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三星认为High-NA EUV有利于逻辑芯片制造
...的前景,观点从高度乐观到谨慎,特别是High-NAEUV方面,三星表达了担忧。三星负责存储器生产的研究员YoungSeogKang表示,作为一名用户,更关心的是总成本问题,目前Low-NA已经投入使用,芯片制造商可能更愿意使用Low-NAEUV以双重...……更多
三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层
7月19日消息,据韩媒TheElec报道,与三星的3nm制程相比,明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外(EUV)光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV,从那时起,随着迁移到5nm,再到3nm,三星在...……更多
ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺
...极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续摩尔定律。ASML第一代Low NA EUV光刻机只有0.33 NA(孔径...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
...至2027年之间开始启用新设备。事实上,台积电(TSMC)和三星都已表示会采购High-NAEUV光刻机,用于研发未来新的半导体工艺,不过没有设定任何的时间表。据DigiTimes报道,来自于晶圆厂工具制造商的消息证实,台积电要等到1nm制...……更多
这一次,韩国不想“听话”?
...断,无需政府(对企业)指手画脚。相信作为跨国公司的三星电子和SK海力士将兼顾两方利益进行综合考量”。韩联社也报道指,首尔的政策制定者不愿意卷入这场争端。另据英国《金融时报》日前的报道,韩国呼吁华盛顿重新...……更多
韩国顺从导致光刻机蒙尘,日本却大赚特赚,反省后计划卖给中国
...,导致诸多二手光刻机等设备蒙尘,近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数年里,中国大举采购光刻机等设备,需求量之大导致最大光刻机企业ASML的新机供应不足,无奈之下中国...……更多
继续狂飙!如何一键布局“科特估”行情?
...全新一代的high-NAEUV光刻机即将发往台积电、英特尔以及三星电子等客户,预计2025年销售额达400亿欧元,光刻机作为半导体制造关键环节,直接决定了芯片上晶体管的尺寸和密度,国产升级必要性凸显,景气度持续提升。(3)消...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当前都不太可能大规模采购了。Intel在爱尔兰的Intel 4工厂已完成设备进驻,本来计划在2022年底量产,但是Intel在2022年底传出让爱尔兰...……更多
英特尔包圆 ASML 初始产能,获得今年全部高数值孔径 EUV 光刻机
...意味着英特尔将获得所有初始库存,而英特尔的竞争对手三星和 SK 海力士预计将在明年下半年才能获得该设备。▲ 图源:ASML对于高数值孔径,IT之家这里简单解释一下。光刻设备中的 NA 代表数值孔径,表示光学系统收集和聚光...……更多
不可一世的ASML急了
...球唯一一家有能力制造先进 EUV 光刻机的公司,台积电、三星、英特尔想要苹果、高通等芯片设计公司制造先进制程工艺的芯片,就必须使用该公司的 EUV 光刻机。而在实际情况中,EUV 光刻机的结构之复杂、精密度之高,都让它...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...厂未来一个月将能生产3万片2nm芯片。不仅仅是台积电,三星和英特尔在2nm以下制程的战火早就开始烧起。分别在今年的6月、10 月,三星先后透露了其先进制程芯片未来的规划—— 2nm芯片计划在2025年量产之后,2026年即扩展到HPC(...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
...机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导体制造商...……更多
韩国、荷兰组建“芯片联盟”:阿斯麦与三星将共建芯片研究中心
...13日讯(编辑 牛占林)当地时间周二(12月12日),阿斯麦与三星电子签署了一项备忘录,将共同投资1万亿韩元(约合7.04亿欧元),在韩国建立研究中心,利用下一代极紫外(EUV)光刻机研究超精细芯片制造工艺。这一事件的背景是,尹...……更多
普通芯片背后的惊天秘密!
...压力等手段进行精细加工,并且硅材料不容易受到污染,有利于提高芯片的制造质量和稳定性。与此同时,硅材料还可以与其他材料进行良好的结合,形成各种复合材料,以满足不同应用领域的需求。普通芯片的制造工艺:从晶...……更多
单台售价超25亿!ASML最先进光刻机产能被美国厂商英特尔承包,三星SK海力无奈
...特尔将获得所有初始库存。这也导致,英特尔的竞争对手三星和 SK 海力士预计将在明年下半年才能获得该设备。High-NA EUV光刻机能够在半导体上蚀刻出仅8nm宽的线条,是上一代产品的1/1.7。更细的线条意味着芯片可以容纳更多的...……更多
SEMI 总裁倡导标准化半导体后端工艺,能有效提高芯片产能
...商而异。例如,台积电采用 CoWoS 技术进行高级封装,而三星电子则采用 I-Cube 技术。Hamajima 希望推动后端工艺标准化在前端工艺面临技术瓶颈的背景下,各家芯片制造商积极投资开发先进的封装技术。Hamajima 认为,半导体行业后...……更多
英特尔3nm,加入战局
...14nm苦苦挣扎几年之后,英特尔将在今年进一步拉近和和三星的差距,其IDM 2.0战略,也使得他们成为了3nm代工的一个重要玩家。三星台积电先后跨入和5nm一样,三星和都率先进入了3nm时代。在2022年六月份,韩国巨头三星宣布,公...……更多
...芯片制造商降低对芯片代工厂的依赖,同时也让台积电和三星电子等芯片代工厂更有可能批量生产芯片。佳能表示,这种机器所需功率只有EUV同类产品的十分之一。御手洗富士夫表示:“我不认为纳米压印技术会取代EUV,但我相...……更多
英特尔:2023砍掉30亿美元资本支出
...业正好趁着这一时期,建新厂,积蓄力量。晶圆代工厂商三星:资本支出与2022年持平2022年三星全年收入为302.23万亿韩元,创历史新高,营业利润为43.38万亿韩元。对于2023年,三星预计受经济放缓和库存调整影响,上半年需求可...……更多
美国芯片制造业支棱不起来,全怪一张膜?
...,其他企业像是英伟达、 AMD 啥的,几乎都在向台积电、三星等讨饭吃。昔日的半导体摇篮,制造业务一丢再丢,背后的原因是啥,这些年也被大伙们分析烂了。主流的观点基本就是美苏冷战期间,美国为了扶持东亚几个国家和...……更多
​光刻机之战
...“同意”。同样的故事在20世纪90年代初又重演了一次,三星在参观ASML客户美光(Micron)的工厂后主动联系了ASML,双方在波折的谈判后达成合作。在20世纪80年代末,ASML获得了两个关键客户。首先是美光。ASML在协商后决定对其派...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对于High-NA光刻系统进行了进一步的介绍。以下为芯智...……更多
随时可能断供?90%光刻胶都是日本生产,若断供中国该怎么办?
...的高端平台,不仅有助于我国创新型人才的培养,还非常有利于我们国家在各领域技术上的突破。中国唯有在技术上独立才能不再畏惧任何国家的威胁,如今我国的国际地位和国家话语权在很多程度上都已经显著提高了,我们相...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...在的铠侠 )合作,准备用纳米压印技术造 3D NAND 闪存,三星在买 EUV 设备的同时,也还在着手进行纳米压印技术的研发。就连 SK 海力士也从佳能那边买了纳米压印设备,准备搞 3D NAND 闪存生产测试,并计划在 2025 年实现大规模...……更多
投万亿韩元建立研发中心,韩国荷兰“半导体同盟”冲击有多大?
...锡悦访问了荷兰半导体设备制造商阿斯麦(ASML)总部,三星电子会长李在镕、SK集团会长崔泰源一同参观了相关设施。阿斯麦和三星将投资1万亿韩元(约合54.5亿元人民币)在韩成立半导体研发中心。韩国《每日经济》13日的报...……更多
ASML两款光刻机出口许可被撤销;比亚迪Q4纯电车销量超特斯拉
...(驱动之家)2023全球高端手机战报:苹果71%独占鳌头、三星17%排第二根据Counterpoint报告,2023年高端手机销量将同比增长6%,在全球市场份额占比将近25%,销售额占比近60%。购买模式转变成消费者倾向于购买可长期使用的高品质...……更多
三星表示,将成功实现2纳米节点,或提升芯片性能和功耗
三星Elecoics最近宣布,他们已经成功实现了一项重要的里程碑,将致力于进一步提升其工艺节点。这个节点是指芯片制造过程中所使用的最小尺寸,可以决定芯片性能和功耗。三星表示,他们已经成功将其工艺节点减小到了惊人...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...性的PC时代,导致即便整合了多方优势的尔必达,逐渐被三星和美光所超越,最终被美光收购。擅长高品质制造技术而非低成本制造技术,让日本存储产业陷入“创新窘境”,甚至蔓延到电器等领域。但当前全球半导体市场已经...……更多
euv也救不了命内存快到头了:明年迎来全新3ddram
...也遇到了瓶颈,在20nm节点之后发展速度已经慢下来了,三星在14nm节点就用上了EUV光刻工艺,寻求进一步微缩。然而EUV光刻成本高昂不说,也没法彻底改变内存芯片的技术难题,三星已经做到了12nm工艺,再往后的内存工艺很难说...……更多
产业链已准备好,中国光子芯片量产在即
...降低功耗,然而随着芯片制造工艺达到3纳米,台积电和三星这些芯片制造企业已感受到推进先进工艺面临着巨大的困难,ASML更表示它目前的光刻机技术仅能达到1纳米级别,进一步沿着这条技术路线突破1纳米已基本不可能。这...……更多
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