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日本尼康推出全新ArF浸没式光刻机:精度小于2.1纳米
...芯片的性能和特征尺寸。近日,日本知名光学仪器制造商尼康(Nikon)宣布将于2024年1月正式推出全新的ArF浸没式光刻机NSR-S636E,该设备将具有更高的精度和生产效率,为全球半导体制造行业带来新的突破。ArF浸没式光刻机是当...……更多
日本半导体产业的行与不行
...,韩国1家。日本的头部企业如下:东京电子、爱德万、尼康、SCREEN、迪斯科、国际电气、佳能,东京精密、Lasertec、TOWA,荏原、Ulvac。此外,半导体工厂的搬运设备,日本企业也有很强的存在感,包括村田机械、大福、Rotze等;...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...导体领域都走在了全球前列:DRAM运存市场全球80%份额;尼康的光刻机在日本市场占据75%份额,在韩国、中国和美国市场份额都达50%;佳能略晚推出步进式光刻机,彼时在欧洲市场份额占一半,世界其他地区是10%~15%;NEC一度多...……更多
光刻新技术问世,日本佳能公司叫板荷兰阿斯麦
...的2纳米产品。 光刻设备市场在20至30年前几乎被佳能和尼康两家公司垄断。但是,其后它们在技术开发上落后于阿斯麦,现在该公司拥有90%以上的市场占有率。“纳米压印”是佳能公司为了对抗阿斯麦,从10年前开始就进行技术...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
...崛起,成为整个芯片行业内举足轻重的角色。与此同时,尼康、佳能等企业则开始进入光刻机的生产行列,并凭借质优价廉将老牌的美国光刻机厂商打得节节败退。与当时野蛮生长的日本光刻机厂商相比,新生的ASML简直不足一...……更多
​光刻机之战
...的时候,当时的市场领导者GCA已交付数百台光刻机,亚军尼康也正在快速占领市场。ASML的市场份额是多少呢?零。但在和团队长时间谈话后,斯密特心中的迷雾开始消散,飞利浦光刻技术中的许多元素在当时仍然领先,其对准...……更多
...希望。自今年年初以来,佳能股价上涨了27%,其竞争对手尼康公司也上涨了24%。佳能与日本印刷综合企业大日本印刷株式会社(Dai Nippon Printing Co.)以及存储芯片制造商铠侠控股(Kioxia Holdings Corp.)合作研究纳米压印技术已有近...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...其实一直以来,佳能在芯片制造设备上都有布局,隔壁的尼康也是一个样。 不过目前光刻机的顶尖技术一直都被 ASML 独占,佳能眼看追不上,于是在研究光刻机的同时,又找了另外一条赛道:纳米压印。这次新闻的主角,也正...……更多
日本佳能:我们能造2nm芯片!不需要ASML光刻机
日本光刻机大厂佳能(Canon)在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印(Nanoprintedlithography,NIL)设备FPA-1200NZ2C之后,佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示,该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多
...》。研究团队运用首次构建的弹性模量维度4D纳米弹性体光刻策略,制备了迄今最灵敏的人造弹簧系统,并基于此开发出一系列具有超灵敏度的软体微米机器人,实现了高精度细胞力学研究以及细胞的无影响操纵,有望为显微外...……更多
美国芯片制造业支棱不起来,全怪一张膜?
... 的硅谷光刻集团,在造 DUV 光刻机时,一直打不过日本的尼康佳能和荷兰的 ASML ,于是他们准备另辟蹊径超车,早早研发 EUV 技术。早在1997 年的时候,美国能源部就和英特尔一起,整了个EUV LLC 联盟,不仅拉来了三大国家实验室...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
佳能研发成功2纳米产品!技术全球唯一
...。使用这种技术可以显著降低客户的实际成本,达到传统光刻设备的一半,并且由于纳米压印设备规模较小,在研发等其他用途上也更加方便。当被问及是否存在竞争对手时,岩本和德表示,在面向半导体光刻领域发展纳米压印...……更多
月圆人团圆 浓情伴元宵 用尼康记录温馨时刻
...花绽璀璨,人们展笑颜,吉祥绕身旁。在元宵团聚之际,尼康以其诚挚之选,成为珍贵时光的见证者,与热爱生活的创摄者一起,记录幸福瞬间,让团圆的温情时刻永存心间。尼康Z8:高画质利器,记录欢聚的每一刻尼康Z8延续Z9...……更多
日本佳能推出纳米压印半导体制造设备 可执行电路图案转移
...移,这是最重要的半导体制造工艺。据佳能介绍,传统的光刻设备通过将电路图案投射到涂有抗蚀剂的晶圆上,而新产品通过在晶圆上的抗蚀剂上压印有电路图案的掩模来实现这一点,就像邮票一样。由于其电路图案转移过程不...……更多
尼康推出尼克尔z600mmf/6.3vrs远摄定焦镜头
尼康宣布推出尼克尔Z600mmf/6.3VRS,这是一款与采用尼康Z卡口的全画幅/FX格式数码微单相机兼容的远摄定焦镜头。尼克尔Z600mmf/6.3VRS是一款S-型(S-Line)远摄定焦镜头,具有卓越的光学性能和便携性,总长约278mm,重量约1,390g,属...……更多
随时可能断供?90%光刻胶都是日本生产,若断供中国该怎么办?
...对于芯片的生产与制造,其中有一个非常重要的设备便是光刻机。美国为了彻底遏制我们国家芯片的发展,禁止阿斯麦向我们国家出口光刻机。但是如今,美国的垄断政策不仅没有成功,反倒是影响了自己的本土生产链,拥有光...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
张江集团:作为国内唯一一家掌握光刻机技术的企业,上海微电子成功研制出28纳米光刻机
...号在12月19日的推文中提及:上海微电子成功研制出28纳米光刻机。此外文章也肯定了中芯国际、华虹半导体等在先进模拟芯片代工方面不断注入的强劲能量。文章提到,围绕数据前沿技术、算力算法、数据服务、具身智能等领域...……更多
日半导体供应占6成,去“ASML化”开始?日本高层:从台转移技术
...一块他们和ASML有不少的差距。要想在尖端领域中突破,光刻等相关的尖端制造设备就自然而然需要跟进。事实上,日本的光刻机企业已经着手开始在这一方面发展,如佳能此前就宣布了纳米压印技术,朝着替代ASML手中EUV光刻机...……更多
光刻机成了最贵打印机 2nm太烧钱
...晶圆厂则需要约200亿美元。这种增加的成本主要归因于EUV光刻工具数量的增加,这大大提高了每片晶圆和每块芯片的成本,并且这些成本最终会转嫁给消费者。苹果最新的智能手机A17Pro片上系统芯片的芯片尺寸大约在100mm?到110mm?...……更多
vivo Y100图赏:打造有质感的东方美学千元机
...:琉云青和玻光蓝。琉云青后盖内纹理借助纳米激光直写光刻机实现微米级光刻技术,凭借超过50道工序,打造500片羽纱纹理共同构成,玻璃后盖可触摸的纹理采用萤石AG工艺,闪耀通透,提升握持感。玻光蓝后盖镀上纳米级瓷...……更多
...品,必须使用被荷兰ASML(阿斯麦)垄断的采用“极紫外光刻(EUV)”技术的装置,但这种装置存在价格昂贵、耗电量大等问题。为了向市场投放新装置,佳能早在2014年就开始进行持续研发。同时,佳能还与铠侠、大日本印刷等...……更多
...压铸零件自动化加工及装配线;大幅面、高精度纳米压印光刻生产线;新一代深远海一体化大型风电安装船;10微米超薄氢燃料电池全氟质子膜;超高清全色激光电视;岩土工程灾变分析软件HazE;“妙手”腔镜手术机器人系统。...……更多
纳米压印概念股集体冲高,歌尔股份市值626.96亿元居首
...微纳加工技术,采用传统机械模具微复型原理。纳米压印光刻造芯片通过将印有电路图案的掩模压印在晶圆上的抗蚀剂上,脱模后得到一颗芯片。数据宝梳理,A股市场中,布局纳米压印相关业务的个股约有10只。歌尔股份市值居...……更多
韩国总统力推“半导体同盟”
...需要通过曝光技术将设计图案蚀刻到芯片上,在这关键的光刻工艺方面,阿斯麦是全球龙头企业。阿斯麦是全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片所需的极紫外EUV光刻机的厂商,因精度达到一根头发丝直径的十万分之七,一台...……更多
佳能押注“纳米压印”芯片生产设备:比ASML EUV售价少一位数
...芯片制造设备售价将比ASML的EUV少一位数。目前,极紫外光刻机(EUV)的唯一供应商就是ASML,EUV对于大规模生产速度快、能耗低的芯片至关重要,但每台机器的售价高达数亿美元,只有少数公司才有能力购买。为此,从2017年开始...……更多
揭秘:1纳米细丝切割的惊人效果,令人震惊!
...们此前的想象!科学家们成功创造出了具有惊人效果的1纳米细丝切割技术,这项突破性的成果让整个科学界为之震惊。令人瞠目结舌的是,这些细丝切割甚至超越了现有的最先进技术,带来了更为精确、快速和高效的切割方案...……更多
ASML揭秘全球第一台高NA EUV光刻机:分辨率直达8nm
...2023年12月正式向英特尔交付了首个HighNA(高数值孔径)EUV光刻系统——TWINSCANEXE:5000的首批模块,代表着尖端芯片制造向前迈出了重要一步。近日,ASML发布了一篇题为《关于高数值孔径EUV光刻你应该了解的5件事》的科普文章,对...……更多
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