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拓荆创益申请一种蝶阀及薄膜沉积设备专利，延长蝶阀使用时间
金融界2025年4月5日消息，国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司申请一项名为“一种蝶阀及薄膜沉积设备”的专利，公开号 CN 119755337 A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明提供一种蝶阀及薄膜沉积设备，蝶阀包括阀体、阀板和清洁件，阀体设有通道；阀板位于通道内且与阀体转动连接，阀板用于打开或关闭通道；清洁件与阀板连接，清洁件沿阀体的内壁的周向延伸设置，且倾斜环设在阀板的外侧；其中，启动自清洁功能时，转动阀板，以带动清洁件紧贴阀体的内壁转动。本申请通过在阀板的外侧倾斜环设有清洁件，阀板转动以带动清洁件紧贴阀体内壁转动此时清洁件作为刮板结构，将阀体内壁堆积的杂质刮蹭掉；同时将清洁件沿阀体的周向紧贴阀体内壁设置时，清洁件作为挡板结构，使杂质附着在清洁件上；通过清洁件以解决蝶阀内部表面的沉积脏污问题，延长蝶阀的使用时间，避免频繁维护，从而提高薄膜沉积设备的生产时间。
天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本50000万人民币，实缴资本36168.02万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目12次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息263条，此外企业还拥有行政许可10个。
本文源自：金融界
作者：情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端
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快照生成时间：2025-04-05 17:45:04
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