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英特尔副总裁:Intel 4 工艺良率高于预期

类别:科技 发布时间:2023-08-23 22:27:00 来源:浅语科技

在当地时间22日在马来西亚槟城举行的集体采访中,英特尔逻辑开发副总裁WilliamGrimm表示Intel4 制程(注:原7nm)的良率高于预期,他对此充满信心。

Intel4是英特尔工艺中首次应用极紫外光(EUV)的工艺。根据ICKnowledge提供的逆向工程数据,Intel4工艺的性能优于台积电5nm,接近3nm工艺,但William坚持“很难将Intel4与其他代工厂的现有节点进行比较,所以只是参考外部基准测试执行了自己的PPA”。

“通过EUV,我们可以控制工艺复杂性”,“我们成功收获得了比预期更高的产量”,他说道。

WilliamGrimm介绍称,Intel4节点是一个特别注重能源效率的工艺。“如果说Intel7工艺是专注于性能最大化的工艺,那么Intel4则专注于提高能效”,“它更适合笔记本电脑等应用”。

它还表示,“(EUV产能)已经有足够的保障来满足市场需求”,并且“未来几年的计划,比如Intel3已经确定了”。

英特尔副总裁:Intel 4 工艺良率高于预期

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