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盛美上海首台前道arf工艺涂胶显影track设备成功出机
盛美上海宣布，首台具有自主知识产权的涂胶显影Track设备UltraLITH成功出机，顺利向中国国内客户交付首台前道ArF工艺涂胶显影Track设备，该设备由盛美半导体设备(亚太)制造中心完成出货。
盛美上海将于2023年推出i-line型号设备，并且公司已开始着手研发KrF型号设备。
涂胶显影Track设备
涂胶显影Track设备支持光刻工艺，可确保满足工艺要求，同时让晶圆在光刻设备中曝光前后的涂胶和显影步骤得到优化。
盛美上海涂胶显影Track设备是一款应用于300毫米晶圆工艺的设备，共有4个适用于12英寸晶圆的装载口，8个涂胶腔体、8个显影腔体。该设备腔体温度可精准控制在23°C±0.1°C，烘烤范围为50°C至250°C，晶圆破损率低于1/50,000。此外，全球专利申请保护的全新结构设计还可拓展支持12个涂胶腔体及12个显影腔体，每小时晶圆产能可达300片，将来在配备更多的涂胶和显影腔体的条件下还能达到每小时400片以上的产能。
盛美上海致力打造晶圆级的工艺解决方案平台，旗下产品还包括单晶圆及槽式湿法清洗设备、电镀设备、无应力抛光设备、立式炉管设备，及PECVD设备。
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快照生成时间：2022-12-30 22:45:06
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