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非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
...能公司宣布,他们已经开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。这款设备的独特之处在于,它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示,这套新的生产设备的工作原理与行业...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻...……更多
中国不买了,三大光刻机企业都降低预期,后悔莫及
日前全球三大光刻机企业ASML、尼康、佳能都发布了业绩无法达到年初预计的目标,原因就在于中国在减少采购光刻机,凸显出中国市场对全球芯片设备市场的巨大影响力。全球最大的光刻机企业ASML最为悲观,ASML的新增订单环...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
最近,芯片圈儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片...……更多
制造光刻机 40 年,一本新书重新发现了 ASML 成功的秘密
...临的另一个挑战是它缺乏先进生产工艺,竞争对手尼康和佳能都有当时顶尖的光学镜头生产线。仅靠自己,ASML 造不出光刻机这样的复杂机器。它必须集结所有脑力、资金和灵巧的手。斯密特热爱航空,大学时主修航天工程、爱...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数快科技11月6日消息,近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供...……更多
​光刻机之战
...普拉多看来,他已经能够造出除光刻机外的几乎所有芯片生产设备,只要加上光刻机,他就可以成为一站式的芯片设备供应商。但对ASM的热情,飞利浦却很冷淡,原因首先是ASM的规模不够,1980年,ASM的收入才3700万美元。而据飞...……更多
日本半导体产业的行与不行
...本半导体材料行业,其他国家的高科技材料行业也一样。生产设备都是开发企业自行设计和定制的,市场上没有标准工业品。这些公司很多时候特意不把自己的技术申请专利,而是黑箱化。后发国家除了研发之外很难模仿。日本...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...市场占据75%份额,在韩国、中国和美国市场份额都达50%;佳能略晚推出步进式光刻机,彼时在欧洲市场份额占一半,世界其他地区是10%~15%;NEC一度多年是半导体销售额全球第一的企业。在尼康和佳能高歌猛进的那些年,今天的...……更多
ASML新增订单少一半,EUV光刻机失宠了?
...再用更先进的光刻机,也能够量产更先进的芯片。于是,佳能推出了NIL工艺,不用EUV光刻机,也能够生产5nm等芯片;台积电等巨头都在发展小芯片封装技术,在制程等不变的情况下,通过先进封装技术,提升芯片性能。还有就是...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...也出现了下一代光刻机技术的先锋探索。在今年10月份,佳能就号称通过纳米压印(NIL),将有可能承担2nm芯片制程的生产。纳米压印完全是和光刻完全不同的技术路线——如前文所说,光刻更像“投影”,那么纳米压可以用“...……更多
佳能向得克萨斯电子研究所交付其最先进纳米压印光刻 NIL 系统
IT之家 9 月 27 日消息,佳能日本东京当地时间昨日宣布,将在同日向总部位于美国得克萨斯州的半导体联盟得克萨斯电子研究所(TIE)交付佳能最先进的纳米压印光刻 NIL 系统 FPA-1200NZ2C。得克萨斯电子研究所成立于 2021 年,由...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
近日,佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是重要的半导体制造工艺。10月13日下午,纳米压印概念股拉升,汇创达(300909.SZ)盘中一度涨超14%,美迪凯(688079.SH)、利和兴(301013.SZ...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
据媒体报道,佳能高管近日在接受采访时表示,公司正在开发一种先进的纳米压印技术,可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说,纳米压印是...……更多
...日本经济新闻》报道,日本佳能公司日前开始销售半导体生产设备FPA-1200NZ2C。该设备采用了一种名为“纳米压印”的新技术,可以更加低成本、节能地制造智能手机、数据中心等所需的尖端半导体产品。与以往的工艺不同,“纳...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
...成为整个芯片行业内举足轻重的角色。与此同时,尼康、佳能等企业则开始进入光刻机的生产行列,并凭借质优价廉将老牌的美国光刻机厂商打得节节败退。与当时野蛮生长的日本光刻机厂商相比,新生的ASML简直不足一提。这...……更多
【科技早报】特斯拉cybertruck中国巡展启幕;宁德时代和滴滴成立换电公司
...戏部门总人数 8%,该部门拥有约 22000 名员工,(IT之家)佳能:目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备据英国金融时报报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称,采用纳米压印技术的佳...……更多
荷兰禁止ASML在华DUV设备售后维护?
...DUV光刻机,即使如中芯国际这样的国内芯片制造巨头,其生产设备也是依赖ASML的DUV光刻机。可能很多人都乐观认为,尽管买不到先进的EUV光刻机,甚至好一些的DUV光刻机也买不到了,但只有自己现在手上的DUV光刻机足够,那么...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
随时可能断供?90%光刻胶都是日本生产,若断供中国该怎么办?
...对于芯片的生产与制造,其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展,禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今,美国的垄断政策不仅没有成功,反倒是影响了自己的本土生产链,拥有光...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
EUV光刻机生产芯片的能耗将很快达到创纪录的水平
极紫外光刻技术是近年来最复杂的技术创新之一。 极紫外光刻设备对于生产更小、更强大的微芯片至关重要,但其耗电量巨大。 更糟糕的是,它们对电力的渴求预计在未来几年只会大幅增长。根据 TechInsights 最近的一份报告,...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
英特尔包圆 ASML 初始产能,获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
...特尔近日宣布完成世界首台商用高数值孔径(High NA)EUV 光刻机的安装,而这台耗资约 3.5 亿美元(IT之家备注:当前约 25.23 亿元人民币)的庞然大物将于年内正式启用。TheElec 表示,ASML 截至明年上半年绝大部分高数值孔径 EUV ...……更多
光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要,但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题,中国各个机构就一直为此努力,2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题,2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
不畏霸权,我国或将通过硅光子技术摆脱EUV光刻机,解决芯片难题
一直以来,我国因为没有EUV光刻机,而没办法生产先进的芯片,但是我们并没有坐以待毙,也不会向霸权低头,而是另辟蹊径,用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露,我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机,解...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
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