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作为摩尔定律的提出者，Intel也是最坚定的摩尔定律捍卫者，多次表示半导体工艺还会继续提升下去，在现有4年掌握5代CPU工艺之后，Intel还启动了未来两代的CPU工艺研发，目标逼近1nm了。Intel的5代CPU工艺分别是Intel7、Intel4、Intel...……更多
2023-02-11 21:32:00摩尔,定律,冲击,工艺,工艺,光刻
...称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续摩尔定律。ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径数值)，临界尺寸(CD)为13.5nm，最小金属间距为26nm，单次曝光下的内连接间距约为25-30nm，适合制造4/5nm工艺。使用双重曝光...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
...D的首席执行官Zvi Or-Bach就曾得出过同样的结论，可以说“摩尔定律”已经停止在了28nm节点上，不再真正有效。晶体管或者芯片成本居高不下，一个重要原因就是先进工艺越来越复杂，所需要的制造设备、工厂都价格高昂，比如...……更多
2024-02-05 11:00:00摩尔,越来,定律,芯片,越来越,秘密
...着相当重要的作用。正如2017年7nm芯片量产之时，行业内摩尔定律终结的声音不绝于耳，但 ASML掏出的EUV光刻机使得芯片突破了物理极限的限制，硬生生又给摩尔定律又续了十年命。到了如今2nm的节点，ASML依旧发挥着救火作用。...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
Intel的创始人之一的戈登·摩尔是摩尔定律的提出者，指出芯片晶体管密度18-24个月翻倍，50多年来Intel也是最坚定的摩尔定律捍卫者，尽管这几年中质疑定律失效的声音也越来越多。摩尔定律需要半导体工艺2年左右就要升级一代...……更多
2023-03-01 20:51:00能效,处理器,目标,处理,摩尔,晶体管
...是一场系统级综合实力的较量。一、 3 条创新路径，续命摩尔定律还记得1946年在美国诞生的世界上第一台电子计算机么？它是一个占地150平方米、重达30吨的庞然大物，耗电量高达150千瓦。如果计算机发展停滞在那一刻，那么家...……更多
2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术
提到集成电路行业，那么永远绕不过一个名词，就是摩尔定律。但摩尔定律只是经验之谈，本质是预测，并非什么物理层面的约束。十年前，当14纳米工艺首次亮相时，整个半导体行业似乎正处于一个转折点。当时，许多专家和...……更多
2024-08-07 09:43:00摩尔,定律,纳米,进化,芯片,物理
...持续变化和发展。封装工艺细节英特尔联合创始人戈登·摩尔曾在1965年提出，当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件数目约每隔18至24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。这一定律也被称为“摩尔定律”，其预测了在可...……更多
2024-09-09 14:36:00融资,芯片,国产,战略,设备,技术
...材料，更高的技术来优先缩小栅极的宽度，栅极的发展比摩尔定律的发展更快。一个有意思的事情：在晶圆厂们130nm工艺的时候，其实栅极宽度约为70nm，那时候栅极的发展，实际快于晶体管技术、整体工艺的的发展。但遵循摩尔...……更多
2023-02-04 15:59:00摩尔,栅极,发展,定律,更快,工艺
...性缩放打开了一扇大门，从而让密度提高2.9倍，扩展了“摩尔定律”假设，即芯片上晶体管的数量每两年就会增加一倍。此外，High NA EUV支持更高的成像对比度，每次曝光所需的光线更少，从而减少了打印每层所需的时间，加速...……更多
2024-04-23 10:24:00英特,光刻,英特尔,最先,全球,系统
...刻机，型号为“Twinscan EXE:5000”，它将帮助Intel继续推进摩尔定律。Intel早在2018年就向ASML订购了这种新一代光刻机，将用于计划今年量产的Intel 18A制造工艺，也就是1.8nm级别。Intel还第一个下单了改进型的Twinscan EXE:5200，将在20……更多
2024-01-07 22:00:00刻机,紫外光,全球,光刻,刻机,俄勒冈州
Inttel联合创始人之一的戈登·摩尔在上世纪60年代提出的摩尔定律被认为是半导体行业的金科玉律，指导行业发展50多年，然而近年来质疑摩尔定律失效的声音越来越多，因为现在的芯片每两年翻倍晶体管的可能越来越小了。事...……更多
2023-01-15 13:17:00摩尔,功耗,定律,芯片,多年,摩尔
...限了。毫无疑问根据英特尔曝光的消息，英特尔这里希望冲击的是A14以及A10两个工艺，相当于1.4nm以及1nm，只是这两个工艺距离正式量产还有相当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机...……更多
2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺
...个晶体管的方法，然后是100个……仙童联合创始人戈登·摩尔在1965年发现，随着工程师们学会制造越来越小的晶体管，每个芯片上可安放的元器件数量每年都会翻倍。这一对芯片计算能力指数级增长的预测，就是著名的“摩尔定...……更多
2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片
...系方璐副教授、乔飞副研究员联合攻关，提出了一种摆脱摩尔定律的全新计算架构：光电模拟芯片。摩尔定律1965年由英特尔创始人之一戈登·摩尔提出，即每隔约两年，集成电路可容纳的晶体管数目便增加一倍。但是随着晶体管...……更多
2023-10-30 20:17:00摩尔,清华大学,清华,定律,光电,芯片
在过去半个多世纪，集成电路技术开创了摩尔时代，如今芯片晶体管密度已达到亿量级每平方毫米。我们在材料、工艺、器件、集成、架构、生态六大技术引擎驱动下，获得了摩尔浪潮。实际上，早在十几年前，人们已经意识...……更多
2024-07-27 09:30:00多维度,新材,多维,摩尔,芯片,清华
...自：人民网人民网上海11月6日电 （焦磊）几十年来，“摩尔定律”被认为是科技进步的主要动力之一，预言了芯片日新月异的发展进程。科技企业通过不断探索，持续推进半导体创新，在产品领先性、制造、制程工艺及封装、...……更多
2023-11-06 14:43:00晶体管,晶体,半导体,业内,目标,英特
...讯（记者陈彬）随着晶体管尺寸接近物理极限，近10年内摩尔定律已经放缓甚至面临失效，构建新一代计算架构成为高度关注的前沿热点。对此，中国工程院院士、清华大学自动化系教授戴琼海等人组成攻关团队，提出一种“挣...……更多
2023-11-02 07:05:00摩尔,超高,定律,光电,芯片,芯片
...制程（光刻机在内）的强依赖。集成电路的性能提升符合摩尔定律，要提升性能必须加大晶体管密度，而随着摩尔定律陷入瓶颈，这一性价比变低。而光芯片却可以通过借助多个波长、频段的光进行并行计算，且彼此不会进行干...……更多
2024-03-18 09:43:00光子,本位,融资,芯片,天使,芯片
...”。这一下直接给我干懵了：英特尔用创始人名字命名的摩尔定律（ Moore\'s Law ）我是知道的——随着芯片制程工艺的提升，处理器晶体管的数量每两年提升一倍。但你们公司名字的这个 Frore\'s Law 是个啥？你们的风扇也要每两...……更多
2024-07-19 09:50:00光刻,风扇,东西,风扇,光刻,功耗
半导体工艺正在朝着摩尔定律发展，大致的意思就是体积越小，性能越强悍。就比如当年的电脑，世界上第一台电脑的体积堪比一栋大楼，但是现在已经进化成了一台笔记本，单手就能轻松操控，对于几十年前的人来讲，现在...……更多
2024-02-08 09:08:00神机,手机,芯片,工艺,制程,性能
...所以从 7nm 以后，整个业界的「制程焦虑」越发明显，对摩尔定律新出路的探索越发加快。当然回到 3nm 上，台积电和三星也不是毫无准备的。N3E 才是台积电真正的 3nm，三星押宝 GAA相比 A17 Pro 上采用的 N3B 工艺，N3E 是台积电计...……更多
2023-10-11 15:22:00芯片,战争,芯片,工艺,晶圆,三星
...法，例如，新颖的架构、先进封装等也可以提高性能。但摩尔定律本质上成为普遍法则是有原因的：50多年来，晶体管“微缩”一直是计算能力指数级增长的幕后推手。多年来，我们一直在将深紫外(DUV)光刻技术推向极限。为了...……更多
2024-01-28 22:23:00光刻,直达,分辨率,全球,光刻,芯片
...究后 1.4nm 时代的先进逻辑制程技术，实现三星不断超越摩尔定律的承诺。三星电子同步确认，其仍计划在 2024 下半年量产第二代 3nm 工艺 SF3。而在更传统的 FinFET 晶体管部分，三星电子计划于 2025 年推出 SF4U 制程。这一节点将通...……更多
2024-06-13 13:33:00三星电子,三星,封装,光学,领域,工艺
...样的承诺将是一件有趣的事情。有了这些，可以肯定地说摩尔定律仍然有效。然而，我们不会质疑它在现代的重要性，主要是因为关注其他因素，比如加快架构的进步，会带来巨大的性能提升。在人工智能计算时代，过程收缩发...……更多
2024-06-03 20:11:00三星,节点,将于,准备,工艺,三星
...对套刻精度的要求更高。需要说明的是，套刻精度与制程工艺是两码事，新光刻机的套刻精度小于8纳米，不意味着能够量产8纳米工艺制程的芯片，实际上也不存在所谓的8纳米制程工艺芯片，不少人认为套刻精度与量产工艺节点...……更多
2024-09-30 09:57:00突破,技术,光刻,芯片,制程,氟化
...务，预计会因为减少了维护与备份零组件的营收，进一步冲击ASML 的营收。另外，像ASML和应用材料这样的海外设备供应商，一般都会派驻工程师长时间驻扎在大客户的晶圆厂中，以求能快速帮助解决在实际生产线上的问题。但以...……更多
2024-09-02 13:35:00荷兰,设备,光刻,荷兰,芯片,半导体
...电比肩的芯片制造企业。
三星已量产全球最先进的3纳米工艺，率先引入GAA工艺，比台积电仍然采用FinFET工艺的3纳米还要先进，随着全球的芯片制造工艺转向5纳米及以下工艺，三星闲置了大量的DUV光刻机，这些DUV光刻机比日本...……更多
2024-06-29 09:19:00光刻,韩国,日本,中国,光刻,中国
...（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数量也在持续增长。报道援引消息人士的话表示，三...……更多
2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程
...，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，将在12月14日正...……更多
2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程
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