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...科技2月17日消息，ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机，将用于2nm工艺以下芯片的制造，台积电、三星未来也会陆续接收，可直达1nm工艺左右。那么之后呢？消息称，ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机，继续延续...……更多
2024-02-17 16:31:00光刻,冲击,工艺,研究,光刻,间距
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机，其中Intel就定了多达6台。同时，三星星也在积极角逐新光刻机，台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，...……更多
2023-12-21 18:02:00光刻,生产,光刻,刻机,新光,工艺
...当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步，光刻机的功耗也越来越高，据悉为了满足如此先进的制程工艺，ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺
2023-12-24 15:41:15 作者：姚立伟近日，荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径（High NA EUV）的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解，每台新机器的成...……更多
2023-12-24 17:02:00光刻,孔径,荷兰,数值,成本,公司
...了，Intel4会在下半年的14代酷睿上首发，还会首次用上EUV光刻工艺。Intel3是Intel4的改良版，Intel20A及之后的18A则是重大升级，相当于友商的2nm、1.8nm节点，将在2024年上半年及下半年量产，2025年将重新夺回半导体工艺的领导地位。...……更多
2023-02-11 21:32:00摩尔,定律,冲击,工艺,工艺,光刻
...降低功耗的道路上，3条创新路径的重要性愈发凸显：1、光刻、材料与器件架构：引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步；新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术
...物分子工程国家重点实验室魏大程团队设计了一种功能型光刻胶，利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连，集成度达到特大规模集成度（ultra-large-scaleintegration，ULSI）水平。2024年7月4日，该成果...……更多
2024-07-14 13:25:00光刻,功能型,团队,功能,设计,光刻
尽管中国国内一直都没有获得荷兰ASML的高端光刻机，比如EUV光刻机，但是大量半导体制造企业都还是购买了ASML的DUV光刻机。而且在今年禁令实现之前，ASML各类型的DUV光刻机，几乎都销往了国内。所以从这个角度而言，国内半...……更多
2024-09-02 13:35:00荷兰,设备,光刻,荷兰,芯片,半导体
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要，但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题，中国各个机构就一直为此努力，2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题，2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
2024-09-27 13:44:00芯片,光刻,光子,中国,芯片,光子
...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多
2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装，实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字，据说是有史以来最先进的半导体制造设备，将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
2024-04-23 10:24:00英特,光刻,英特尔,最先,全球,系统
...将扩展至8-9层。对于美光，其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程，ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩，NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
2024-02-03 21:24:00光刻,节点,三星,世代,工艺,进一
从0到1，国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破，这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域，国产光刻机究竟走到哪一步了？“在西方技术层层封锁下，国产...……更多
2024-09-30 09:57:00突破,技术,光刻,芯片,制程,氟化
在之前的日子里，日本大举对中国出售二手光刻机等设备而赚取了大量金钱，韩国却顺从了美国的要求，导致诸多二手光刻机等设备蒙尘，近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数...……更多
2024-06-29 09:19:00光刻,韩国,日本,中国,光刻,中国
...）、苏大维格（300331.SZ）等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重...……更多
2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模
光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停 【光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停】财联社10月10日电，光刻机概念股盘中拉升，张江高科冲击涨停，蓝英装备、波长光电涨超5%，富乐德、京华激光、苏大维格等跟涨。 ……更多
2023-10-10 10:24:00张江,光刻,概念股,冲击,概念,张江
...比，明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程
...的打击，也是对ASML的打击，意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机，但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户，而这三家客户当...……更多
2023-01-19 07:00:00中国,纳米,救命,再次,苹果,光刻
...工业制造领域还有什么求而不得的东西，大概就是高端的光刻机了吧。然而好消息是，被称为光刻机“基石”的减振器，近日已被我国工程院院士成功突破，彻底打破了被国外“卡脖子”的局面。据说这套减振器，是中国工程院...……更多
2024-04-09 10:22:00光刻,多远,基石,突破,我国,成功
...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体
清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电：佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电，清溢光电接受机构调研时表示，半导体芯片掩膜版技术方面，公司已实现180nm工艺节...……更多
2023-10-18 21:07:00电子束,光刻,佛山,生产基地,光电,基地
一直以来，我国因为没有EUV光刻机，而没办法生产先进的芯片，但是我们并没有坐以待毙，也不会向霸权低头，而是另辟蹊径，用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露，我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机，解...……更多
2024-01-25 10:29:00光刻,光子,霸权,难题,芯片,我国
去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多
2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径
陈永伟/文近日，荷兰光刻机巨头ASML宣布：其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克（Mar－tinvandenBrink）将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
2023-12-19 13:42:00飞利,光刻,飞利浦,弃儿,光刻,密特
Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多
2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程
创始人维姆·特罗斯特上周去世，他让光刻机成为欧洲最贵奢侈品。关于后来者能不能造出光刻机和先进芯片，业界盛传比亚迪董事长王传福的一个说法：“这些是人造的，不是神造的。”最赞成王传福的可能包括光刻机巨头 AS...……更多
2024-06-13 09:22:00光刻,一本,新书,秘密,成功,制造
旭光电子：公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销售 【旭光电子：公司用于光刻机、等离子清洗/抛光等半导体设备领域的发射管产品已经客户验证通过 并实现批量销...……更多
2023-11-07 19:31:00旭光,旭光电子,光刻,发射管,等离子,抛光
...方消息，7 月 22 日，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业的竞争力。晶合集成表示，光刻掩模版成功亮相，标志着该公司在晶圆代工领域成为台积...……更多
2024-07-25 09:39:00合集,光刻,安徽,模版,成功,合集
...1c工艺，约10nm）DRAM的生产中使用Inpria下一代金属氧化物光刻胶（MOR），这是MOR首次应用于DRAM量产工艺。消息人士称，SKHynix量产的1cDRAM上有五个极紫外(EUV)层，其中一层将使用MOR绘制。他还补充说，“不仅SK海力士，三星电子也...……更多
2024-05-30 08:30:00新材,三星电子,三星,力士,新材料,致力于
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