我们正处于一个信息大暴发的时代,每天都能产生数以百万计的新闻资讯!
虽然有大数据推荐,但面对海量数据,通过我们的调研发现,在一个小时的时间里,您通常无法真正有效地获取您感兴趣的资讯!
头条新闻资讯订阅,旨在帮助您收集感兴趣的资讯内容,并且在第一时间通知到您。可以有效节约您获取资讯的时间,避免错过一些关键信息。
快科技4月29日消息,台积电业务开发资深副总裁张晓强对外表示,台积电A14制程不采用High-NA EUV技术。
据悉,台积电A14制程不引入High-NA EUV光刻技术,仍然坚持使用原有的EUV光刻设备,台积电相信,即便没有High-NA EUV光刻设备,A14制程依然可以实现性能、密度、良品率等目标。
资料显示,A14是台积电的下一世代制程技术,这是台积电1.4nm级半导体工程,其表现明显超越当前已经商用的3nm工艺和即将商用的2nm工艺。
台积电公布的数据显示,与N2工艺(2nm)相比,A14在相同功耗下实现高达15%的速度提升,或在相同速度下降低高达30%的功耗,同时逻辑密度将提升20%以上。
按照台积电的计划,A14计划于2028年投产,除了A14,台积电还规划了A14P、A14X、A14C等多种衍生版本。
【本文结束】如需转载请务必注明出处:快科技
责任编辑:振亭
文章内容举报
以上内容为资讯信息快照,由td.fyun.cc爬虫进行采集并收录,本站未对信息做任何修改,信息内容不代表本站立场。
快照生成时间:2025-04-29 17:45:06
本站信息快照查询为非营利公共服务,如有侵权请联系我们进行删除。
信息原文地址: