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成都超迈光电取得大尺寸高均匀性的等离子刻蚀机专利，可方便对硅片的四周边缘进行刻蚀
金融界2025年5月12日消息，国家知识产权局信息显示，成都超迈光电科技有限公司取得一项名为“一种大尺寸高均匀性的等离子刻蚀机”的专利，授权公告号CN222838789U，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，本实用新型涉及刻蚀设备技术领域，具体涉及一种等离子刻蚀机，包括刻蚀腔体，所述刻蚀腔体内部的一侧设置有等离子体源，所述刻蚀腔体内底壁设置有底座，所述底座上转动设置有旋转板，所述旋转板上设置有放置板，所述放置板用于放置硅片，所述放置板上还设置有压板，所述刻蚀腔体内还设置有压紧装置，所述放置板上放置有硅片时，所述压紧装置用于将压板压紧在硅片上；所述底座上设置有旋转装置，所述旋转装置用于带动旋转板转动，所述等离子体源位于硅片的一侧，所述旋转板带动硅片旋转的过程中，所述硅片的每个侧边均可与等离子体源的出射方向相对应。本实用新型可方便对硅片的四周边缘进行刻蚀。
天眼查资料显示，成都超迈光电科技有限公司，成立于2014年，位于成都市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本5000万人民币。通过天眼查大数据分析，成都超迈光电科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目21次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息50条，此外企业还拥有行政许可2个。
本文源自：金融界
作者：情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端
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快照生成时间：2025-05-12 14:45:06
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