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苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...积电的;再说了三星逆周期扩张存储芯片工厂,却面临着中国的狙击,中国也在大举扩张存储芯片产能,如此情况下,三星是否还有底气继续扩张存储芯片产能而采购更多光刻机呢?中国可是全球最大的芯片采购国,中国的存储...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
随着半导体器件制造商向2纳米工艺过渡的成本不断增加,每片2纳米晶圆的成本已经超过30万元人民币。根据IBS的报告,一家月产能为5万片晶圆的2纳米晶圆厂(WSPM)的建设成本约为280亿美元,而相同容量的3纳米晶圆厂则需要约...……更多
【科技早报】特斯拉cybertruck中国巡展启幕;宁德时代和滴滴成立换电公司
...研发及搭载测试。(新浪财经) 特斯拉赛博越野旅行车中国巡展正式开启1月28日,特斯拉官博宣布,特斯拉赛博越野旅行车中国巡展正式开启,地点分别位于北京·华贸中心、上海·兴业太古汇、深圳·万象天地、杭州·湖滨in77...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...不上,于是在研究光刻机的同时,又找了另外一条赛道:纳米压印。这次新闻的主角,也正是这个 “ 纳米压印 ” 技术,反正消息一出,吃瓜群众们的反应是最热烈的。像是什么“ 光刻机即将被取代,纳米压印战未来 ” “ ASML...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
近日,佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是重要的半导体制造工艺。10月13日下午,纳米压印概念股拉升,汇创达(300909.SZ)盘中一度涨超14%,美迪凯(688079.SH)、利和兴(301013.SZ...……更多
张江集团:作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子成功研制出28纳米光刻机
...方账号在12月19日的推文中提及:上海微电子成功研制出28纳米光刻机。此外文章也肯定了中芯国际、华虹半导体等在先进模拟芯片代工方面不断注入的强劲能量。文章提到,围绕数据前沿技术、算力算法、数据服务、具身智能等...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
...中能够实现更高的重叠精度(MMO),其精度值甚至小于2.1纳米。这一突破性的技术进步将使得芯片制造商能够在更小的空间内实现更高的集成度,进一步提升了芯片的性能和功能。除了高精度的特点,NSR-S636E光刻机还具有高分辨...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
...佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商生产先...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...佳能公司18日在横滨市举行了技术展示会,展示了新的“纳米压印”光刻设备。这是一种在半导体晶圆上绘制精密电路的设备。 2月25日,横滨举办的一场展览上悬挂的佳能公司标志。(法新社)这一新技术运用了佳能公司擅长...……更多
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻...……更多
...精准医疗带来新方法深圳特区报讯(记者 闻坤)近日,中国科学院深圳先进技术研究院生物医学与健康工程研究所副研究员徐海峰团队的最新研究成果发表于《自然—纳米技术》。研究团队运用首次构建的弹性模量维度4D纳米弹...……更多
SK海力士将升级中国半导体工厂:采用第四代10纳米工艺
...美国对华极紫外(EUV)光刻机出口相关限制,以提升其在中国的半导体工厂的技术水平。这一举动被视为,随着半导体市场的复苏以及中国高性能半导体制造能力的提升,一些韩国芯片企业正在采取一切可以使用的方法来提高在...……更多
...被打压而一落千丈的日本半导体产业,会趁美国当下遏制中国半导体产业而卷土重来吗?在上世纪80年代,日本制造的半导体一度占据全球市场份额的50%左右,如今的份额却不足10%。美国全力拉拢盟友打压中国半导体产业,日本...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
...能高管近日在接受采访时表示,公司正在开发一种先进的纳米压印技术,可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说,纳米压印是一种将刻有半导...……更多
谁说千元机不能有好质感?3分钟看懂新机vivo Y100
...感已经成为厂商发力的新方向。而vivoY100的琉云青配色以中国传统文化中的“琉璃”为灵感,采用旗舰级别的3D双曲面玻璃后盖,观感通透;后盖内部纹理借助纳米激光直写光刻机实现微米级光刻技术,在不同的光线环境下闪耀...……更多
反击终于有结果了?美国突然宣布“解禁”,外媒:简直可笑
...其领先的技术,在全球市场上获得了巨大成功,尤其是在中国市场,它们几乎形成了垄断地位。然而,华为麒麟芯片及5G技术的崛起,打破了高通在国内市场的垄断,给美国企业带来了巨大的挑战。面对华为等中国企业的技术突...……更多
ASML两款光刻机出口许可被撤销;比亚迪Q4纯电车销量超特斯拉
...点聚焦两款光刻机出口许可被撤销,ASML:影响了对个别中国客户发运设备荷兰光刻机厂商ASML官网表示,其两款光刻系统的出口许可证已被荷兰政府部分撤销,将对部分中国客户产生影响。此举意味ASML只能向中国出口1980Di产品,...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
...越来越高。从上世纪末开始,光源的波长一直被卡在了193纳米。那么,怎么才能获得更短波长的光源呢?当时,台积电的林本坚提出了一个方案,将晶圆的光刻胶上增加1毫米厚的水,从而将193纳米的光折射成134纳米的光。基于...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...光刻机技术的先锋探索。在今年10月份,佳能就号称通过纳米压印(NIL),将有可能承担2nm芯片制程的生产。纳米压印完全是和光刻完全不同的技术路线——如前文所说,光刻更像“投影”,那么纳米压可以用“盖印”来比喻。...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
...一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示,这套新的生产设备的工作原理与行业领导者ASML的设备截然不同。它并非采用光刻技术,而是采用了更类似于印刷的技术。这种技术并没有利用...……更多
台积电再受打击,苹果M2 Pro并未用上3纳米,先进工艺问题重重
...面有较大幅度的提升,不过遗憾的是并未采用台积电的3纳米工艺,这对于台积电来说无疑是较大的打击,意味着它的3纳米工艺量产后仍然面临问题。据悉苹果新推出的M2 Pro处理器的晶体管数量较M1 Pro增加了20%,在性能方面将进...……更多
当贝与爱普生就Mars Pro投影仪的误导性亮度声明达成和解
...何,这些新芯片组的推出只有在苹果向台积电大量出货3纳米的情况下才有可能,据《经济日报》报道,这家台湾公司的订单预计将增加50%。通过此举,苹果应该会在 2024年成为台积电的最大客户,虽然A18和A18Pro应该会贡献更大的...……更多
日本半导体产业的行与不行
日本的成败对正在大力发展半导体产业的中国有非常强的参考价值日本半导体产业在上世纪80年代到达顶峰后就在缓慢退步,但若简单认为日本半导体产业失败了,就是严重误解,今天日本半导体产业仍有非常有竞争力的企业和...……更多
钛媒体科股早知道:苹果大力推广这一新技术,可提供身临其境3D细分领域体验
...更快。太平洋证券认为,伴随晶圆制制造规模持续提升,中国有望承接半导体光刻胶产业链转移。必读要闻四:13日起大范围雨雪+寒潮再上线,下游电厂日耗有望上涨中央气象台预计,13日至15日,内蒙古中部、陕西北部和东部...……更多
美芯技术停滞,美国再给116亿美元胡萝卜,台积电决定吃下了
...美元的低成本政府贷款,此举意在吸引台积电赴美建设2纳米工厂,意味着美国芯片企业在2纳米研发方面并未取得技术进展。美国为了扶持自家芯片企业的发展,可谓竭尽全力,此前拿出的520亿美元芯片补贴,最终有七成给了Inte...……更多
非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...和发展这套系统,未来有望用于生产2nm芯片。IT之家注:纳米印刷(Nanoprintedlithography)通常被认为是光学光刻的低成本替代品,SK海力士和铠侠等存储芯片制造商过去曾尝试过使用。铠侠此前进行过测试,不过潜在客户提出投诉...……更多
​光刻机之战
...刻巨人:ASML崛起之路》一书作者瑞尼·雷吉梅克在接受《中国经济周刊》采访时说的那样:如果你想制造出一台光刻机,就需要在技术上投入大量的资金和人力,然而这样的技术也只能维持几代人。想复制ASML的成功,需要企业...……更多
vivo Y100图赏:打造有质感的东方美学千元机
...100的两款颜色:琉云青和玻光蓝。琉云青后盖内纹理借助纳米激光直写光刻机实现微米级光刻技术,凭借超过50道工序,打造500片羽纱纹理共同构成,玻璃后盖可触摸的纹理采用萤石AG工艺,闪耀通透,提升握持感。玻光蓝后盖...……更多
跑分显示骁龙8 Gen 4的Geekbench 6多核性能比前代领先46% 直逼苹果M3
...但代价是功耗。 幸运的是,据说该 SoC 将在台积电的 3 纳米\"N3E\"上量产,因此这种光刻技术效率的提高可以抵消仅使用性能核心作为 CPU 集群一部分所带来的不利影响。与苹果的 M3 相比,后者在单核和多核成绩上都勉强快于骁...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...更好的分辨率:名为EXE的新平台可以为芯片制造商提供8纳米的CD。这意味着他们可以打印比NXE系统小1.7倍的晶体管,从而实现晶体管密度提高2.9倍。我们如何在高数值孔径EUV系统中获得更高的分辨率?芯片制造商为何投资新技术...……更多
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