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三星电子开发出透光率达88%的euv薄膜
1月15日消息，光罩护膜/薄膜是极紫外(EUV)光刻工艺中的关键部件，指的是在光罩上展开的一层薄膜，然后用机器在上面绘制要在晶圆上压印的电路，旨在使光罩免受空气中微尘或挥发性气体的污染并减少光掩模损坏，该领域目前仍由荷兰ASML、日本三井化学主导，而韩国S&STech等后来居上者也是主要供应商之一。
韩媒ETNews报道称，三星电子已经自主开发出了透光率高达88%的EUV薄膜，有助于实现供应链多元化和稳定。据证实，这款透光率88%的EUV薄膜产品已经可以大规模生产。
获悉，三星电子在去年的2021FoundryForum上宣布自研EUV薄膜，当时还公开宣布他们开发出了82%透光率薄膜技术，并宣布到2022年将拥有88%透光率的量产系统。
值得一提的是，韩国公司S&STech在2021年生产成功开发出了透光率达90%的半导体EUV薄膜，一举成为除了ASML之外另一家成功开发出了透光率超过90%的EUV薄膜的公司。据称，三星对它的要求是将比率提高到94%。
业界预测，今年EUV薄膜的需求将比去年增加近2倍，而韩国国产的EUV薄膜最早将会在1~2年内商用化。此外，台积电也正在加快开发自己的产品以确保EUV薄膜可控。
▲ ASML曝光过程图
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快照生成时间：2023-01-16 05:45:36
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