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非光刻方案,佳能开始销售 5nm 芯片生产设备
...消息,佳能(Canon)公司近日发布新闻稿,开始销售芯片生产设备FPA-1200NZ2C,表示采用不同于复杂光刻技术的方案,可以制造5nm芯片。佳能表示这套生产设备的工作原理和行业领导者ASML不同,并非光刻,而更类似于印刷,没有利...……更多
佳能发布新型芯片生产设备
...能公司宣布,他们已经开始销售一款名为FPA-1200NZ2C的芯片生产设备。这款设备的独特之处在于,它采用了一种与复杂光刻技术截然不同的生产方案,可以制造出5纳米的芯片。佳能明确表示,这套新的生产设备的工作原理与行业...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
11月6日消息,日本佳能一直在投资纳米压印(Nano-imprint Lithography,NIL)这种新的芯片制造技术,并计划将新型芯片制造设备的价格定在阿斯麦最好光刻机的很小一部分,从而在光刻机领域取得进展。纳米压印技术是极紫外光刻...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
最近,芯片圈儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数快科技11月6日消息,近日佳能CEO御手洗富士夫在接受受访时表示,该公司基于NIL的新型芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供...……更多
​光刻机之战
...普拉多看来,他已经能够造出除光刻机外的几乎所有芯片生产设备,只要加上光刻机,他就可以成为一站式的芯片设备供应商。但对ASM的热情,飞利浦却很冷淡,原因首先是ASM的规模不够,1980年,ASM的收入才3700万美元。而据飞...……更多
日本半导体产业的行与不行
...本半导体材料行业,其他国家的高科技材料行业也一样。生产设备都是开发企业自行设计和定制的,市场上没有标准工业品。这些公司很多时候特意不把自己的技术申请专利,而是黑箱化。后发国家除了研发之外很难模仿。日本...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...市场占据75%份额,在韩国、中国和美国市场份额都达50%;佳能略晚推出步进式光刻机,彼时在欧洲市场份额占一半,世界其他地区是10%~15%;NEC一度多年是半导体销售额全球第一的企业。在尼康和佳能高歌猛进的那些年,今天的...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...也出现了下一代光刻机技术的先锋探索。在今年10月份,佳能就号称通过纳米压印(NIL),将有可能承担2nm芯片制程的生产。纳米压印完全是和光刻完全不同的技术路线——如前文所说,光刻更像“投影”,那么纳米压可以用“...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
近日,佳能公司宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备,该设备执行电路图案转移,是重要的半导体制造工艺。10月13日下午,纳米压印概念股拉升,汇创达(300909.SZ)盘中一度涨超14%,美迪凯(688079.SH)、利和兴(301013.SZ...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
据媒体报道,佳能高管近日在接受采访时表示,公司正在开发一种先进的纳米压印技术,可以生产出电路线宽仅为2纳米的产品。这项技术在全球范围内只有佳能公司具备。佳能半导体机器业务部长岩本和德解释说,纳米压印是...……更多
...日本经济新闻》报道,日本佳能公司日前开始销售半导体生产设备FPA-1200NZ2C。该设备采用了一种名为“纳米压印”的新技术,可以更加低成本、节能地制造智能手机、数据中心等所需的尖端半导体产品。与以往的工艺不同,“纳...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
...成为整个芯片行业内举足轻重的角色。与此同时,尼康、佳能等企业则开始进入光刻机的生产行列,并凭借质优价廉将老牌的美国光刻机厂商打得节节败退。与当时野蛮生长的日本光刻机厂商相比,新生的ASML简直不足一提。这...……更多
【科技早报】特斯拉cybertruck中国巡展启幕;宁德时代和滴滴成立换电公司
...戏部门总人数 8%,该部门拥有约 22000 名员工,(IT之家)佳能:目标最快今年开始交付低成本纳米压印光刻设备据英国金融时报报道,负责监督新型光刻机开发的佳能高管武石洋明 1 月 27 日接受采访称,采用纳米压印技术的佳...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
随时可能断供?90%光刻胶都是日本生产,若断供中国该怎么办?
...对于芯片的生产与制造,其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展,禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今,美国的垄断政策不仅没有成功,反倒是影响了自己的本土生产链,拥有光...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
在当今全球半导体市场上,光刻机作为制造芯片的核心设备,其技术水平和精度直接决定了芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
不畏霸权,我国或将通过硅光子技术摆脱EUV光刻机,解决芯片难题
一直以来,我国因为没有EUV光刻机,而没办法生产先进的芯片,但是我们并没有坐以待毙,也不会向霸权低头,而是另辟蹊径,用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露,我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机,解...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
中国机会|阿斯麦中国区总裁:明年是半导体设备调整期,后年行业有望明显回暖
...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前,全球光刻机巨头ASML(阿斯麦)全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调,成熟制程和先进制程同等重要,中国有条件把成熟制程做到...……更多
证监会拟对苏大维格及相关人员合计处以250万罚款
...。证监会表示,近日,上市公司苏大维格发布关于公司“光刻机”生产销售的不实信息,导致股价异动,引发市场质疑。我会立即部署,迅速立案,查明事实,严肃惩处,已向上市公司及相关责任人送达了《行政处罚事先告知书...……更多
徐州:高端制造引领发展 新兴产业赋能未来
...名不显,但徐州博康信息化学品有限公司生产的产品——光刻胶,却是大名鼎鼎,它是芯片制造最核心的原材料之一。这些小瓶子里装的就是光刻胶,芯片制造时把它涂到芯片的原始材料晶圆之上,再用光刻机将电路图案照射上...……更多
...着各种高精密仪器发出的嗡鸣声,邢艳荣和同事们开始在光刻机上作业。光刻是制造芯片的关键步骤,邢艳荣将硅晶圆放到机器的凹槽内,设备启动后就会按照事先设计好的工艺参数进行光刻。光刻的结果并不会第一时间显现,...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
...股份有限公司(以下简称“苏大维格”)发布关于公司“光刻机”生产销售的不实信息,导致股价异动,引发市场质疑。我会立即部署,迅速立案,查明事实,严肃惩处,已向上市公司及相关责任人送达了《行政处罚事先告知书...……更多
韩国、荷兰组建“芯片联盟”:阿斯麦与三星将共建芯片研究中心
....04亿欧元),在韩国建立研究中心,利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究超精细芯片制造工艺。这一事件的背景是,尹锡悦从周一起对荷兰进行为期4天的国事访问。根据日程,当地时间周二,尹锡悦将与荷兰国王威廉·亚历山大、三...……更多
英特尔与美国国防部深化合作,采用18A工艺生产芯片
...先进的芯片制造设备,名为高数值孔径极紫外 (high NA EUV) 光刻机。英特尔表示,这种设备可以简化设计流程,从而缩短芯片的制造时间。【来源:IT之家】返回搜狐,查看更多责任编辑: ……更多
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