月14日消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
10月16日消息,近日,全球知名的光学和成像产品制造商佳能公司宣布,他们已经开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。这款设备的独特之处在于,它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯...……更多
【科技早报】特斯拉cybertruck中国巡展启幕;宁德时代和滴滴成立换电公司
...戏部门总人数 8%,该部门拥有约 22000 名员工,(IT之家)佳能:目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备据英国金融时报报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称,采用纳米压印技术的佳...……更多
日本半导体产业的行与不行
...:东京电子、爱德万、尼康、SCREEN、迪斯科、国际电气、佳能,东京精密、Lasertec、TOWA,荏原、Ulvac。此外,半导体工厂的搬运设备,日本企业也有很强的存在感,包括村田机械、大福、Rotze等;晶圆检查装置亦然,主要包括日...……更多
努力6年后,国产光刻机取得重大突破,外媒:西方的封锁失败了
...位大佬在玩,荷兰的ASML那是绝对的王者,日本的尼康和佳能紧随其后,咱们中国的上海微电子也在努力追赶。但要是论起市场份额,那简直是天差地别——ASML一家独大,占了八成五还多,尼康佳能加起来也就分了点儿汤喝,而...……更多
日半导体供应占6成,去“ASML化”开始?日本高层:从台转移技术
...上,日本的光刻机企业已经着手开始在这一方面发展,如佳能此前就宣布了纳米压印技术,朝着替代ASML手中EUV光刻机而前进。 此举是日本半导体的翻盘关键,那么为了扶持本土的半导体设备扩张出货市场,要求台积电配合也不...……更多
​光刻机之战
...会上明确得知:还没有人找到这种芯片的光刻解决方案。佳能、GCA、尼康和Perkin-Elmer公司制造的机器仍然使用导程螺丝杆来移动晶圆台,他们的图像细节达不到小于1微米的定位精度,而这正是ASML技术的优势所在。 作为一名航...……更多
佳能展示革黑科技镜片Meta Lens 饼干头不是梦
在CANON EXPO展览上,佳能展示了黑科技镜片Meta Lens,它表面由海量圆柱组成,一片镜片就能代替多片传统镜片,有了它制造饼干头不再是梦。Meta Lens是一项研究多年技的术,在CANON EXPO上展示的镜片厚度不到1mm,却能代替多片传统...……更多
...技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。消息面上,日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,这是最重要的半导体制造工艺。随着掩模技术的进一步改进,NIL有望使电路图案...……更多
制造光刻机 40 年,一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密
...临的另一个挑战是它缺乏先进生产工艺,竞争对手尼康和佳能都有当时顶尖的光学镜头生产线。仅靠自己,ASML 造不出光刻机这样的复杂机器。它必须集结所有脑力、资金和灵巧的手。斯密特热爱航空,大学时主修航天工程、爱...……更多
纳米压印概念发酵 汇创达(300909)涨超10%
...技、利和兴、苏大维格等纷纷大幅拉升。消息面上,日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,这是最重要的半导体制造工艺。随着掩模技术的进一步改进,NIL有望使电路图案...……更多
ASML相当于承认了,美国担忧的结局出现,芯片规则宣告失效!
...芯片制造业未必不可能。根据市场的消息,日本的尼康、佳能已经件DUV光刻机做到了10nm的精度,已经满足于5nm、甚至是3nm芯片的制造,而我们的技术已经有对应底蕴了,65nm肯定只是一个开始,在未来3-5年肯定会有飞跃性的提升...……更多
美国芯片制造业支棱不起来,全怪一张膜?
...谷光刻集团,在造 DUV 光刻机时,一直打不过日本的尼康佳能和荷兰的 ASML ,于是他们准备另辟蹊径超车,早早研发 EUV 技术。早在1997 年的时候,美国能源部就和英特尔一起,整了个EUV LLC 联盟,不仅拉来了三大国家实验室,甚...……更多
ASML新增订单少一半,EUV光刻机失宠了?
...再用更先进的光刻机,也能够量产更先进的芯片。于是,佳能推出了NIL工艺,不用EUV光刻机,也能够生产5nm等芯片;台积电等巨头都在发展小芯片封装技术,在制程等不变的情况下,通过先进封装技术,提升芯片性能。还有就是...……更多
开放RF卡口,佳能为什么放弃多年坚守?
...极短的时间破千万,引发了多圈层的相关话题讨论。图源佳能官网四月二十三日,腾龙中国正式宣布开发腾龙首款RF卡口镜头产品,据了解产品全称为11-20mmF/2.8DiIII-ARXD,产品内部代号(型号B060),这是一款适用于APS-C画幅无反相...……更多
佳能悄然停产所有eos-m相机
10月20日消息,早在11年前的2012年7月,佳能就凭借EOS-M涉足无反光镜相机领域。今天,佳能日本悄然停产了所有EOS-M相机,为RF-S让路。佳能日本官网显示,所有EOS-M相机机身现已停产,包括流行的EOSM50和M50MarkII。佳能美国也不再...……更多
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