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上海韦尔半导体取得一种 MOSFET 版图及 MOSFET 器件专利,调节实际沟槽栅极的电压

类别:财经 发布时间:2025-04-19 20:46:00 来源:瘦子财经

金融界 2025 年 4 月 19 日消息,国家知识产权局信息显示,上海韦尔半导体股份有限公司取得一项名为“一种 MOSFET 版图及 MOSFET 器件”的专利,授权公告号 CN222776520U,申请日期为 2024 年 6 月。

专利摘要显示,本申请提供了一种 MOSFET 版图及 MOSFET 器件,本申请在第三栅极金属连接区设置有栅极电阻调节区,可以通过版图结构优化,调节不同沟槽栅极多晶硅分压,从而调节实际沟槽栅极的电压。

天眼查资料显示,上海韦尔半导体股份有限公司,成立于2007年,位于上海市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本121442.6982万人民币。通过天眼查大数据分析,上海韦尔半导体股份有限公司共对外投资了44家企业,参与招投标项目10次,财产线索方面有商标信息23条,专利信息187条,此外企业还拥有行政许可13个。

本文源自:金融界

作者:情报员/阅读下一篇/返回网易首页下载网易新闻客户端

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快照生成时间:2025-04-19 23:45:05

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