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美迪凯申请双面阵列图形镀膜光学玻璃基板制备工艺专利，使图案形态更为精确
金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司申请一项名为“双面阵列图形镀膜光学玻璃基板制备工艺”的专利，公开号 CN 119310803 A，申请日期为 2024 年 8 月。
专利摘要显示，本发明公开了一种双面阵列图形镀膜光学玻璃基板制备工艺。本发明曝光时使用了双面低反射玻璃作为厚玻璃基板下层的垫板，防止反射光线干扰曝光图案形态，使图案形态更为精确；本发明采用声波脱胶这一手段进行脱胶，将超声波清洗与去胶液浸泡脱胶相结合，使脱胶效果更好，脱胶时间缩短，图案形貌更好；本发明旋涂光刻胶过程结合夹具涂胶，方便进行方形基板的中心定位，在基板上有无透光膜层的状态下，均可以保证基板中心与平台中心重合，防止基板因水平方向受力不均而导致的产品损坏，且既保证胶厚均匀性一致，又可以减少光刻胶的用量。
天眼查资料显示，美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司，成立于2021年，位于嘉兴市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1200万美元，实缴资本1200万美元。通过天眼查大数据分析，美迪凯（浙江）智能光电科技有限公司参与招投标项目1次，专利信息27条，此外企业还拥有行政许可1个。
本文源自：金融界
作者：情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端
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快照生成时间：2025-01-18 11:45:01
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