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ASML研究超级NA光刻机!2036年冲击0.2nm工艺
...科技2月17日消息,ASML已经向Intel交付第一台高NA EUV极紫外光刻机,将用于2nm工艺以下芯片的制造,台积电、三星未来也会陆续接收,可直达1nm工艺左右。那么之后呢?消息称,ASML正在研究下一代Hyper NA(超级NA)光刻机,继续延续...……更多
近30亿元!ASML明年生产10台高NA EUV光刻机:Intel独吞6台
...麦将在2024年生产最多10台新一代高NA(数值孔径) EUV极紫外光刻机,其中Intel就定了多达6台。同时,三星星也在积极角逐新光刻机,台积电感觉压力巨大。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标,直接决定了光刻的实际分辨率,...……更多
英特尔将在未来冲击1nm工艺:基于新一代光刻机
...当长的距离,此外想要实现如此先进的工艺制程,采用EUV光刻机必不可少,而光刻机领域毫无疑问要依靠ASML。伴随着制程工艺的进步,光刻机的功耗也越来越高,据悉为了满足如此先进的制程工艺,ASML还要对光刻机进行更新换...……更多
成本超过3亿美元 荷兰ASML公司向Intel交付高数值孔径EUV光刻机
2023-12-24 15:41:15 作者:姚立伟近日,荷兰光刻机巨头ASML公司宣布优先向Intel公司交付其新型高数值孔径(High NA EUV)的极紫外光刻机。这种光刻机有助于计算机芯片制造商生产更小、更快的半导体产品。据了解,每台新机器的成...……更多
摩尔定律不死intel将冲击1nm工艺
...了,Intel4会在下半年的14代酷睿上首发,还会首次用上EUV光刻工艺。Intel3是Intel4的改良版,Intel20A及之后的18A则是重大升级,相当于友商的2nm、1.8nm节点,将在2024年上半年及下半年量产,2025年将重新夺回半导体工艺的领导地位。...……更多
通往万亿晶体管芯片,关键技术揭秘
...降低功耗的道路上,3条创新路径的重要性愈发凸显:1、光刻、材料与器件架构:引入更先进的High-NA EUV光刻机是显著提高光刻分辨率的下一步;新材料、器件架构创新提供了突破现有计算性能和成本瓶颈的更多可能。2、设计–...……更多
重大突破!芯片光刻胶关键技术被攻克:原材料全部国产 配方全自主设计
...,该校武汉光电国家研究中心团队,在国内率先攻克合成光刻胶所需的原料和配方,助推我国芯片制造关键原材料突破瓶颈。据介绍,其研发的T150A光刻胶系列产品,已通过半导体工艺量产验证,实现了原材料全部国产,配方全...……更多
魏大程团队设计了一种新型功能型光刻胶
...物分子工程国家重点实验室魏大程团队设计了一种功能型光刻胶,利用光刻技术在全画幅尺寸芯片上集成了2700万个有机晶体管并实现了互连,集成度达到特大规模集成度(ultra-large-scaleintegration,ULSI)水平。2024年7月4日,该成果...……更多
荷兰禁止ASML在华DUV设备售后维护?
尽管中国国内一直都没有获得荷兰ASML的高端光刻机,比如EUV光刻机,但是大量半导体制造企业都还是购买了ASML的DUV光刻机。而且在今年禁令实现之前,ASML各类型的DUV光刻机,几乎都销往了国内。所以从这个角度而言,国内半...……更多
光子芯片迈出重要的一步,中国芯片绕开EUV光刻机将成真
...可能就是铌酸锂。铌酸锂如此重要,但是将铌酸锂制造成光刻机可用的晶圆却面临不少的难题,中国各个机构就一直为此努力,2019年南开大学解决了铌酸锂微加工的世界难题,2023年上海微系统所成功制备了6英寸的铌酸锂晶片--...……更多
抢光刻机、截客户,三大芯片巨头缠斗2nm丨知料
...完,市场端的竞争已经提前开始,近期,三家公司关于抢光刻机、截胡客户、挖角的信息也都不绝于耳。此前有外媒称,三星拿出2nm原型向英伟达在内的行业客户展示,还开出折扣价,并且已经斩获高通。高通计划下一代高端手...……更多
不用光刻机,如何制造5nm芯片?
...儿又有大新闻了。佳能搞出了个新的芯片制造设备,不用光刻技术,就能造 5nm 的芯片。而且说是再优化优化, 2nm 制程也不是啥大问题。这可先把一众网友们搞懵圈儿了,佳能怎么不好好造相机,跑出来搞造芯片的机器了?并...……更多
英特尔组装完成全球最先进的EUV光刻系统
...已经完成全球首台商用High Numerical Aperture Extreme Ultraviolet光刻扫描仪的组装,实现了芯片制造行业的一个重要里程碑。这是一个令人费解的名字,据说是有史以来最先进的半导体制造设备,将比当前处理器更先进、更强大的未来...……更多
ASML新增订单少一半,EUV光刻机失宠了?
...价,反而想涨价3%-5%。ASML想涨价的原因,也很简单。新增光刻机订单量下滑,储备订单持续减少,为了保证营收和利润,在订单持续减少的情况下,涨价就是最好的办法。要知道,EUV光刻机可是当下最先进的设备之一,只有ASML...……更多
...将扩展至8-9层。对于美光,其也将在1γnm节点首次导入EUV光刻。展望未来10nm以下制程,ChoiJeong-dong表示三大厂商均在研究3DDRAM和4F2 DRAM等路线以实现进一步微缩,NeoSemiconductor提出的X-DRAM以及不采用电容器的1TDRAM等也是可能方向。 ……更多
首先得有,28nm/65nm突破为何被工信部列为“重大技术”
从0到1,国产光刻机寻光之旅民众热切期盼国产光刻机技术取得突破,这一愿望源于对国产芯片摆脱外部制约的强烈渴望。对于这一现代半导体工业集大成的领域,国产光刻机究竟走到哪一步了?“在西方技术层层封锁下,国产...……更多
韩国顺从导致光刻机蒙尘,日本却大赚特赚,反省后计划卖给中国
在之前的日子里,日本大举对中国出售二手光刻机等设备而赚取了大量金钱,韩国却顺从了美国的要求,导致诸多二手光刻机等设备蒙尘,近期有消息指韩国的三星和SK海力士计划将这些二手光刻机等设备对中国销售。在过去数...……更多
不可一世的ASML急了
...去两年,伴随芯片的短缺、对华禁令等一系列重大事件,光刻机从一种不为人知的先进制造设备,一跃成为了大众的新闻热点。在这当中,荷兰光刻机厂商 ASML 几乎是绕不开的存在。原因并不复杂,因为 ASML 是全球唯一一家有能...……更多
纳米压印迎曙光,有望取代传统光刻技术!市场规模将达33亿美元
...)、苏大维格(300331.SZ)等个股纷纷跟涨。或将取代现有光刻技术据了解,纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术。该技术通过机械转移的手段,达到超高的分辨率,有望在未来取代传统光刻技术,成为微电子、材料领域的重...……更多
中国不买了,三大光刻机企业都降低预期,后悔莫及
日前全球三大光刻机企业ASML、尼康、佳能都发布了业绩无法达到年初预计的目标,原因就在于中国在减少采购光刻机,凸显出中国市场对全球芯片设备市场的巨大影响力。全球最大的光刻机企业ASML最为悲观,ASML的新增订单环...……更多
光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停 【光刻机概念股快速拉升 张江高科冲击涨停】财联社10月10日电,光刻机概念股盘中拉升,张江高科冲击涨停,蓝英装备、波长光电涨超5%,富乐德、京华激光、苏大维格等跟涨。 ……更多
三星2nm制程将增加30%的EUV光刻层
...比,明年即将量产三星2nm制程将会多出30%的极紫外(EUV)光刻层。三星于2018 年首次开始在其 7nm 逻辑制程工艺节点上开始应用 EUV,从那时起,随着迁移到5nm,再到3nm,三星在芯片生产过程中的EUV光刻层的数量或EUV工艺步骤的数...……更多
苹果再次舍弃3纳米,对ASML是沉重打击,ASML得靠中国救命了
...的打击,也是对ASML的打击,意味着ASML更先进的第二代EUV光刻机可能面临着没有太大需求的问题。一、ASML的愿望ASML当前的主要利润来源是第一代EUV光刻机,但是这一代EUV光刻机只有Intel、三星和台积电三家客户,而这三家客户当...……更多
光刻机“基石”技术成功突破!我国距摆脱“卡脖子”,还有多远?
...工业制造领域还有什么求而不得的东西,大概就是高端的光刻机了吧。然而好消息是,被称为光刻机“基石”的减振器,近日已被我国工程院院士成功突破,彻底打破了被国外“卡脖子”的局面。据说这套减振器,是中国工程院...……更多
强震后,日本半导体该走向何方?
...动作频繁:新成立的晶圆厂Rapidus积极推进2nm晶圆代工,光刻胶龙头JSR将被JIC所收购,东芝退市前有诸多本土和外资竞购;同时积极引进台积电、力积电等晶圆代工厂在日本建厂等。这些事件背后都少不了日本官方机构推动的身...……更多
清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机 【清溢光电:佛山生产基地项目将适时考虑引入电子束光刻机】财联社10月18日电,清溢光电接受机构调研时表示,半导体芯片掩膜版技术方面,公司已实现180nm工艺节...……更多
不畏霸权,我国或将通过硅光子技术摆脱EUV光刻机,解决芯片难题
一直以来,我国因为没有EUV光刻机,而没办法生产先进的芯片,但是我们并没有坐以待毙,也不会向霸权低头,而是另辟蹊径,用更先进的技术解决芯片制造的难题。最新消息透露,我国或将通过硅光子技术淘汰EUV光刻机,解...……更多
台积电或2030年才采用High-NA EUV光刻机
去年末,ASML向英特尔交付了业界首台High-NAEUV光刻机。这是具有高数值孔径(High-NA)和每小时生产超过200片晶圆的极紫外光(EUV)大批量生产系统,提供0.55数值孔径,与此前配备0.33数值孔径透镜的EUV系统相比,精度会有所提高...……更多
ASML:从飞利浦弃儿到光刻之王
陈永伟/文近日,荷兰光刻机巨头ASML宣布:其联席总裁兼首席执行官皮特·温宁克 (PeterWennink)及联席总裁兼首席技术官马丁·范登布林克(Mar-tinvandenBrink)将于 2024年4月24日退休。现任首席商务官兼管理委员会成员克里斯托弗·...……更多
第一次EUV极紫外光刻!Intel 4工艺官宣大规模量产
Intel官方宣布,已经开始采用EUV极紫外光刻技术,大规模量产Intel4制造工艺。这是Intel首个采用EUV生产的制程节点,对比前代在性能、能效、晶体管密度方面均实现了显著提升。Intel4工艺首发用于代号MeteorLake的酷睿Ultra处理器,...……更多
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编辑:黄灵责编:廖异 审核:阮鹏程
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