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上海华力微电子取得立式炉管装置专利,降低炉管内晶圆膜厚差异性

类别:财经 发布时间:2024-12-23 15:03:00 来源:瘦子财经

金融界2024年12月23日消息,国家知识产权局信息显示,上海华力微电子有限公司取得一项名为“立式炉管装置”的专利,授权公告号CN 222182428 U,申请日期为2024年4月。

专利摘要显示,本实用新型提供了一种立式炉管装置,包括:外管,外管的一端封闭,外管的另一端开放;第一内管,第一内管的两端均开放,外管将第一内管罩设在内;第二内管,第二内管的两端均开放,第一内管套设于第二内管的外周,且第一内管的内周和第二内管的外周之间形成夹层空间,第二内管的轴向不同位置处设有孔洞;晶舟,其用于承载晶圆;底座,晶舟支撑在底座上,底座用于将晶舟送入第二内管中,并将外管开放的一端封闭。本实用新型通过第一内管和第二内管的设置,均匀了炉管内各处的反应气体浓度,从而降低了炉管内所有晶圆的膜厚差异性,并改善了单个晶圆的膜厚均一性,保证了产品性能的一致性,提高了产品良率,降低了报废率,进而节省了生产成本。

本文源自:金融界

作者:情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端

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快照生成时间:2024-12-23 17:45:05

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信息原文地址:

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