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Intel官方宣布，已经开始采用EUV极紫外光刻技术，大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点，对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器，...……更多

2023-10-12 19:54:00宣大,光刻,规模,第一次,工艺,制程

首先得有，28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”

从0到1，国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破，这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域，国产光刻机究竟走到哪一步了？“在西方技术层层封锁下，国产...……更多

2024-09-30 09:57:00突破,技术,光刻,芯片,制程,氟化

三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层

...比，明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外（EUV）光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV，从那时起，随着迁移到5nm，再到3nm，三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多

2024-07-22 09:44:00光刻,制程,三星,三星,光刻,制程

3.8亿美元/台！ASML将于2024年向台积电交付最新款光

...据外媒报道称，ASML将在今年向台积电交付旗下最先进的光刻机，单台造价达3.8亿美元。报道中提到，ASML首席财务官Roger Dassen在最近的一次电话会议上告诉分析师，公司两大客户台积电和英特尔将在今年年底前获得所谓的高数值...……更多

2024-06-07 09:22:00光刻,将于,光刻,德音,英特,制程

英特尔将在未来冲击1nm工艺：基于新一代光刻机

...当长的距离，此外想要实现如此先进的工艺制程，采用EUV光刻机必不可少，而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步，光刻机的功耗也越来越高，据悉为了满足如此先进的制程工艺，ASML还要对光刻机进行更新换...……更多

2023-02-14 09:00:00英特,光刻,英特尔,新一代,冲击,工艺

强震后，日本半导体该走向何方？

...动作频繁：新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工，光刻胶龙头JSR将被JIC所收购，东芝退市前有诸多本土和外资竞购；同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多

2024-01-06 17:22:00何方,日本,强震,半导体,日本,半导体

抢光刻机、截客户，三大芯片巨头缠斗2nm丨知料

...完，市场端的竞争已经提前开始，近期，三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称，三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示，还开出折扣价，并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多

2023-12-22 11:43:00刻机,巨头,芯片,三大,客户,制程

台积电“日本二厂”浮出水面：投资规模更大工艺制程更先进

...府会给予接近一半的补贴。（来源：台积电）虽然日本在光刻胶等领域处于国际领先地位，但论及半导体制造能力并不突出。时至今日，日本本土最多只能生产40nm区间的芯片，显然无法满足AI时代对先进半导体的需求。正在建设...……更多

2023-10-13 11:46:00制程,日本,水面,规模,先进,工艺

纳米压印迎曙光，有望取代传统光刻技术！市场规模将达33亿美元

...）、苏大维格（300331.SZ）等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解，纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段，达到超高的分辨率，有望在未来取代传统光刻技术，成为微电子、材料领域的重...……更多

2023-10-13 19:06:00压印,光刻,曙光,纳米,传统,规模

不用光刻机，如何制造5nm芯片？

...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备，不用光刻技术，就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化， 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了，佳能怎么不好好造相机，跑出来搞造芯片的机器了？并...……更多

2023-10-23 17:24:00刻机,芯片,制造,压印,纳米,光刻

台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机

去年末，ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径（High-NA）和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光（EUV）大批量生产系统，提供0.55数值孔径，与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比，精度会有所提高...……更多

2024-02-11 19:43:00光刻,光刻,英特,英特尔,晶圆,孔径

台积电：仍在评估 High NA EUV 光刻机，采用时间未

...，台积电最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技术。对此，台积电海外营运资深副总经理暨副共同营运长张晓强表示，仍在评估 High NA EUV 应用于未来制程节点的成本效益与可扩展性，目前采用时间未定。▲ASML EXE:5...……更多

2024-08-01 09:48:00光刻,评估,时间,光刻,晶圆,英特

价值3.83亿美元！Intel拿下全球第二台High NA

...已成功接收全球第二台价值3.83亿美元的High NA EUV（极紫外光刻机）。High NA EUV光刻机是目前世界上最先进的芯片制造设备之一，其分辨率达到8纳米，能够显著提升芯片的晶体管密度和性能，是实现2nm以下先进制程大规模量产的必...……更多

2024-08-07 09:33:00二台,光刻,价值,全球,二台,俄勒冈州

陕西先进光子器件工程创新平台落成

...。通过与创新企业持续进行联合研发，光子芯片制程中的光刻、刻蚀、蒸镀等多项核心工艺技术不断攻克，平台软硬件建设不断完善，未来平台将持续助力光子产业链上下游企业聚集。湿法设备。先进光子器件工程创新平台供图...……更多

2023-01-12 14:09:00光子,陕西,器件,先进,工程,平台

光刻机之战

...00英里的速度穿过真空。然后以激光照射那颗锡球两次，第一次是加热它，第二次是以太阳表面温度好几倍的高温把它轰击成电浆体。这种轰击锡滴的过程，每秒重复5万次，就能产生制造芯片所需的EUV量。再看镜头，起初莱思...……更多

2023-12-01 17:33:00光刻,光刻,飞利,飞利浦,密特,芯片

日本佳能：我们能造2nm芯片！不需要ASML光刻机

日本光刻机大厂佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以制造尖端芯片的纳米压印（Nanoprintedlithography，NIL）设备FPA-1200NZ2C之后，佳能首席执行官御手洗富士夫近日在接受采访时再度表示，该公司新的纳米压印技术将为小型半导...……更多

2023-12-26 19:30:00佳能,光刻,日本,芯片,压印,佳能

2022年中国CMP抛光液市场规模现状及行业发展前景预测[图

...达到晶圆表面的高度（纳米级）平坦化效应，使下一步的光刻工艺得以进行。CMP抛光材料按照类别的不同可以分为抛光液，抛光垫，调节器，清洁剂等。其中占比最大的是抛光液，而在抛光研磨中用到的另一种关键耗材则是抛光...……更多

2023-01-06 06:00:00发展前景,抛光,中国,前景,现状,规模

无限期豁免！中美“芯战”迎终章？人民日报：放弃幻想

...赚”时代就被彻底打破了，而自诩为科技霸主的美国，也第一次深刻感受到了来自东方大国的竞争压力。按照正常逻辑，美国若想夺回通信话语权，就该加大研发投入，在核心技术方面与我们“真刀真枪”的较量。可它却不讲武...……更多

2024-01-12 15:03:00中美,人民日报,幻想,日报,人民,华为

华特气体：去年光刻气海外销售突破较大新型氟碳类气体、氢化物

《科创板日报》6月3日讯（记者吴旭光）“光刻气是公司的拳头产品，公司自主研发的Ar/F/Ne、Kr/Ne、Ar/Ne和Kr/F/Ne4种光刻气是国内唯一一家同时通过荷兰ASML公司和日本GIGAPHOTON株式会社认证的气体公司，已经销售并产生订单。”...……更多

2024-06-03 20:32:00氟碳,气体,氢化物,气海,光刻,氢化

美光将在1cnm节点率先引入euv光刻

...将扩展至8-9层。对于美光，其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程，ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩，NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多

2024-02-03 21:24:00光刻,节点,三星,世代,工艺,进一

中国机会｜阿斯麦中国区总裁：明年是半导体设备调整期，后年行业

...上绝大部分的芯片是成熟制程而非先进制程。日前，全球光刻机巨头ASML（阿斯麦）全球副总裁、中国区总裁沈波在第六届进博会上接受澎湃新闻记者独家采访时强调，成熟制程和先进制程同等重要，中国有条件把成熟制程做到...……更多

2023-11-08 09:29:00阿斯,中国,中国区,调整期,半导体,总裁

ASML 证实今年将向台积电交付价值 3.8 亿美元的高 N

... 5 日消息，ASML 已经向英特尔交付世界首台商用 High-NA EUV 光刻机并完成安装，英特尔院士马克・菲利普斯（Mark Phillips）确认这台机器将于年内正式启用。与之形成鲜明对比的是，全世界最大的芯片代工巨头台积电则似乎并不急...……更多

2024-06-06 09:11:00光刻,价值,光刻,英特,英特尔,孔径

安徽首片，晶合集成光刻掩模版成功亮相

...方消息，7 月 22 日，由晶合集成生产的安徽省首片半导体光刻掩模版成功亮相，填补了安徽省在该领域的空白，进一步提升本土半导体产业的竞争力。晶合集成表示，光刻掩模版成功亮相，标志着该公司在晶圆代工领域成为台积...……更多

2024-07-25 09:39:00合集,光刻,安徽,模版,成功,合集

通往万亿晶体管芯片，关键技术揭秘

...降低功耗的道路上，3条创新路径的重要性愈发凸显：1、光刻、材料与器件架构：引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步；新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多

2022-12-17 01:00晶体管,晶体,芯片,关键,技术

英特尔Intel 4 制程节点已大规模量产，性能大增

...上宣布了一则重要消息，该公司已于近日开始采用极紫外光刻（EUV）技术大规模量产Intel4制程节点。这一里程碑式的进展标志着英特尔在推进“四年五个制程节点”计划方面取得了重要成果，并将用于新一代的领先产品。英特尔...……更多

2023-10-15 22:19:00英特,大规,英特尔,制程,节点,大规模

英特尔与美国国防部深化合作，采用18A工艺生产芯片

...先进的芯片制造设备，名为高数值孔径极紫外 (high NA EUV) 光刻机。英特尔表示，这种设备可以简化设计流程，从而缩短芯片的制造时间。【来源：IT之家】返回搜狐，查看更多责任编辑： ……更多

2024-04-23 17:00:00美国国防部,英特,国防部,英特尔,美国,芯片

这个光刻机做的风扇，我试了发现真有点东西

不开玩笑，我们可能是国内第一个用上“光刻风扇”的媒体。不知道差友们还有没有印象，去年我们专门写过一篇文章，介绍了一家叫 Frore Systems 的硅谷创业公司，以及他们用光刻机造出来的散热芯片：AirJet Mini 。当时介绍完 A...……更多

2024-07-19 09:50:00光刻,风扇,东西,风扇,光刻,功耗

中科融合MEMS质量管控 | 持续提升MEMS微镜鲁棒性与耐

...lk micromachining2.Surface micromachiningBulk Micromachining是一种通过光刻/蚀刻等步骤在材料内部生成结构的方法，其典型代表为SOI制程，它的好处是，MEMS的材料性质与结构尺寸主要由使用的晶圆材料构成，因此拥有较低的原生应力（intr……更多

2023-12-19 14:00:00耐久性,质量,应力,制程,模态,芯片