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12月12日消息,今天早些时候,纽约州长凯西・霍楚尔(KathyHochul)宣布与IBM、美光、应用材料、东京电子(东京威力科创)等半导体巨头达成合作,投资100亿美元(IT之家备注:当前约718亿元人民币)在纽约州AlbanyNanoTechComplex建设下一代High-NAEUV半导体研发中心。
▲图源:IBM
根据声明,负责协调该设施建设的非营利性机构NYCreates将利用10亿美元州政府资金向ASML采购TWINSCANEXE:5200光刻机。
纽约州表示,一旦机器安装完毕,该项目及其合作伙伴将开始研究下一代芯片制造。官方声明指出,该项目将创造700个工作岗位,并带来至少90亿美元的私人投资。
此外,官方还强调,这将是北美第一个也是唯一一个拥有High-NAEUV光刻系统的公有研发中心,将为开发和生产2nm节点甚至更先进的芯片铺平道路。
▲图源:IBM
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快照生成时间:2023-12-13 16:47:02
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