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近日,上海微电子装备(集团)股份有限公司中标步进扫描式光刻机项目,中标金额约1.09亿元。据此前公告,招标方为科学技术部。企查查信息显示,该公司成立于2002年,经营范围包含:半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务等,由上海电气控股集团有限公司、张江高科(600895)全资子公司上海张江浩成创业投资有限公司等共同持股。据了解,步进扫描光刻是一种混合光刻技术,结合了扫描投影光刻和分步重复光刻的优势。该技术通过动态扫描方式同步移动掩膜版和晶圆,标准曝光尺寸为26mm×33mm,可增大曝光场并一次曝光多个芯片,其具备整个扫描过程的实时聚焦调节能力,适用于0.25μm以下的制造工艺,尤其在0.18μm节点及更先进工艺中广泛应用。




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快照生成时间:2025-12-26 05:45:08
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