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3月12日消息,据韩媒ZDNetKorea报道,行业标准制定组织JEDEC固态技术协会有望放宽对HBM4内存的高度限制,内存厂商无需被迫转向混合键合。
作为对DRAM进行3D堆叠的产品,z轴封装高度限制对HBM内存有着很大影响。目前HBM内存最大DRAM堆叠层数为12层,允许的最大厚度为720微米(IT之家注:微米即µm,10-6米)。
在3D堆叠技术方面,目前SK海力士在HBM上采用MR-RUF工艺,三星电子则使用TCNCF路线,两者的共同之处在于使用凸块实现层层连接。
三星宣称在其近期推出的HBM3E12H产品上,通过对NCF材料的优化,芯片之间的间隙已降低至7微米。
不过未来HBM4内存将提升至最多16层,在DRAM芯片本身的总厚度进一步提升的背景下,凸块厚度开销成为重要问题。
业界有看法认为,若HBM4保持720微米最大厚度不变,则无法使用传统技术实现16层DRAM堆叠。
而混合键合技术无需凸块,让各DRAM层间更致密,可降低DRAM堆叠高度。但混合键合在HBM内存中相对传统方案过于昂贵,且尚未成熟,因此内存厂商尽可能避免使用此技术。
▲采用TC键合和混合键合的HBM内存对比。图源XPERI
据ZDNetKorea称,JEDEC主要参与方已同意放宽HBM4高度限制至775微米,这意味着各大内存厂商可在HBM4上继续沿用现有路线,为混合键合HBM内存的商业化留出更多时间。
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快照生成时间:2024-03-13 09:45:10
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